JPS58204929A - ヘリカル型吸気ポ−ト - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はヘリカル型吸気ポートに関する。

ヘリカル型吸気ポートは通常吸気弁層りに形成された渦
巻部と、この渦巻部に接線状に接続されかつほぼまっす
ぐに延びる入口通路部とによシ構成される。このような
ヘリカル型吸気Ｉ−トを用いて吸入空気量の少ない機関
低速低負荷運転時に機関燃焼室内に強力な旋回流を発生
せしめようとすると吸気ポート形状が流れ抵抗の大きな
形状になってしまうので吸入空気量の多い機関高速高負
荷運転時に充填効率が低下するという問題を生ずる。こ
のような問題を解決するためにヘリカル型吸気ポート入
口通路部から分岐されてヘリカル型吸気ポート渦巻部の
渦巻終端部に連通ずる分岐路をシリンダヘッド内に形成
し、分岐路内に開閉弁を設けて吸入空気量の増大に応じ
て開閉弁を開弁するようにしたヘリカル型吸気ポートが
本出願人によシ既に提案されている。このヘリカル型吸
気ポートでは機関高速高負荷運転時にヘリカル型吸気ポ
ート入口通路部内に送）込まれた吸入空気の一部が分岐
路を介してヘリカル型吸気ポート渦巻部内に送シ込まれ
るために吸入空気の流路断面積が増大し、斯くして充填
効率を向上することができる。しかしながらこのヘリカ
ル型吸気ポートでは分岐路が入口通路部から完全に独立
した筒状の通路として形成されているので分岐路の流れ
抵抗が比較的大きく、しかも分岐路を入口通路部に隣接
して形成しなければならないために入口通路部の断面積
が制限を受けるので十分に満足のいく高い充填効率を得
るのが困難となっている。更に、ヘリカル型吸気ポート
はそれ自体の形状が複雑であり、しかも入口通路部から
完全に独立した分岐路を併設した場合には吸気ポートの
全体構造が極めて複雑となるのでこのような分岐路を具
えたヘリカル型吸気ポートをシリンダヘッド内に形成す
るのはかなり困難である。更に、このヘリカル型吸気ポ
ートでは上述したように吸入空気量が増大するにつれて
開閉弁が開弁せしめられるので吸入空気量の増大に応じ
て充填効率が高められるが分岐路から流入する吸入空気
によって旋回流が弱められてしまい、斯くして吸入空気
量が比較的多い領域において強力な旋回流を発生させる
のが困難になるという問題がある。

本発明は吸入空気量が比較的多いときにも強力な旋回流
を燃焼室内に発生でき、しかも機関高速高負荷運転時に
高い充填効率を得ることができると共に製造の容易な新
規形状のヘリカル型吸気４！−トを提供することにある
。

以下、添附図面を参照して本発明の詳細な説明する。

第１図並びに第２図を参照すると、１はシリンダヘッド
内、２はシリンダブロック１内で往復動するピストン、
３はシリンダブロック１上に固締されたシリンダへツー
、４はピストン２とシリンダヘッド３間に形成された燃
焼室、５は吸気弁、１ ６はシリンダヘッド３内に形成されたヘリカル型吸気ポ
ート、７は排気弁、８はシリンダへ、ド３内に形成され
た排気ポート、９は燃焼室４内に配置された点火栓、１
０は吸気弁５のステム５ａを案内するステムガイドを夫
々示す。第１図並びに第２図に示されるように吸気ポー
ト６の上壁面１１上には下方に突出する隔壁１２が一体
成形され、この隔壁１２によって渦巻部Ｂと、この渦巻
部Ｂに接線状に接続された入口通路部Ａからなるヘリカ
ル型吸気ポート６が形成される。この隔壁１２は入口通
路部Ａ内から吸気弁５のステムガイド１０の周囲まで延
びておシ、第２図かられかるようにこの隔壁１２の根本
部の巾りは入口通路部人に近い側ではほぼ一様であシ、
ステムガイド１０の周りで広くなる。隔壁１２は吸気ポ
ート６の入口開口６１に最も近い側に位置する先端部１
３を有し、更に隔壁１２は第２図においてこの先端部１
３から反時計回りに延びる第１側壁面１４１と、先端部
１３から時計回シに延びる第２側壁面１４ｂとを有する
。第１側壁面１４ａは先端部１３からステムガイドＩＯ
の側方を通って渦巻部Ｂの側壁面１５の近傍まで延びて
渦巻部側壁面１５との間に狭窄部１６を形成する。一方
、第２側壁面１４ｂは先端部１３からステムガイド１０
に向けて始めは第１側壁面１４ａとの間隔が増大するよ
うに、次いで第１側壁面１４ｍとの間隔がほぼ一様とな
るように延びる。次いでこの第２側壁面１４ｂはステム
ガイド１０の外周に沿って延びて最狭部１６に達する。

第１図から第９図を参照すると、入口通路部Ａの一方の
側壁面１７はほぼ垂直配置され、他方の側壁面１８はわ
ずかばかり傾斜した下向きの傾斜面から形成される。一
方、入口通路部人の上壁面１９は渦巻部Ｂに向けて下降
し、渦巻部Ｂの土壁面２０に滑らかに接続される。渦巻
部Ｂの土壁面２０は渦巻部Ｂと入口通路部Ａの接続部か
ら狭窄部１６に向けて下降しつつ徐々に巾を狭め、次い
で狭窄部１６を通過すると徐々に巾を広げる。一方、入
口通路部Ａの側壁面１７は渦巻部Ｂの側壁面１５に滑ら
かに接続され、入口通路部人の底壁面２１は渦巻部Ｂに
向けて下降する。

一方、隔壁１２の第１側壁面１４ａはわずかげかυ傾斜
した下向きの傾斜面からなり、第２側壁面１４ｂはほぼ
垂直をなす。隔壁１２の底壁面２２は、隔壁１２の先端
部１３からステムガイド１０の近傍まで延びる第１底壁
面部分２２ｍと、ステムガイド１０の周シに位置する第
２底壁面部分２２ｂからなる。第１底壁面部分、２２　
ｍは土壁面１９とほぼ平行をなして底壁面２１の近くま
で延びる。一方、上壁面１９から測った第２底壁面部分
２２ｂの高さは第１底壁面部分２２ｍの高さよシも低く
、更に第２定壁面部分２２ｂと上壁面１９との間隔は狭
窄部１６に向がって徐々に小さくなる。また、第２底壁
面部分２２ｂ上には第４図のハツチングで示す領域に下
方に突出するリゾ２３が形成され、このリブ２３は第１
底壁面部分２２ｍから狭窄部１６まで延びる。第８図に
示されるように第２底壁面部分２２ｂは！Ｊ　ｆ　２３
に向けて下降する。　　　　　　　、。

一方、シリンダヘッド３内には渦巻部Ｂの渦巻１１．１ 終端部Ｃと入口通路部Ａとを連通ずる分岐路２４が形成
され、この分岐路２４の入口部にロータリ弁２５が配置
される。この分岐路２４は隔壁１２によって入口通路部
人から分離されてお９１分岐路２４の下側空間全体が入
口通路部Ａに連通している。分岐路２４の上壁面２６は
ほぼ一様な巾を有し、渦巻終端部Ｃに向けて下降して渦
巻部Ｂの土壁面２０に滑らかに接続される。なお、第７
図に示されるように底壁面２１から測った分岐路２４の
上壁面２６の高さｆ（ｌは入口通路部Ａの上壁面１９の
高さＨ８よりも高くなっている。隔壁１２の第２側壁面
１４ｂに対面する分岐路２４の側壁面２７はほぼ垂直を
なし、また分岐路２４下方の底壁面部分２１ｍは隆起せ
しめられて傾斜面を形成する。この傾斜底壁面部分２１
＆は第１図に示すように吸気ポート６０入口開口６ａの
近傍から渦巻部Ｂまで延びる。一方、第１図、第４図お
よび第８図かられかるように分岐路２４の出口近傍の渦
巻部Ｂの側壁面部分１５＆はわずかに傾斜した下向きの
讐、：、１１面に形成され・隔壁１２の第２側壁面１４
ｂはこの傾斜側壁面部分１５＆に向けて張り出している
。従って第２側壁面１４ｂと傾斜側壁面部分１５ａ間に
は第２の狭窄部１６ａが形成される。

第９図に示されるようにロータリ弁２５はロータリ弁ホ
ルダ２８と、ロータリ弁ホルダ２８内において回転可能
に支持された弁軸２９とにょ多構成され、このロータリ
弁ホルダ２８はシリンダヘッド３に穿設されたねじ孔３
０内に螺着される。

弁軸２９の下端部には薄板状の弁体３１が一体形成され
、第１図に示されるようにこの弁体３１は分岐路２４の
上壁面２６から底壁面２１まで延びる。一方、弁軸２９
の上端部にはアーム３２が固定される。また、弁軸２９
の外周面上にはリング溝３３が形成され、このリング溝
３３内にはＥ字型位置決めリング３４が嵌込まれる。更
にロータリ弁ホルダ２８の上端部にはシール部材３５が
嵌着され、このシール部材３５によって弁軸２９のシー
ル作用が行なわれる。一方、第２図および第４図に示さ
れるようにロータリ弁２５近傍の側壁面２７上には部分
円筒状の凹溝２７１が形成され、ロータリ弁２５は弁体
３１の一方の縁辺３１ｍが凹溝２７＆の壁面上を密封的
に移動するように配置される。従って第２図および第４
図に示すロータリ弁全閉状態からロータリ弁２５が反時
計回りに３０°−４５°程度回転するまで弁体３１の縁
辺３１１と凹溝２７ｍの壁面間は密封状態に保持され、
このとき弁体３１の他方の縁辺３１ｂと第２側壁面１４
ｂ間を通って分岐路２４内に混合気が流入する。

第１０図を参照すると、ロータリ弁２５のアーム３２の
先端部は負圧ダイアフラム装置４０のダイアフラム４１
に固着された制御ロッド４２に連結ロッド４３を介して
連結される。負圧ダイアフラム装置４０はダイアフラム
４１により隔離された負圧室４４と大気圧室４５を具備
し、負圧室４４内にはダイアフラム押圧用圧縮ばね４６
が挿入される。この負圧室４４は負圧導管４７並びに電
磁制御弁４８を介して負圧アキュムレータ４９に接続さ
れる。電磁制御弁４８は弁室５０と、負圧アキュムレー
タ４９に連通する負圧ポート５１と、大気に連通ずる大
気ポート５２と、負圧ポート５１並びに大気ポート５２
の開閉制御をする弁体５３と、弁体５３に連結された可
動シランジャ５４と、可動グランツヤ吸引用のソレノイ
ド５５とを具備し、このソレノイド５５は電子制御ユニ
ット６０の出力端子に接続される。一方、吸気ポート６
には吸気管５６が接続され、この吸気管５６には図示し
ない気化器が取付けられる。負圧アキュムレータ４９は
負圧アキュムレータ４９から吸気管５６に向けてのみ流
通可能な逆止弁５７を介して吸気管５６内に接続される
。逆止弁５７は吸気管５６内の負圧が負圧アキュムレー
タ４９内の負圧よやも大きくなると開弁し、吸気管５６
内の負圧が負圧アキュムレータ４９内の負圧よシも小さ
くなると閉弁するので負圧アキュムレータ４９内の負圧
は吸気管５６内に発生した最大負圧に維持される。一方
、吸気管５６には吸気管５６の負圧を検出するための負
圧センサ５８が取付けられ、との負圧センサ５８は電子
制御ユニ、トロ０の入力端子に接続される。また、弁ロ
ッド２９にはロータリ弁２５の開口面積を検出するため
のポテンショメータ５９が取付けられる。このポテンシ
ョメータ５９は弁ロッド２９に連結されて弁ロッド２９
と共に回転する摺動子５９ａと、固定抵抗５９ｂとによ
り構成され、摺動子５９ａは固定抵抗５９ｂ上を接触し
つつ摺動する。従って摺動子５９＆にはロータリ弁２５
の開口面積に比例した電圧が発生する。との摺動子５９
＆は電子制御ユニット６０の入力端子に接続される。一
方、機関クランクシャフトの回転数を検出するために回
転数センサ６１が電子制御ユニット６００Å力端子に接
続される。

電子制御ユニット６０はディジタルコンピュータからな
ム各種の演算処理を行なうマイクロプロセッサ（ＭＰＵ
）６２、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）６３、制御
プログラム並びに演算定数等が予め格納されているリー
ドオンリメモリ（ＲＯＭ）６４、入力ポートロ５並びに
出力ポートロ６が双方向性パス６７を介もて互に接続さ
れている。更に、電子制御ユニット６０内には各種のク
ロック信号を発生するクロック発生器６８が設けられる
。

第１０図に示されるように入力ポートロ５には夫夫対応
するＡＤ変換器６９．７０を介して負圧センサ５８並び
にポテンショメータ５９が接続され、更に入力ポートロ
５には回転数センサ６１が接続される。負圧センサ５８
は吸気管５６内の負圧に比例した出力電圧を発生し、こ
の電圧がＡＤ変換器６９において対応する２進数に変換
されてこの２進数が入力ポートロ５並びにパス６７を介
してＭＰＵ　６２に読み込まれる。一方、ポテンショメ
ータ５９はロータリ弁２５の開口面積に比例した出力電
圧を発生し、この電圧がＡＤ変換器７０において対応す
る２進数に変換されてこの２進数が入力ポートロ５並び
にパス６７を介してＭＰＵ　６２に読み込まれる。また
、回転数センサ６１はクランクシャフトが所定クランク
角度回転する毎にノ９ルスを発生し、このパルスが入力
ポートロ５並びにパス６７を介してＭＰＵ　６２に読み
込まれる。

出力ポートロ６は電磁制御弁４８を作動するためのデー
タを出力するために設けられておシ、この出力ポートロ
６には２進数のデータがＭＰＵ６２からパス６７を介し
て書き込まれる。出力ポートロ６の各出力端子はダウン
カウンタ７１の対応する各入力端子に接続されている。

ダウンカウンタ７１はＭＰＵ　６２から書き込まれた２
進数のデータをそれに対応する時間の長さに変換するた
めに設けられており、このダウンカウンタ７１は出力ポ
ートロ６から送り込まれたデータのダウンカウントをク
ロック発生器６８のクロック信号によって開始し、カウ
ント値がＯになるとカウントを完了して出力端子にカウ
ント完了信号を発生する。

Ｓ−Ｒフリツノ７０ッｆ７２のリセット入力端子Ｒはダ
ウンカウンタ７１の出力端子に接続され、Ｓ−Ｒフリツ
ノフロッグ７２０セット入力端゛子Ｓはクロック発生器
６８に接続される。Ｓ−’Ｒ７リツプフロツプ７２はク
ロック発生器６８のクロック信号によシダランカウント
開始と同時にセットされ、ダウンカウント完了時にダウ
ンカウンタ７１のカウント完了信号によってリセットさ
れる。

従ってＳ−Ｒフリップフロッ′ｆ７２の出力端子Ｑはダ
ウンカウントが行なわれている間高レベルとなる。Ｓ−
Ｒフリップフロップ７２の出力端子Ｑは電力増巾回路７
３を介して電磁制御弁４８に接続されている。従って電
磁制御弁４８のソレノイド５５はダウンカウントが行な
われている間付勢される。

電磁制御弁４８のソレノイド５５が消勢されているとき
は第１０図に示すように弁体５３が大気ポート５２を開
口すると共に負圧ポート５１を閉鎖するので負圧ダイア
フラム装置４０の負圧室４４内は大気圧となる。このと
きダイアフラム４１は圧縮ばね４６のばね力によシ大気
圧室４５側に移動するのでロータリ弁２５が分岐路２４
を閉鎖する。一方、電磁制御弁４８のソレノイド５５が
付勢されると弁体５３が大気ポート５２を閉鎖すると共
に負圧ポート５１を開口するので負圧ダイアフラム装置
４０の負圧室４４内には負圧アキームレータ４９内の負
圧が加わる。このときダイアフラム４１は圧縮ばね４，
６に抗して負王室冒 ４４に向けて移動するためにロータリ弁２５は回動せし
められて分岐路２４を全開する。前述したように電磁制
御弁４８０ソレノイド５５はダウンカウントが行なわれ
ている間、即ち５−Ｒ７リツプフロツゾ７２の出力端子
Ｑに表われる電圧が高レベルのとき付勢される。従って
電磁制御弁４８の弁体５３が負圧ポート５１を開口しか
つ大気ポート５２を閉鎖する時間割合はソレノイド５５
に印加されるパルスのデユーティ−サイクルに比例する
。弁体５３が負圧ポート５１を開口しかつ大気ポート５
２を閉鎖する時間が長くなればなる根負圧ダイアフラム
装置４０の負圧室４４内の負圧が犬きくなシ、ロータリ
弁２５の開口面積が大きくなる。従ってロータリ弁２５
の開口面積はソレノイド５５に印加されるパルスのデユ
ーティ−サイクルが大きくなるほど大きくなることがわ
かる。

第１３図はロータリ弁２５の開口面積と、機関回転数Ｎ
並びに吸気管負圧Ｐとの好ましい関係を示している。第
１３図において縦軸は機関回転数Ｎ（ｒ、ｐ、ｍ）を示
し　横軸は吸気管負圧Ｐ（−ｍｒｎＨｇ）、ｉ・：：、
、３ を示している。また、ハツチングを付した曲線Ｓ。

の上部領域はロータリ弁全開領域を示し、ハツチングを
付した曲線Ｓ１の下方領域はロータリ弁全閉領域を示し
、代表的に２本のみ示した曲線ｓ２゜Ｓ３はロータリ弁
の等開口面積曲線を示している。

なお、第１３図においてロータリ弁の開口面積はＳｌか
ら８．、Ｓ、を経てＳｏに向かうに従って徐々に大きく
なる。第１３図に示す機関回転数Ｎ並びに吸気管負圧Ｐ
と、ロータリ弁の開口面積Ｓとの好ましい関係は関数或
いはデータテーブルの形で予めＲＯＭ６４内に記憶され
ている。

第１１図は本発明による流路制御装置の作動を説明する
ためのフローチャートを示している。第１１図において
ステップ８０は流路制御が時間割込みで行なわれている
ことを示している。まず始めにステラｆ８１において回
転数センサ６１の出力信号をＭＰＵ６２内に入力して機
関回転数を計算し、次いでステラｆ８２において負圧セ
ンサ５８の出力信号をＭＰＵ６２内に入力する。次いで
ステップ８３では計算された機関回転数Ｎ並びに負圧Ｐ
に基いてＲＯＭ６４内に記憶された第１３図の関係から
ロータリ弁２５の目標開口面積ＳＳを計算する。次いで
ステ、ｆ８４においてポテンショメータ５９の出力信号
をＭＰＵ６２内に入力して現在のロータリ弁２５の開口
面積Ｓを計算する。次いでステップ８５において目標開
口面積ｓｓが現在の開口面積Ｓよｐも大きいか否かが判
別される。ステツノ８５において目標開口面積ｓｓが現
在の開口面積Ｓよシも大きいと判別されたときはステッ
プ８６において電磁制御弁４８のソレノイド５５に印加
すべきパルスのパルス巾ＰＬに一定値Ａが加算され、こ
の加算結果をＰＬとしてステップ８７に進む。一方、ス
テップ８５において目標開口面積ＳＳが現在の開口面積
ｓ、Ｈも大きくないと判別されたときはステップ８８に
進み、ステップ８８において目標開口面積Ｓｓが現在の
開口面積Ｓよりも小さいか否かが判別される。ステップ
８８において目標開口面積ＳＳが現在の開口面積Ｓより
も小さいと判別されたときはステップ８９においてノｆ
ルス巾ＰＬから一定値Ａを減算し、この減算結果をＰＬ
としてステラ７’８７に計む。一方、ステップ８８にお
いて目標開口面積ｓｓが現在の開口面積Ｓよシも小さく
ないと判別されたとキハステップ８７に進む。ステップ
８７でハ斯くして得られたパルス巾ＰＬを表わす２進数
の駆動データを出力ポートロ６に書込み、この出力ポー
トロ６に書込まれた駆動データに基いて電磁制御弁４８
のソレノイド５５の付勢制御が行なわれる。

第１２図は電磁制御弁４８のソレノイド５５に印加され
る・母ルスを示しておシ、このパルスが発生している間
ソレノイド５５が付勢される。前述したようにロータリ
弁２５の現在の開口面積Ｓが目標開口面積ＳＳよシも小
さなときには第１２図に示すように開口面積が目標開口
面積ＳＳに達するまでパルス巾が順次一定中づつ増大せ
しめられる。従ってソレノイド５５に印加されるパルス
のデユーティ−サイクルが次第に増大するために負圧ダ
イアフラム装置４０の負圧室４４内の負圧は次第に大き
くなシ、斯くして口」クリ弁２５が回※１ 動して目標開口面積ＳＳとなる。・なお、第１３図から
れかるように機関低負荷低速運転時、機関高負荷低速運
転時並びに機関低負荷高速運転時にはＳ−Ｒフリッグフ
ロッゾ７２の出力電圧が継続的に低レベルとなるために
ソレノイド５５が消勢さノ１一つづけ、斯くしてロータ
リ弁２５が分岐路２４を閉鎖し続ける。一方、機関高速
高負荷運転時にはＳ−Ｒフリッゾフロッ７’７２の出力
電圧が継続的に高レベルとなるためにソレノイド５５が
付勢されつづけ、斯くしてロータリ弁２５が分岐路２４
を全開し続ける。

上述したように吸入空気量の少ない機関低負荷低速運転
時、機関高負荷低速運転時並びに機関低負荷高速運転時
にはロータリ弁２５が亦岐路２４を閉鎖している。この
と責、入口通路部Ａ内に送り込まれた混合気の一部は土
壁面１９．２０に沿って進み、残シの混合気のうちの一
部の混合気はロータリ弁２５に衝突して入口通路部Ａの
側壁面１７の方へ向きを変えた後に渦巻部Ｂの側壁面１
５に沿って進む。晶述したように上壁面１９゜２０の巾
は狭窄部１″十に近づくに従って次第に狭くなるために
土壁面１’９．２０に沿って流れる混合気の流路は次第
に狭ばマシ、斯くして上壁面１９．２０に沿う混合気流
は次第に増速される。

更に、前述したように隔壁１２の第１側壁面１４ａは渦
巻部Ｂの側壁面１５の近傍まで延びているので上壁面１
９．２０に沿って進む混合気流は渦巻部Ｂの側壁面１５
上に押しやられ、次いで側壁面１５に沿って進むために
渦巻部Ｂ内には強力な旋回流が発生せしめられる。次い
で混合気は旋回しつつ吸気弁５とその弁座間に形成され
る間隙を通って燃焼室４内に流入して燃焼室４内に強力
な旋回流を発生せしめる。

一方、吸入空気量が増大すると、ロータリ弁２５は第４
図の破線で示すように開弁する。このときロータリ弁２
５の弁体縁部３１ｍと凹溝２７＆の壁面間は閉鎖されて
おシ、従って弁体縁部３１ｂと隔壁１２の第２側壁面１
４ｂ間を通って混合気が分岐路２４内に流入する。次い
でこの混合気は第２側壁面１４ｂに沿って渦巻部Ｂ内に
流入する。

従って分岐路２４内から渦巻部Ｂ内に流入する混合気は
渦巻部Ｂの側壁面１５に沿って進む旋回混合気流と正面
から衝突することなく燃焼室４内に流入する。斯くして
渦巻部Ｂに発生した旋回流は弱められることがないので
強力な旋回流を発生でき、更に流路面積が増大せしめら
れるので充填効率が高められることになる。

一方、機関高速高負荷運転時にはロータリ弁２５が開弁
するので入口通路部Ａ内に送９込まれた混合気の一部は
流れ抵抗の小さな分岐路２４を介して渦巻部Ｂ内に送シ
込まれ、斯くして高い充填効率を得ることができる。

また、本発明によるヘリカル型吸気ポートは吸気ポート
６の土壁面上に隔壁１２を一体成形すればよいのでヘリ
カル型吸気ホードを容易に製造することができる。

以上述べ念ように本発明によれば機関低速低負荷運転時
には分岐路を遮断して多量の混合気を渦巻部の土壁面に
沿って流すことによ９強力な旋回流を燃焼室内に発生せ
しめることができる。また、吸入空気量が比較的多いと
きにはロータリ弁をわずかばかシ開弁して混合気の一部
を隔壁の第２側壁面に沿って流すことによシ強力な旋回
流を発生させつつ充填効率を高めることができる。更に
、吸気ポート内には隔壁が突出しているだけなので吸気
ポートの流れ抵抗は小さく、斯くして機関高速高負荷運
転時には高い充填効率を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は第２図のＩ−１線に沿ってみた本発明に係る内
燃機関の側面断面図、第２図は第１図の■−■線に沿っ
てみた平面断面図、第３図は本発明によるヘリカル型吸
気ポートの形状を図解的に示す側面図、第４図はヘリカ
ル型吸気ポートの形状を図解的に示す平面図、第５図は
第３図のＶ−Ｖ線に沿ってみた断面図、第６図は第３図
の■−■線に沿ってみた断面図、第７図は第３図の■−
■線に沿ってみた断面図、第８図は第３図の■−■線に
沿ってみた断面図、第９図はロータリ弁の側面断面図、
第１０図はロータリ掩の駆動制御装置を示す図、第１１
図はロータリ・弁駆動装置の作動を説明するためのフロ
ーチャート、第１２図は電磁制御弁のソレノイドに印加
されるパルスを示す線図、第１３図はロータリ弁の開口
面積を示す図である。 ４・・・燃焼室、６・・・ヘリカル型吸気ポート、１２
・・・隔壁、２４・・・分岐路、２５・・・ロータリ弁
、４０・・・負圧ダイアフラム装置、４８・・・電磁制
御弁。 特許出願人 トヨタ自動車工業株式会社 特許出願代理人 弁理士　青　木　　　朗 弁理士西舘和之 昶土中山恭介 昶十山口昭之 １７７ 第５図　　　　　第６図 ２４Ｗ／、６７Ｉｇ　　　　“°図 脣ｒ巴■ト１；°欺万下とＷ ｌＧ 第１２図 第１３図 ビ（−ｒｒｗｎヒロ）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 吸気弁周シに形成された渦巻部と、該渦巻部に接線状に
   接続されかつほぼまっすぐに延びる入口通路部とにより
   構成されたヘリカル型吸気ポートにおいて、上記入口通
   路部から分岐されて上記渦巻部の渦巻終端部に連通ずる
   分岐路を上記入口通路部に併設し、吸気ポート上壁面か
   ら下方に突出しかつ入口通路部から吸気弁ステム周ｐま
   で延びる隔壁によって該分岐路が入口通路部から分離さ
   れ、該分岐路の下側空間全体が横断面内において上記入
   口通路部に連通ずると共に該入口通路部と分岐路との連
   部壁を一体的に連結形成し、上記隔壁に対面する分岐路
   側壁面上に部分円筒形の凹溝を形成すると共に該分岐路
   内にロータリ弁をロータリ弁縁辺が該凹溝の円筒壁面上
   を密封的に移動するように配置し、更に該ロータリ弁を
   アクチーエータに連結して機関回転数、又は機関負荷の
   増大に応じて該ロータリ弁を開弁せしめるようにしたヘ
   リカル型吸気ポート。