JPS62235223A - 高珪酸ガラス部材の製造方法および製造装置 - Google Patents

高珪酸ガラス部材の製造方法および製造装置

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JPS62235223A
JPS62235223A JP7553186A JP7553186A JPS62235223A JP S62235223 A JPS62235223 A JP S62235223A JP 7553186 A JP7553186 A JP 7553186A JP 7553186 A JP7553186 A JP 7553186A JP S62235223 A JPS62235223 A JP S62235223A
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JP
Japan
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furnace
heated
silicate glass
materials
base
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JP7553186A
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English (en)
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Hiroyuki Watabe
弘行 渡部
Koichi Honma
本間 公一
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Coorstek KK
Original Assignee
Toshiba Ceramics Co Ltd
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00Re-forming shaped glass
    • C03B23/02Re-forming glass sheets
    • C03B23/023Re-forming glass sheets by bending
    • C03B23/025Re-forming glass sheets by bending by gravity
    • C03B23/0258Gravity bending involving applying local or additional heating, cooling or insulating means
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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    • C03B23/02Re-forming glass sheets
    • C03B23/023Re-forming glass sheets by bending
    • C03B23/025Re-forming glass sheets by bending by gravity
    • C03B23/0252Re-forming glass sheets by bending by gravity by gravity only, e.g. sagging
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00Re-forming shaped glass
    • C03B23/04Re-forming tubes or rods
    • C03B23/051Re-forming tubes or rods by gravity, e.g. sagging
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B29/00Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins
    • C03B29/02Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins in a discontinuous way

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 り皇ユJυu1立I− この発明は、たとえばコイル支持板などに使用される大
型の高珪酸ガラス部材の製造方法および製造装置に関す
るものである。
良股二炎1 従来、大型高珪酸ガラス板の製造方法は次のとおりであ
る。すなわち、酸水素炎等で上部から高珪酸ガラス原料
粉末を少しづつ落下させながら溶融し、ブロック状の高
珪酸間を製造し、その塊をスライスして所定数枚の板を
溶接によってはり合わせることで大型高珪酸ガラス板を
製造していた。
あるいは、高珪酸ガラスバイブを長さ方向に切断し、酸
水素炎で加熱して開き、同様に数枚の板を溶接して大型
の高珪酸ガラス板を製造していた。
′シ      と     p 前者の従来方法によれば、高珪酸ガラスの熱伝導率が小
さいことから、均熱加熱がむずかしく、未溶融部が残っ
たり、溶融体の粘性のバラツキから形状を維持すること
ができず、大型のブロックを製造することが不可能であ
った。
また、スライスした板を多数枚溶接するとかなりのコス
トアップとなること、および、溶接部とその他の部分と
の強度のバラツキもあった。
一方、後者のバイブを切断し、酸水素炎で加熱して板に
開〈従来方法では、酸水素バーナによる均一な高温加熱
がむずかしく、肉厚のバイブを開くことができず、溶接
によって製造した大型の高珪酸ガラス板は肉薄となり、
機械的強度が小さく使用に耐えるものではない。
また従来の方法では、溶接部に歪が残るため、さらに熱
処理を施さなければならなかった。
ところで、半導体工業では年々、ウェハーが大口径化の
傾向にあり、その製造装置に使用される部材も大型のも
のが要求されてきている。このため、高珪酸ガラス板に
おいても例外ではなく、大型で均質、高粘性が要求され
ている。
立」し1月」工 この発明は、安価で大型の高珪酸ガラスの部材を大是に
供給することができる高珪酸ガラス部材の製造方法およ
び製造装置を提供することを目的としたものである。
l1悲11 第1発明は、管状或いは坩堝状の高珪酸ガラス母材を長
さ方向で分割して複数個の被加熱体とし、該被加熱体を
平滑な面上に載置し、上部からヒータの輻射熱で加熱す
ることを特徴とする高珪酸ガラス部材の製造方法を要旨
としている。
第2発明は、高珪酸ガラスの被加熱体を載置した台の導
入・排出用脚を有し、炉内がカーボン材で内張りされ、
炉内上部にカーボン製の輻射熱式ヒータを配置し、炉内
に非酸化性ガス導入口を有することを特徴とする高珪酸
ガラス部材の製造装置を要旨としている。
問題点を解決するための手段 訂1発明の高珪酸ガラス部材の製造方法は、第1図を参
照すると、管状或いは坩堝状の大型高珪酸ガラス母材(
図示せず)を長さ方向で分割して複数の被加熱体として
の分割体13を作る。この分割体13は、台12の平滑
面12a上に載置する。そして、類1内において上部か
らヒータ3の輻射熱で加熱する。
第2発明の高珪酸ガラス部材の製造装置は、第1発明の
方法を実施するための装置である。
第1図を参照すると、被加熱体としての分割体13を載
置した台12の導入・排出用脚を有し、類1内がカーボ
ン材で内張すされている。この類1内の上部にカーボン
製の輻射熱式ヒータ3が配置しであるとともに、非酸化
性ガスの導入口4.5を有している。
なお、この方法と装置では、被加熱体としての分割体を
炉内に導入して単結晶育成用ボート類などの石英ガラス
部材(高珪酸ガラス部材)をも製造できる。
色−1 台12上の分割体13は、ヒータ3の輻射熱により加熱
されて、分割体13の向上によりたれてくる原理により
、分割体13は無理なく平滑な板になる。
以下、この発明の製造装置とその製造方法を説明する。
第1図はこの発明の製造装置の実施例を示している。
炉1の炉壁2は、全てカーボン材料で作られている。す
なわち、炉1の内面全部がカーボンで内張すしである。
類1内には、その上部に輻射熱式のヒータ3が設けられ
ている。
このヒータ3はカーボン製である。
炉壁2には、非酸化性ガスの導入口4,5が設けである
。非酸化性ガスは、たとえば窒素ガスである。この導入
口4,5から類1内に非酸化性ガス好ましくは窒素ガス
を常に流し、カーボン製の炉壁2とヒータ3の酸化を抑
えるようにしである。
炉1の前端側には、入口6がある。この人口6には@7
が支持部7aを介して開閉自在に設けである。また、炉
1の後端側には出口8がある。この出口8には扉9が支
持部8aを介して開閉自在に設けである。この両扉7゜
9は耐熱レンガで内張すされている。
この炉1の特徴はカーボン材料を使用している炉であり
ながら、連続炉であることである。炉1は、カーボンの
酸化により寿命が短かいと思われるが、実際には窒素ガ
スの影響で、炉壁2の酸化は、おどろく程微量である。
すなわち、後掲の表−1で示すように、稼動している炉
1の炉壁2における酸化消耗深さは、30日経過しても
わずかに4.5mm程度である。
炉1の前には支持台10が設置しである。
また炉1の後には支持台11が設置しである。
支持台10の上にはすでにカーボン製の台12が載せで
ある。この台12は平滑な面12aを有し、石英ガラス
母材の分割体13(被加熱体)が載せである。高珪酸ガ
ラスとは高純度の珪酸ガラスのことであり、高珪酸ガラ
ス母材として石英ガラス母材を用いている。
分割体13は、大型高珪酸ガラス母材であるルツボ(図
示せず)を半分以下の径で長さ方向に切断(好ましくは
2分割)したものである。このルツボはたとえば肉厚が
20111111〜5Qmmで外径が100On+mで
ありアーク炎により製造したものである。
支持台10の前にはブツシャ−14が設定しである。プ
ッシャー14のロッド15は、支持台10上の台12を
押して台12を入口6から類1内に導入し、処理後に台
12を炉1の出口8から排出するようになっている。
すなわち、炉1はブツシャ一式の炉である。
次に上述した製造装置により大型の石英ガラスの板を製
造する方法を説明する。
台12には石英ガラス母材の分割体13を載置しである
。扉9は閉めである。炉1のヒータ3は発熱している。
扉7を開け、ブツシャ−14のロッド15を伸長して、
台12と分割体13を移動し類1内に挿入する。ロッド
15を収縮して扉7を閉めたあと、ヒータ3の輻射熱に
より好ましくは1600℃で分割体13を上部から加熱
する。
これにより、分割体13は挿入してから約3分で軟化を
始め、約20分後には台12の平滑面12aに沿った平
滑な大型の石英ガラス板となる。
この大型石英ガラス板ができたら、#7を開けてブツシ
ャ−14のロッド15を伸長しかつ騨9を開けて、台1
2とともに石英ガラス板を支持台11側に排出する。
平滑な石英ガラス板の製造は、石英ガラスの自重によっ
て、たれてくる原理を応用したもので、無理なく板にす
ることができる。それ由にこの方法によって、製造され
た板には、歪が存在しない。
なお、分割体13は高温でカーボン製の台12の平滑部
12aに接触するため、S10ガス等を発生する。好ま
しくは台12の平滑部12aに多数の貫通孔を設けて、
SiOガス等を平滑部12aと分割体13の間から外部
ににがすようにすればよい。さらに好ましくはSiOガ
ス等を炉1の外に排気する。
このようにすることで、面12aに分割体13がより密
着しやすく平滑な石英ガラス部材が得られる。
また、分割体13を、前処理として、1000℃〜10
90℃でアニールし、この炉1によって板にすれば、表
−2から明らかなように、極端に粘性の高い特性を有す
る板が製造できる。この原因は、まだ詳しくは解明され
ていないが、ガラスの構造の変化によるものであろう。
この炉1は、カーボン材料の熱容量の太きさから、連続
炉であっても炉内温度がほぼ一定になる。
第2図ケ参照゛すると、台12と分割体13の挿入、排
出がくり返されても、炉内温度が1550℃以下に下が
るようなことはない。
このため分割体13を効率よく加熱できる。
なお、大型珪酸ガラス母材は坩堝状(ルツボ状)でも管
状でもよい。
ところでこの発明の製造方法と装置は、大型の高珪酸ガ
ラス板の製造だけでなく、極端にOH基が少ない石英ガ
ラス部材を製造する手段としても応用できる。たとえば
、各種半導体化合物の引上げ、又は熱処理用部材は、高
粘性でかつOHMのない石英ガラス部材を必要としてい
る。
そこでアーク炎で管状又は坩堝状の高珪酸ガラス(石英
ガラス)母材をたとえば2分割して被加熱体く分割体)
を作り、アニール処理する。その後被加熱体を台にのせ
て炉内に導入し、カーボン製のヒータを上部に配置した
炉の中で加熱しながらプレス成型することによって、粘
性が高く、OH含有量が少ない石英ガラス部材を製造す
ることができる。特に、Qa AsやGa P等の単結
晶育成用ボート類などとして使用する石英ガラス部材の
製造に適している。
この発明は上述した実施例に限定されない。
aJJと死】− この発明の製造方法及び製造装置によれば、管状或いは
坩堝状の大型高珪酸ガラス母材から均質で高粘性の大型
の高珪酸ガラスの部材(板)を大間かつ安価に供給する
ことができる。しかもこの部材は肉厚を大きくでき機械
的強度が大きい。
また、この発明の製造方法及び製造装置によれば、高珪
酸ガラス母材から単結晶育成用ボート類などとして使用
する高珪酸ガラス部材(石英ガラス部材)を製造できる
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の製造装置を示す図、第2図は炉内温
度の変化を示すグラフである。 1・・・炉 2・・・炉 壁 3・・・ヒータ 4.5・・・非酸化性ガスの導入ロ ア、8・・・扉 13・・・分割体 14・・・プッシャー 表−1 表−2 第2図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)管状或いは坩堝状の大型高珪酸ガラ ス母材を長さ方向で分割して複数個の被加熱体とし、該
    被加熱体を平滑な面上に載置し、上部からヒータの輻射
    熱で加熱することを特徴とする高珪酸ガラス部材の製造
    方法。
  2. (2)高珪酸ガラスの被加熱体を載置した 台の導入・排出用扉を有し、炉内がカーボン材で内張り
    され、炉内上部にカーボン製の輻射熱式ヒータを配置し
    、炉内に非酸化性ガス導入口を有することを特徴とする
    高珪酸ガラス部材の製造装置。
JP7553186A 1986-04-03 1986-04-03 高珪酸ガラス部材の製造方法および製造装置 Pending JPS62235223A (ja)

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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1994003404A1 (en) * 1992-07-31 1994-02-17 Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. Quartz glass plate large in size and high in purity, and method and device for making said plate
WO2001012566A1 (fr) * 1999-08-12 2001-02-22 Nikon Corporation Procede de preparation de silice vitreuse synthetique et appareil de traitement thermique
US6242136B1 (en) 1999-02-12 2001-06-05 Corning Incorporated Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass
US6265115B1 (en) 1999-03-15 2001-07-24 Corning Incorporated Projection lithography photomask blanks, preforms and methods of making
US6319634B1 (en) 1999-03-12 2001-11-20 Corning Incorporated Projection lithography photomasks and methods of making
US6682859B2 (en) 1999-02-12 2004-01-27 Corning Incorporated Vacuum ultraviolet trasmitting silicon oxyfluoride lithography glass
US6783898B2 (en) 1999-02-12 2004-08-31 Corning Incorporated Projection lithography photomask blanks, preforms and method of making
US6782716B2 (en) 1999-02-12 2004-08-31 Corning Incorporated Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1994003404A1 (en) * 1992-07-31 1994-02-17 Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. Quartz glass plate large in size and high in purity, and method and device for making said plate
US5683483A (en) * 1992-07-31 1997-11-04 Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. Manufacturing method and equipment for large, high-purity flat or curved quartz glass plate
US6492072B2 (en) 1999-02-12 2002-12-10 Corning Incorporated Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass
US6242136B1 (en) 1999-02-12 2001-06-05 Corning Incorporated Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass
US6682859B2 (en) 1999-02-12 2004-01-27 Corning Incorporated Vacuum ultraviolet trasmitting silicon oxyfluoride lithography glass
US6689516B2 (en) 1999-02-12 2004-02-10 Corning Incorporated Projection lithography photomasks and method of making
US6783898B2 (en) 1999-02-12 2004-08-31 Corning Incorporated Projection lithography photomask blanks, preforms and method of making
US6782716B2 (en) 1999-02-12 2004-08-31 Corning Incorporated Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass
US6848277B2 (en) 1999-02-12 2005-02-01 George Edward Berkey Projection lithography photomasks and method of making
US6319634B1 (en) 1999-03-12 2001-11-20 Corning Incorporated Projection lithography photomasks and methods of making
US6265115B1 (en) 1999-03-15 2001-07-24 Corning Incorporated Projection lithography photomask blanks, preforms and methods of making
WO2001012566A1 (fr) * 1999-08-12 2001-02-22 Nikon Corporation Procede de preparation de silice vitreuse synthetique et appareil de traitement thermique
US6732546B1 (en) 1999-08-12 2004-05-11 Nikon Corporation Product method of synthetic silica glass and thermal treatment apparatus
KR100719817B1 (ko) * 1999-08-12 2007-05-18 가부시키가이샤 니콘 합성석영유리의 제조방법 및 열처리장치

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