JPS58215399A - オフセツトマスタ−用親水化処理液 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はオフセットマスター用親水化処理孜ニ関する。

特に本発明は電子写真法によるオフセットマスター用親
水化処理液の改良に関する。

電子写真法によるオフセットマスター感林ハ、金属、プ
ラスチック、特殊加工された紙等の支片体上に、酸化亜
鉛等の光導電性粉末とシリコン樹脂、アクリル樹脂、ア
ルキッド樹脂等の倒胆状給合剤と溶媒との混線分散液を
塗曲、乾燥して得られる。電子写真法は該感材に一様の
電荷を付与する「帯電」、画像状に電荷を残すための「
光、９元」、絶縁性石油系媒体とコロイド分散された、
を儒１ｆｉｊ！王荷電粒子より成る分散！（湿式現像〈
１１とよはでしろ）中に＆債する「現１蛛」、熱により
石γ田系・薇体を蒸発し、感脂性荷電粒子の感材上への
同定を団子「足着」という一連の工程より成る。

また、湿式現像の他に、乾式机像人もある。−例として
マグネットブラシ法について説明する。

カーボンブラック等の顔料、熱可塑性樹脂、荷電改良剤
寺を混練、微粉砕してトナーとし、これと鉄粉と混合し
たものを、丸棒に適当に配列させた礎石に吸引させて、
上記混合物を刷子状態にする。

この先端を光露光を終えた感材に軽（接触させトナーを
静電的に画像状に付着せしめ現１象を行なう。

次いで、これを全面加熱して「定着」する。一般に乾式
現像は湿式現像よりも画像の定着性が良いので耐刷力も
高く、製版機を安価でメンテナンスも容易だが、現１象
剤の粒子の大きさ、現塚方法等に起因する特性のために
、湿式現像を用いた製版機によるマスターからの印刷物
に比較して、カブリ、細線及び網点再現性等、印刷品質
の面でダ段劣ろのか現状である。現在市販さね、でいろ
千版城のほとんどが湿式法を採用しており乾式法による
ものは極めて少ない。

この様にして得られたオフセットマスターは非画像部を
化学的に親水化処理を行ない、画像部である感脂性粒子
域の親油ａｓ分のみ印刷インキを受容する様にする、す
なわち親水化処理によりはじめて親油性−親水性の区別
が生じろ訳である。

親水化処理液に具備されるべき特性として、自動印刷機
に内装されている親水化処理機の珠に処理時間が極めて
短時間でかつくり返し処理が困ｔ１な場合でも、光分な
親水化が行なわれ印刷物に坤汚れを生じないこと、連続
処理によっても親水化処理の能力が低下しないこと、光
及び熱に対し長期間安定で沈殿の発生がな（、印刷性能
上の劣化がないこと、処理液を希釈し印刷中に湿し水と
して使用でる場合、希釈する水の割合を変化させても、
印ル」性能を普く維持できろ上元分な肩仙」力を得られ
ること、更に種々の湿し水方式を有する市販の該オフセ
ットマスター用印刷概及び現（嶌方式や現像剤成分の異
なる市販製版機による高画値のマスターのすべてに使用
できろこと等である。

現在市販されている同目的の処理液、あるいに従来より
提案されている多（の処方に２いても、上記の如き要求
を完全［歯た１親水化処理液に覧めてまれである。

本発明の目的は従来の欠点を改良し上記要求に光分応え
得る種々の特性に対し７２ランスがとれろと共に沈殿防
止効果の改良された親水化処理液を提供するにおる。

即ち本発明は、ヘキサシアノ鉄酸塩、リン酸塩及びキレ
ート剤を含むことを特徴とする電子与真法によるオフセ
ットマスター用親水化処理液であって、更に所望により
、親水性高分子物質、アルコール類、及び防腐４ｊの一
種またにそれ以上を含有することかできる。

不発明による親水化のメカニズムは全て解明された訳で
はないが、感光層中の非画像部領域におけろ酸化亜鉛が
ヘキサシアノ鉄改塩、リン酸塩と反応して親水性でかつ
水不溶性のｗＪ質層を生成するものと考えられる。親水
性層は印刷中に徐々に侵されるので親水化処理液を水道
水でｔｚ＋？１ｖｔＣ８釈して湿し水とし、侵されつつ
ある魁７！（社偵を地汚れやカラミの生じない親水注状
餅にｅＬず保有してやらねはならない。この様に親水化
処理ｇ、は嫉。

水化処理の工程のみでな（、通常親水化処理液を希釈し
て用いられる湿し水としての能力も考覗して設計されな
ければならない。

次に、不発明の親水化処理液の各成分について説明する
。

れろフェリシアン酸塩でＭ　およびＭ′１はＮａ、Ｋ。

Ｂａ、　Ｃｕ（Ｉｌｌ、　Ｍｒｉ＆工Ａｔ等であり、親
水化処理液中で安定な塩類は使用できる。特にフェロシ
アン化ナトリウム、フェロシアン化カリウム、フェリシ
アン化ナトリウム、フェリシアン化カリウムか代表的。

処理液中の塩一度は１９７ｔ〜１００．９／ｚ柿に５９
／ｌ〜５０９．／ｌの範囲が好ましい。またこの両度範
囲内で２種以上の塩類を混合して用し・ろ事も可能であ
る。

リン酸塩はＮａＨ２ＰＯ４，Ｎａ２ＨＰＯ４，ＫＨ２Ｐ
Ｏ４゜Ｋ　）ＩＰＯ、ＮＨＨＰＯ、（ＮＨ）　ＨＰＯ等
のリン酸２４４２４　　　　　４２４ のアルカリ金属又はアンモニウム塩等であって、処理液
中の塩濃度は２９７ｔ〜５００　ｇｅｔ、特に好ましく
は１０　ｇｅｔ　〜２５０９／ｌの範囲である。なお、
上記リン酸塩は単独であっても２種以上混合して使用し
てもよい。

キレート剤に特公昭４６−２１２４４に開示された如く
、ヘキサシアノ鉄酸塩は、保存中もしくは使用中光又は
熱の作用を受は青緑色の沈殿を生じ親水化に必要なイオ
ン成分が失なわれる。キレート剤の添加によって各イオ
ンは平衡を保合できるので、沈殿の生成が防けられ、親
水化能力が商（維持できるのである。キレート剤として
は将にアミノカルボン酸系が有効であり、他にホスホン
酸系あるいは効力は若干低いものの前記多ｍ−Ｍ注有慨
酸塩の一部も千レート剤として作用することは衆知であ
る。キレート剤の逍箪の姫卯により、沈殿の防止効果に
飛−Ｂ区に改良される。

本発明で用いら几るキレート剤の具俸匁」はトランス−
シクロヘキサンジアミンテトラ酢酸、ジアミノプロパノ
ールテトラ酢酸、ジエチレントリアミ７−’？メンタ酸
、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジアミノプロパンテト
ラ酢酸、イミノジ酢酸、ニトリロトリ酢酸、ニトリロト
リス（メチレンホスホン酸）等々のナトリウム、カリウ
ム、アンモニウム塩などがあり、処理液中の５濃度は０
．０１ｇ／’ｔ〜２０９／を好ましくは０．１＆、／ｌ
〜４ｇ／ｌの範囲である。性能及び価格の点がら特ンこ
エチレンジアミンテトラ酢酸のナトリウム、カリウム、
アンモニウム塩等が好ましい。

以上は本発明の親水化処理液の主成分であって、目的や
オフセットマスターの＆［％によりｍＭ組合セて用いら
れる。

不発明の親水化処理液に上記の主成分の他に、所望によ
り、親水性高分子物質、アルコール類、及び防祁創の少
くとも一種を官有することｈ・できる。

栽水江尚分子吻貿は特公昭４０−１０３０８；ｃ開示さ
れている如（、水除性で條護コロイド江を有し、卸、水
性層の保詐、補強の効果をなすものである。

本発明に用いられる親水性高分子物質としてに、アラビ
アゴム、アルギン酸ナトリウ六、カルボキシルメチルセ
ルロース又はそのナトリウム塩、ポリアクリル酸、ポリ
メタクリル酸、又はそｒ等のナトリウム塩、及びアンモ
ニウム塩等で処理液中の湿度ｋｉｃＪ、１１１／ｌ〜５
０９／ｌ、好ましくは０．５９７ｔ〜５９／Ｌの範囲で
２棹以上の混合便用も可。特にアラビアゴム、カルボキ
シメチルセルロース又はそのナトリウム塩が適当である
。

アルコール類とは特公昭ろ９−１３７０２不又中に示さ
れろが、処理液の表面走力を低下さセ、温れを艮くτろ
浜喘匁果を有し、エタノール、イソプロピルアルコール
の如き１価のアルコールの入ナラスグリセリン、エチレ
ングリコール等σ）多価アルコールも使用し得ろもので
ある。こｎ等に後に示す如く、ある種の防１騎前を処理
、色ＶｒＣ添力１ｆｌ−。

ろ際の助溶媒として使用することかできろ。処理液中の
濃度は０，５１／ｌ〜８０　ｇｅｔ、好ましくは’＋９
／Ｌ〜４０ｇ／Ｌの範囲である。符にイソプロピルアル
コール又はグリセリンが適当である。

防腐剤に印刷中湿し水として使用している時、特にモル
トンタイプの湿し水装置を有する印刷機の著し水皿に発
生し、繁殖する餠防ぐためのものである。

本発明で用いられる防腐剤の具体例としてはホルマリン
、フェノール、デヒドロ酢酸、安息香酸エステル、特願
昭５６−１４２０２１記載のろ−イソチアゾロン化合物
等があり、処理液中の６＝ｉは０．００１Ｒ／ｌ〜１０
９／ｌ、好ましくは０．０１ｇ／ｌ〜’＃／ｌの範囲で
ある。なかでもフェノール又は６−インチアゾロン化合
物が適当であるが特に６−インチアゾロン化合物（１他
の防腐剤に比較して少量で効果が得られるので、安全衛
生上からも好ましい。また３−イソチアゾロン化合物を
加えるに際し前述の如（アルコール類の一部を溶媒とし
て用いることもできる。

以上の如（、不発明は、実用に充分な親水化の強さと速
さとを得ると同時に経時・環境保存性、使用Ｍ時特性、
及び湿し水の性能等を悌めてバランスよく改良したもの
である。すなわち、本発明は比較的耐刷力の弱いとされ
る製版機システムにより得られたマスターの場合には充
分その性能を発押し、加えて乾式製版機システムの様に
強固に定着された感脂性粒子画像を有するマスターにお
いても極めて使いやすい親水化処理液である。

本発明の親水化処理液は実用上極めて使いや丁（、自然
経時及び使用中においても長期間に！限って高い性能を
保ち続けろ。更に稀釈して湿し累として使用した場合に
おいても、湿し水の量やインキの量の変化にも適応しや
すくラチチュード論・ひろい。丁なわち地汚れが出にく
（、また、Ｉｆ］桑Ｊ機のローラーの感光化（ローラー
ストリッピング）が起きに（い等の効果を有するもので
ある。

なお、本発明の親水化処理′ｇ、は上述した如くｔ子写
真法によるオフセットマスター用として好カクに用いら
れるが、これらの感材に手書きしたものをオフセットマ
スターとして用いろ場合千、修正したものについても用
いろことができる。

以下、不発明を実施例にて詳しく説明するが、本発明は
これによつ℃拘束を受けろものではない。

実施例１ 以下の処方で調液した。

フェロシアン化ナトリウム　　　　　　　　　　１２．
２Ｊリン酸２水素１ナトリウム　　　　　　　　　　４
２．５　ｇエチレンジアミンテトラ酢酸２ナトリウム　
　　０．５４ｇ蒸留水で全体を　　　　　　　　　　　
　　１１０００ｒＲとする。これを全自動印刷機のエッ
チ液タンクに規定量大れ、更に湿し水として上記処方の
液を８倍に希釈した液を用いた。一方市販の電子写真製
版機によりオフセットマスターを得、オフセット印刷を
行なった。地汚れ及び版とひのない高品質の印刷物が得
られた。耐刷（１３０００枚以上であった。史に１日当
り１００版の処理を１力月吠けたところ、スタート時に
比較して残水化処理能力の低下は極めて僅がであった。

又自然経時による沈殿の発生に皆無であった。

実施例２ 次の処方で調液した。

フェロシアン化ナトリウム１５．４ｇ リン酸２アンモニウム　　　　　　　　　　　　　６２
．０９エチレンジアミンテトラ酢酸２アンモニウム　　
０．８６ｇカルボキシメチルセルロースのナトリウム塩
　　１２９グリセリン　　　　　　　　　　　　　　　
９５．５　ｇテヒド口酢酸　　　　　　　　　　　　　
　　　　　０．０５．９蒸留水で全体を　　　　　　　
　　　　　　１０００１［とする。実施例１と同様にし
てオフセット印刷を行なったところ、極めて刷りや丁（
、地汚れ夕版とびの出にくい高品質の印刷物が得られた
。

また１日当り１００版の、処理を１力月すけたところ親
水化処理並力の低下は他く僅かであった。

更に経時テストの結果６ケ月以上も沈殿の発生はなかっ
た。５０Ｃによる強制経時テストの結果に２５日以上で
あった。

比較例１ 実施例２においてエチレンジアミンテトラ計数２アンモ
ニウムを除外して調液しＰｔ　Ｖｇのテストを行った。

初期の品質については実施９１１２と変らないものの１
日当り１００版処理テストでに液の疲労が激しく１力月
後でレート、大、’ｌ’ｔｊ　ｆＡ’、　２　Ｆ７比・
＼て汚れか出やすく、刷りにくい状＝；１−ｃ声、−）
／。−０（ｆ時テストでは約５日間で青緑色沈ルをイ１
−じた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１１へキサシアノ鉄酸塩、リン酸のアルカリ金属塩又
   はアンモニウム塩、及びキレート剤を含むことを特徴と
   するオフセットマスター用親水化処理液。 （２）へキサシアノ鉄酸堰嬢度が１ｇ／ｌ〜１００１／
   ｌ、　　リン酸塩濃度が２１１／ｌ〜５００ｇ／ｌ、及
   びキレート剤濃度が０．０１９／ｌ〜２０９／ｌである
   特許請求の範囲第Ｈ１歩記載の隈水化処理液。 （３）へキサシアノ鉄酸塩、リン酸のアルカリ金属塩又
   はアンモニウム塩及びキレート☆１ヶ主成分とし、更に
   親水性高分子物佃、アルコール類、及び防腐剤の少くと
   も一種を含むことを特徴とするオフセットマスター用親
   、水化処理液。 （４）ヘキサシアノ酸塩濃度がｉ　ｙ／ｌ〜１００ｇ／
   　１　＋　　リン酸塩濃度が２９７ｔ〜５００ｇ／ｌ。 及びキレート剤濃度がｏ、ｏｉｇ／４〜２０ｇ／ｌであ
   る特許請求の範囲第（３）項記載の親水化処理液。