JPS5820894B2 - セキエイガラスブツタイノセイゾウホウホウ - Google Patents
セキエイガラスブツタイノセイゾウホウホウInfo
- Publication number
- JPS5820894B2 JPS5820894B2 JP50137683A JP13768375A JPS5820894B2 JP S5820894 B2 JPS5820894 B2 JP S5820894B2 JP 50137683 A JP50137683 A JP 50137683A JP 13768375 A JP13768375 A JP 13768375A JP S5820894 B2 JPS5820894 B2 JP S5820894B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- quartz glass
- heating
- heated
- furnace
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B32/00—Thermal after-treatment of glass products not provided for in groups C03B19/00, C03B25/00 - C03B31/00 or C03B37/00, e.g. crystallisation, eliminating gas inclusions or other impurities; Hot-pressing vitrified, non-porous, shaped glass products
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は融成物から延伸（ドローイング）によ；り石英
ガラス物体を製造する方法に関するものである。
ガラス物体を製造する方法に関するものである。
スイス国特許第５４０８５９号明細書により細長い融解
石英物体を連続的に製造する方法は既知である。
石英物体を連続的に製造する方法は既知である。
同方法においては、粒状二酸化珪素から成る出発物質を
加熱炉の上方部分内に所定供給速度で連続的に供給し、
出発物質を炉の上部加熱圏の水素４０〜６５容積％とヘ
リウム６０〜３５容積％の比の水素とヘリウムのガス雰
囲気中で２０５０℃以上の融解温度で連続的に融解し、
融解物質の温度を２０５０℃より低く維持しながら融解
物質の加熱を炉の下部圏内で別個の加熱装置により継続
し、融解物質を非酸化性担体ガス中に水素を含有する雰
囲気の存在下で炉の下部圏から成形装置により連続的に
引出す。
加熱炉の上方部分内に所定供給速度で連続的に供給し、
出発物質を炉の上部加熱圏の水素４０〜６５容積％とヘ
リウム６０〜３５容積％の比の水素とヘリウムのガス雰
囲気中で２０５０℃以上の融解温度で連続的に融解し、
融解物質の温度を２０５０℃より低く維持しながら融解
物質の加熱を炉の下部圏内で別個の加熱装置により継続
し、融解物質を非酸化性担体ガス中に水素を含有する雰
囲気の存在下で炉の下部圏から成形装置により連続的に
引出す。
同方法は以前の方法に依り製造した石英ガラスと比べ、
内蔵されるガス気泡数が著しく少ない石英ガラスが得ら
れる。
内蔵されるガス気泡数が著しく少ない石英ガラスが得ら
れる。
内蔵されたガス気泡は延伸された製品の延伸方向の溝と
なる。
なる。
この為石英ガラスは例えば光学的必要条件を満たさなけ
ればな：らない電灯等の外筐として用いるのに若干不適
当となる。
ればな：らない電灯等の外筐として用いるのに若干不適
当となる。
同方法は融解石英ガラス内を容易に拡散し適当に融解石
英ガラス内に溶解し得るガスの雰囲気中で行なう為、得
られる製品は内蔵されたガス気泡が著しく少なく、また
寸法的に極めて安定１である。
英ガラス内に溶解し得るガスの雰囲気中で行なう為、得
られる製品は内蔵されたガス気泡が著しく少なく、また
寸法的に極めて安定１である。
本発明の１目的は石英ガラスから残存ガス気泡を無くし
、全くガス気泡を有しない石英ガラスを得るにある。
、全くガス気泡を有しない石英ガラスを得るにある。
これ等のガス気泡の生成は、融解温度で溶解されたガス
が延伸工程中の冷却により分離する為である。
が延伸工程中の冷却により分離する為である。
今や本発明者は、容易に拡散するガスの雰囲気内で延伸
した石英ガラス製品を、冷却後、真空中又は空気中で８
００〜１４００℃の温度で、選定温度２こ応じて数日（
８００℃）〜数分（１４００℃）の間で異なる時間加熱
し、然る後軟化範囲の温度で加熱し、これらの加熱はプ
ラズマバーナー以外の加熱器を用いて行なうと、残存ガ
ス気泡は最初の加熱で石英ガラスから拡散して抜は出し
て真空気孔を後に残し、これ等の真空気孔が一層高温の
第２の加熱で押し潰され、欠点のない高品質の製品を生
成することを見出した。
した石英ガラス製品を、冷却後、真空中又は空気中で８
００〜１４００℃の温度で、選定温度２こ応じて数日（
８００℃）〜数分（１４００℃）の間で異なる時間加熱
し、然る後軟化範囲の温度で加熱し、これらの加熱はプ
ラズマバーナー以外の加熱器を用いて行なうと、残存ガ
ス気泡は最初の加熱で石英ガラスから拡散して抜は出し
て真空気孔を後に残し、これ等の真空気孔が一層高温の
第２の加熱で押し潰され、欠点のない高品質の製品を生
成することを見出した。
従って本発明方法は、成形冷却後石英ガラス物体を第１
工程の加熱処理として空気中又は真空中で８００〜１４
００℃の範囲の選定温度に応じて数日（８００℃）〜数
分（１４００℃）加熱し、然る後第２工程の加熱処理と
して少なくとも１６００℃以上の温度で数分以内の時間
加熱し、これらの加熱をプラズマバーナー以外の加熱器
を用いて行うことを特徴とする。
工程の加熱処理として空気中又は真空中で８００〜１４
００℃の範囲の選定温度に応じて数日（８００℃）〜数
分（１４００℃）加熱し、然る後第２工程の加熱処理と
して少なくとも１６００℃以上の温度で数分以内の時間
加熱し、これらの加熱をプラズマバーナー以外の加熱器
を用いて行うことを特徴とする。
そして第１工程で石英ガラス物品を８００〜１４００℃
に加熱する理由は、１４００℃より高い温度に加熱する
と、冷却中に形成された気泡中のガスがガラス成形体か
ら拡散除去されず、再び溶解してしまい、一方８００℃
より低い温度で加熱すると技術的）こ十分な拡散速度が
得られずいずれの場合もヘリウムと水素の内蔵ガスを除
去することができないからである。
に加熱する理由は、１４００℃より高い温度に加熱する
と、冷却中に形成された気泡中のガスがガラス成形体か
ら拡散除去されず、再び溶解してしまい、一方８００℃
より低い温度で加熱すると技術的）こ十分な拡散速度が
得られずいずれの場合もヘリウムと水素の内蔵ガスを除
去することができないからである。
８００〜１４００℃の温度に加熱した場合には内蔵ガス
は拡散除去され、真空気孔（空孔）が残る。
は拡散除去され、真空気孔（空孔）が残る。
この空孔はガスが内蔵された際の大きさと同じで、尚ガ
ラスは光学的に透明度が劣る。
ラスは光学的に透明度が劣る。
また次に第２工程で１６００℃以上の温度で加熱する理
由）ま、この加熱により前記真空気孔が消失し光学的に
透明になるからであり、一方８００〜１４００℃の加熱
を行わずに、１６００℃の加熱だけを行ったのではヘリ
ウムと水素は拡散除去されず逆にガス中に溶解する。
由）ま、この加熱により前記真空気孔が消失し光学的に
透明になるからであり、一方８００〜１４００℃の加熱
を行わずに、１６００℃の加熱だけを行ったのではヘリ
ウムと水素は拡散除去されず逆にガス中に溶解する。
次に本発明の方法により細長い石英ガラス管を製造する
一例を示す。
一例を示す。
石英炉から延伸により外径１５ｍ７１Ｌ、内径１：３Ｊ
７！Ｗの細長い石英ガラス管を製造した。
７！Ｗの細長い石英ガラス管を製造した。
得られた石英ガラス管から、長４００ｍｍの試料をつく
り評価した結果、試料の石英ガラス管は延伸方向に直径
（１１ｍ７ｆｉで、長さ５０〜４００ｍｍの細条の気泡
を５〜１５個有していた。
り評価した結果、試料の石英ガラス管は延伸方向に直径
（１１ｍ７ｆｉで、長さ５０〜４００ｍｍの細条の気泡
を５〜１５個有していた。
次に上記石英ガラス管を第１工程で１０００℃で２４時
間加熱処理した結果細条の気泡は細条の真空気孔となっ
たが、処理前と全く同様に見えた。
間加熱処理した結果細条の気泡は細条の真空気孔となっ
たが、処理前と全く同様に見えた。
次に第１工程で得た石英ガラス管を第２工程で２２００
℃のフレームで３０秒加熱処理したところ細条の真空気
孔は消失し、光学的に透明な石英ガラス管が得られた。
℃のフレームで３０秒加熱処理したところ細条の真空気
孔は消失し、光学的に透明な石英ガラス管が得られた。
本発明の方法により得た製品は、光学的品質に関する高
度の必要条件を課されたときにも完全に満足できるもの
であった。
度の必要条件を課されたときにも完全に満足できるもの
であった。
石英ガラス製品を軟化温度範囲、即ち少なくとも１６０
０℃以上の温度で加熱すべき時間は、加熱温度に依って
異なるが、通常数分以内である。
０℃以上の温度で加熱すべき時間は、加熱温度に依って
異なるが、通常数分以内である。
通常１９００℃より高温では製品の変形が許容できない
ほどになる為、温度は１９００℃を越えないようにする
。
ほどになる為、温度は１９００℃を越えないようにする
。
然し管状製品をグラファイト軸上で延伸し口径を調整す
る技術においては、加熱を石英ガラスが融解状態となる
約２０００℃の温度で行なう。
る技術においては、加熱を石英ガラスが融解状態となる
約２０００℃の温度で行なう。
Claims (1)
- １ 粒状二酸化珪素から成る出発物質を加熱炉の上方部
分内に所定供給速度で連続的に供給し、出発物質を炉の
上部加熱圏の水素４０〜６５容積係とヘリウム６０〜３
５容積係の比の水素とヘリウムのガス雰囲気中で２０５
０℃以上の融解温度で連続的に融解し、融解物質の温度
を２０５０℃より低く維持しながら融解物質の加熱を炉
の下部圏内で別個の加熱装置により継続し、融解物質を
非酸化性担体ガス中に水素を含有する雰囲気の存在下で
炉の下部圏から成形装置により連続的に引出し、細長い
石英ガラス物体を製造するにあたり、冷却後石英ガラス
物体を最初に空気中又は真空中で８００〜１４００℃の
温度で選定温度に応じて数日（８００℃）〜数分（１４
００℃）加熱し、然る後少なくとも１６００℃以上の温
度で数分加熱し、これらの加熱をプラズマバーナー以外
の加熱器を用いて行うことを特徴とする細長い石英ガラ
ス物体の製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL7414978A NL7414978A (nl) | 1974-11-18 | 1974-11-18 | Werkwijze voor de vervaardiging van voorwerpen van kwartsglas door trekken. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5173018A JPS5173018A (ja) | 1976-06-24 |
| JPS5820894B2 true JPS5820894B2 (ja) | 1983-04-26 |
Family
ID=19822488
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50137683A Expired JPS5820894B2 (ja) | 1974-11-18 | 1975-11-15 | セキエイガラスブツタイノセイゾウホウホウ |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4032315A (ja) |
| JP (1) | JPS5820894B2 (ja) |
| BR (1) | BR7507612A (ja) |
| CA (1) | CA1071410A (ja) |
| DE (1) | DE2550706A1 (ja) |
| FR (1) | FR2291158A1 (ja) |
| NL (1) | NL7414978A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62164502U (ja) * | 1986-04-08 | 1987-10-19 | ||
| JPH0271017A (ja) * | 1988-09-05 | 1990-03-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 冷蔵機能付電子レンジ |
| JPH0271018A (ja) * | 1988-09-05 | 1990-03-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 冷蔵機能付電子レンジ |
Families Citing this family (8)
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|---|---|---|---|---|
| DE3227786C2 (de) * | 1982-07-24 | 1984-08-02 | Heraeus Quarzschmelze Gmbh, 6450 Hanau | Verfahren zur Herstellung eines Quarzglasrohres |
| DE3227785C2 (de) * | 1982-07-24 | 1984-07-19 | Heraeus Quarzschmelze Gmbh, 6450 Hanau | Verfahren zur Herstellung eines stab- oder rohrförmigen Quarzglaskörpers |
| US5236483A (en) * | 1985-07-16 | 1993-08-17 | Seiko Epson Corporation | Method of preparing silica glass |
| US5356449A (en) * | 1993-05-24 | 1994-10-18 | At&T Bell Laboratories | Vad process improvements |
| JPH1011022A (ja) | 1996-06-18 | 1998-01-16 | Sharp Corp | 表示装置の駆動回路 |
| US6289698B1 (en) | 1996-08-02 | 2001-09-18 | Corning Incorporated | Method of making a fiber preform with increases in alumina concentration at radial distances |
| US8789393B2 (en) * | 2004-11-29 | 2014-07-29 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Optical fiber preform, method of manufacturing optical fiber preform, and method of manufacturing optical fiber |
| DE102012006914B4 (de) | 2012-04-05 | 2018-01-18 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung synthetischer Quarzglaskörnung |
Citations (1)
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-
1974
- 1974-11-18 NL NL7414978A patent/NL7414978A/xx not_active Application Discontinuation
-
1975
- 1975-11-10 US US05/630,535 patent/US4032315A/en not_active Expired - Lifetime
- 1975-11-12 DE DE19752550706 patent/DE2550706A1/de not_active Ceased
- 1975-11-14 CA CA239,663A patent/CA1071410A/en not_active Expired
- 1975-11-15 JP JP50137683A patent/JPS5820894B2/ja not_active Expired
- 1975-11-17 BR BR7507612*A patent/BR7507612A/pt unknown
- 1975-11-18 FR FR7535175A patent/FR2291158A1/fr active Granted
Patent Citations (1)
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|---|---|---|---|---|
| JPS4976917A (ja) * | 1972-11-02 | 1974-07-24 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2291158B1 (ja) | 1979-04-13 |
| US4032315A (en) | 1977-06-28 |
| JPS5173018A (ja) | 1976-06-24 |
| CA1071410A (en) | 1980-02-12 |
| BR7507612A (pt) | 1976-08-03 |
| DE2550706A1 (de) | 1976-05-26 |
| NL7414978A (nl) | 1976-05-20 |
| FR2291158A1 (fr) | 1976-06-11 |
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