JPS58208094A - レ−ザ−記録材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はレーザー記録材料に関するものである。

従来、レーザービーム等の記録用ビームを記録材料に照
射して照射部分の融解、変形、蒸発写により光学的な変
化を生せしめて記録を行なう方法は知られている。この
ようか配ｆＩ＆芹法に用いる。ｔｔＦ録材料としては基
板に低融点の金属、例えばＳ　ｒ、　Ｔｅ、　Ｚｎ、　
Ｐｂ、　Ｃａ、　Ｂｉ、　Ｓｎ、　Ｓｅ、　Ｉｎ、　Ｇ
ａ　Ｓの薄［＠を形成してなるｇ＋Ｆ録材料が用いられ
ている。

Ｌ　ＨｓＬながら、これら従来のレーザー記録材料は紀
録感闇、記録により形成されるビット形状、呆岸安定性
、及び毒性をすべて満足しうるちのではない。例えばＴ
’ｅ　ｆ用いる場合１ｇｅ録感度、ビット形状について
はけ′！−′瀾足かものが得られるが、保存安定性及び
毒性に問題があ番」、又、Ｓｎを用いる場合、毒性が低
い利点はあるもＯ）の他の緒特性が劣るものしか得られ
ない。

木発明者は上記の従来の記録材料が有している欠点を解
消するため種々の金部１含金について検討を行なったと
ころ、＃Ａと銅を共存させることＣ：より、上記従来技
術における欠点が解消することを弊い出して本発明に到
達したものである。

即ち本発明は基板の表面に金属ｌＩ腓−を設けてあり、
１金Ｗ＊＊＠は１〜ＡＯ原子数パーセントの銅を含む錫
−銅合金からなることを＃黴とするレーザー記録材料を
その主旨とするものである。

以下、を発明について詳細に説明する。

甲１図は本発明の−Ｗ施例のレーザー記録材料の枦造を
示す模式的な断面図であみ。ＩＨ１図中１′７″示すレ
ーザー配録材料は基板２のｔ面に。

１〜ｔｏ原子数パーセントの銅を含む錫−一合金ルらな
る金嶽薄ｌ［−３を設けである。

上記において基板２としては、従来、レーザー記録材料
の基板と［て用いられているものであればいずれも使用
で傘るが、例を示せば、ガラス、アルミニウム等の金寥
、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリカーボネート、
ポリ塩化ビニル、ポ１７アミド、ポＩＩスチレン、ポリ
メチルメタクリレ−）ＩＩの合ｆｆｔ！を詣等のフィル
ム若しくはシート又は板、或いはガラス繊維の繊布若し
くは不絵布、並びに以上の各材料を適宜に複合してなる
ものを用いることが？−る。基板２として透ｌ３Ｊ１３
牲の拳のを用いると画は後述するレーザー１録は基板側
力・らも行なえる。

錫−銅合金からなる金属薄Ｗｌ＠を設けたレーザー記録
材料の感度及び記録時ｌ：形成さｉるビットの形状が、
錫単独若しくは銅単独の金ｊ：薄φ等を設けたレーザー
記録材料の感度及びビット形状にくらべて良好である理
白は必ずしも明らかではないが、８−ｍ合金の共晶点は
錫及び銅のそれぞれの融点よりも低く、父、銅の沿体壮
態における表面張力が、錫の５６６　Ｘ　１　（１−５
ＩＱ／ｍ　＋：　＜らべｊ３５Ｘ１Ｄ−３Ｎ／ｍと低（
、ｙ３ｓツ。

この表面張力の値は金１の中でも比較的小さし）ことｐ
ｌら、レーザービームの照射を受けた錫−銅合金Ｄ１ら
たる金ａｍ醗層は溶融しやすく、かつ、溶融時に流動し
やすいために、熱射部分の錫−銅合金が容易に排除され
るためと考えられる。

次に上記した企ｌｉ薄膜１１３に−いて説明すると、該
合Ｗ１薄膜−は１〜４０原子数パーセントの銅を含む錫
−銅合金からなるものである。この好ましい範囲につい
て説明すると銅の含有量が１原子数パーセントより少な
いと良はひび割れが発注する等のビット形状の不良があ
り、記録に要する二木ルギーＬ良い値も好ましい範囲に
比して約１．５倍秤度と高く、又、ＡＯ原子数パーセン
トを越えるととは記録感度が低下し。

即ち記録に要するエネルギーＬｌい値が、好ましい範囲
ｇ：比して１′２倍以上となる上、形成されたビット形
状はその周辺が不均一な拡がりを伴ない、好ましくかい
ものである。なお、銅頗独のものではｅ録エネルギーを
好ましい範囲の４倍程肋に上げても記録は達成さｆない
。上ヨｅに２いて銅の含有量を５〜２０原子数パーセン
トとすると、更に一一好ましい。

以上のような旺分υ）らなる金１薄−１ｉ１乙の厚みは
１００〜５０００Å、好ましくは２００〜８００大であ
る。金属′ｌｌＷ＠５の厚みが１００久以下では再生光
の反射率が小さく、光学的読み収りが困難であり、５ｏ
ｏｏｉを越えると記録感度が低下して好ましくない。

上記金Ｗｌｌ！Ｉ！Ｉｌｌを基板２の表面に設ける方法
について次に述べると、公知の蒸着、スパッタリング、
イオンブレーティング、若しくはプラズマ蒸着等の方法
を利用し得る。−例として蒸着によって金＊ｙａｍ−を
形醪する方法ｔ：ついて述べると１例えば蛙、と銅を別
個のアルミナ製るつぼ２：入れて蒸着装置内【ニ七゛ソ
トし、加熱の程度を制御することに：より１両者の金属
の蒸着の割合を制御するか、或いは蒸着の時間を制御す
ることにより蒸着の割合を制御する等の二元蒸着法によ
り蒸ｔ′する刀）、父は所定の組成の合金を予め作テし
てお画、スパッタリングＣ：よって行なう編の方法が例
示でまる。

を発明のレーザー記録材料は基本的には以上の構成から
成るが、更Ｃ：、表面保護−として、本発明のレーぜ一
記録材料の錫−銅合金１Ｍ膜上にＳｉＯ４’　ＭｓＦな
どを蒸＠するか、又はアクリル樹脂、ポリエステル樹脂
、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラ
ール樹脂などのビニル系樹脂、垣化ゴムなどのゴム類、
アクリル系紫外線硬化１脂、エポキシ系紫外線硬化給脂
などを塗布することにより設けてもよい。

或いは父、ブうイマー曝としてアクリル樹脂を基材表面
に設けてもよい。更に、反射防止膜としてＩｎかどの金
１や金ｌ！酸化物艶を劃−銅合金葺Ｗ−上に設けるなど
してもよい。

以上の本発明のレーザー１ｅ録材料は記録感度が善く、
ビ・ソト形状も満足し得るものであり。

保存安定性、毒性に関してもすぐれている。

次に本発明をより具体的に示すための実施例を掲げる。

実施例１ 基板として厚みｉ、　ｓ　ｓｍ　ｏポリメチルメタクリ
レート板を洗浄し脱脂を行なった。次に真空蒸着装置を
用い、真空度１０”−’　Ｔｏｒｒ　Ｏ＞条件で１粉末
と銅粉末を別々のアルミするつぼに入れて同特に加熱し
、二元蒸着法により各るつぼの加熱温度を側副し、銅の
含有駆が１０原子数パーセントとなるよう蒸着を行ない
、＠犀が、ａｏｏＸ′になるようにして前記の基板の着
面に金属薄膜−を形成した。

次にり上のようにして作６した記録材料の金属薄＠−に
波長６３２８ＡのＨｅ−ＮｅＬｚ−ザーをＮｌ−、（開
口数）　＝　０．　ｊ　５のレンズで集光し、金１薄膜
１表面弔のレーサー光の強度が７ｍｗになるよう、又、
走青速度３００μＷＬ／秒の条件で照射しタトころ、直
径３μｍのビットが形成されていることが顕微ｆ＃、観
察によ−て確力・められた。

此較のため、蒸着源として錫のみを用い、他は＊買施伊
１と全く回じに作成した記録材料を同様に記録用に用い
たところ、記録Ｃ二必要なレーザー光の強度のしきい値
は１［１ｍｗ以上であり。

又、形成されたピットの周辺部はひび割れが生じていた
。

【図面の簡単な説明】

朝１図はＬ発叩のレーザー記録材料の拵造を示′を模式
的な断面図である。 １・・・・・・・・・・・・レーザー記録材料２・・・
・・・・・・・・・基　板

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板の表面に金属薄＄１＠を役けてあり、該金属
   薄＃場は１〜４０即子数パーセントの銅を含む錫−銅合
   金Ｄ）らなることを特徴とするレーザー記録材料。