JPS5820418B2 - 乾式画像形成材料の製造方法 - Google Patents
乾式画像形成材料の製造方法Info
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- JPS5820418B2 JPS5820418B2 JP52135678A JP13567877A JPS5820418B2 JP S5820418 B2 JPS5820418 B2 JP S5820418B2 JP 52135678 A JP52135678 A JP 52135678A JP 13567877 A JP13567877 A JP 13567877A JP S5820418 B2 JPS5820418 B2 JP S5820418B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、熱現像で画像形成が可能な乾式銀画像形成材
料の製造方法に関するものである。
料の製造方法に関するものである。
さらに詳しくは、予備力ロ熱することにより、はじめて
感光性が付与される乾式銀画像形成材料(以下、本発明
では、これを後活性型乾式銀画像形成材料と呼ぶ)の製
造方法に関するものである。
感光性が付与される乾式銀画像形成材料(以下、本発明
では、これを後活性型乾式銀画像形成材料と呼ぶ)の製
造方法に関するものである。
従来から一般に使用されているハロゲン化銀写真材料は
、安定な画像を得るためには種々の薬液処理が必要であ
り、手間と時間がか5す、さらに処理液の公害問題など
の欠点があった。
、安定な画像を得るためには種々の薬液処理が必要であ
り、手間と時間がか5す、さらに処理液の公害問題など
の欠点があった。
したがって、薬液処理を必要とせずに乾式処理のみで、
安定な画像を形成できる高感度の写真材料が要望されて
いた。
安定な画像を形成できる高感度の写真材料が要望されて
いた。
特公昭43−4921号、特公昭43−4924号公報
には、有機銀塩、還元剤1.オよび感光性ハロゲン化銀
からなる乾式銀画像形成材料が記載されている。
には、有機銀塩、還元剤1.オよび感光性ハロゲン化銀
からなる乾式銀画像形成材料が記載されている。
しかしながら、この材料は生安定性が悪く、冷暗所保存
が必要であり、かつ明室では材料の製造2よび取り扱い
ができないという欠点があった。
が必要であり、かつ明室では材料の製造2よび取り扱い
ができないという欠点があった。
特開昭48−51626号公報2よび特開昭48−80
030号公報には、明室で取り扱いが可能な後活性型乾
式銀画像形成材料が記載されている。
030号公報には、明室で取り扱いが可能な後活性型乾
式銀画像形成材料が記載されている。
しかしながら、これらの材料は、生安定性が悪く、感度
が低いという欠点、さらには有機ハロアミド化合物を使
用する場合には、感光波長領域が近紫外部だけに限ら汀
■褐という欠点があった。
が低いという欠点、さらには有機ハロアミド化合物を使
用する場合には、感光波長領域が近紫外部だけに限ら汀
■褐という欠点があった。
本発明の目的は、後活性型乾式銀画像形成材料の生安定
性、特に高温高湿条件下の生安定性の向上にある。
性、特に高温高湿条件下の生安定性の向上にある。
また別の目的は、後活性型乾式銀画像形成材料の感度の
増加にある。
増加にある。
また別の目的は、後活性型乾式銀画像形成材料の分光感
度の増大にある。
度の増大にある。
本発明者らは、前述の如き後活性型乾式銀画像形成材料
の欠点を解決し、上記目的を達成すべ(鋭意研究した結
果、後活性型乾式銀画像形成材料の塗布工程中あるいは
後に光照射を施すことにより、感度、生安定性3よび感
光波長領域が増大されることを見い出し、本発明をなす
に至った。
の欠点を解決し、上記目的を達成すべ(鋭意研究した結
果、後活性型乾式銀画像形成材料の塗布工程中あるいは
後に光照射を施すことにより、感度、生安定性3よび感
光波長領域が増大されることを見い出し、本発明をなす
に至った。
ハロゲン化銀写真に8いては、副露光効果なる前露光に
よる増感効果かあるが、これはかぶりの増加を伴うコン
トラスの低下によるわずかな増感であり、本発明の如き
著しい増感2よび生安定性の向上、感光波長領域の増大
はない。
よる増感効果かあるが、これはかぶりの増加を伴うコン
トラスの低下によるわずかな増感であり、本発明の如き
著しい増感2よび生安定性の向上、感光波長領域の増大
はない。
したがって、本発明のかぶりの増加を伴なわない著しい
増感、生安定性の向上、および感光波長領域の増大は驚
くべきことである。
増感、生安定性の向上、および感光波長領域の増大は驚
くべきことである。
本発明の光照射は、塗布工程中あるいは後に行なわれる
。
。
光照射は前記成分(a)、成分(b)、成分(c)ぢよ
び成分(d)を含有する層に対して施される。
び成分(d)を含有する層に対して施される。
また成分(a)、成分(b)gよび成分Cc)を含有す
る層の上に成分(d)の層を設ける場合には、成分(a
)、成分Cb)ぢよび成分Cc)を含有する層に対して
光照射を施した後に、成分(d)の層を設けてもよいし
、成分け)を成分(a)、成分(b)8よび成分(c)
を含有する層の上に設けた後に、光照射を施してもよい
。
る層の上に成分(d)の層を設ける場合には、成分(a
)、成分Cb)ぢよび成分Cc)を含有する層に対して
光照射を施した後に、成分(d)の層を設けてもよいし
、成分け)を成分(a)、成分(b)8よび成分(c)
を含有する層の上に設けた後に、光照射を施してもよい
。
光照射に用いる光源は、ハロゲンランプ、キセノンラン
プ、ケイ光灯、水銀灯等の500nm以下の波長の光を
発するものが、より有効である。
プ、ケイ光灯、水銀灯等の500nm以下の波長の光を
発するものが、より有効である。
露光量は106〜1091’uxsec程度が適当量で
ある。
ある。
光照射を施す際の温度は、本発明の材料が後活性型乾式
銀画像形成材料であるので、感光性を付与されるほどの
高温度であってはならない。
銀画像形成材料であるので、感光性を付与されるほどの
高温度であってはならない。
50°C以下の温度が好ましい。
本発明に用いられる成分(a)の有機銀塩としては、従
来から当分野で知られているものが使用できる。
来から当分野で知られているものが使用できる。
代表的な化合物としては、たとえば、ベヘン酸銀、アラ
キシン酸銀、ステアリン酸銀、パルミチン酸銀、ミIJ
スチン酸銀、ラウリン酸銀等の脂肪族酸の銀塩を挙げる
ことができる。
キシン酸銀、ステアリン酸銀、パルミチン酸銀、ミIJ
スチン酸銀、ラウリン酸銀等の脂肪族酸の銀塩を挙げる
ことができる。
有機銀塩の使用量は約0,5〜10 g/m2が好まし
い。
い。
有機銀塩と反応して加熱により感光性銀化合物を形成す
る化合物または組成物である成分(b)について説明す
ると、本発明でいう感光性銀化合物とは、ハロゲン化銀
に限らず、銀イオンおよび他の元素イオンを含む錯塩や
錯体をも意味する。
る化合物または組成物である成分(b)について説明す
ると、本発明でいう感光性銀化合物とは、ハロゲン化銀
に限らず、銀イオンおよび他の元素イオンを含む錯塩や
錯体をも意味する。
成分(b)としては、(イ)有機ハロアミド、(ロ)沃
素?よび下記に示されるような&J硫黄を除く原子番号
14以上の周期律表■族、■族、■族のいずれかの元素
を含む有機成分およびハロゲン成分を含む化合物である
。
素?よび下記に示されるような&J硫黄を除く原子番号
14以上の周期律表■族、■族、■族のいずれかの元素
を含む有機成分およびハロゲン成分を含む化合物である
。
成分(b)O使用量は、有機銀塩に対して0.01〜0
.5モルが好ましい。
.5モルが好ましい。
(イ)〜(/うで示されるものを2種以上併用すること
もできる。
もできる。
上記(イ)の有機ハロアミド化合物は−CONX−1ま
たは一8O□NX−(XはCg、Br、Iを表す)で示
される単位を含有する化合物である。
たは一8O□NX−(XはCg、Br、Iを表す)で示
される単位を含有する化合物である。
有機ハロアミド化合物の具体例として、N−クロロアセ
トアミド、N−プロモサクシンイミド、N−ヨードアセ
トアミド、N−クロロフタルイミド、N−ブ晒モモフタ
ルイミドN−ヨードフクルイミド、N−クロロフタラジ
ノン、N−ブロモフタラジノン、N−ヨードフタラジノ
ン、N−クロロアセトアミド、N−ブロモアセトアミド
、N−ヨードアセトアミド、N−クロロアセトアニリド
、N−ブロモアセトアニリド、N−ヨードアセトアニリ
ド、1−クロロ−3,5,5−1−ウメチル−2,4−
イミダプリジンジオン、1−ブロモ−3,5,5−トリ
メチル−2,4−イミダゾリジンジオン、1−ヨード−
3,5,5−1−リメチル−2,4−イミダゾリジンジ
オン、1,3−ジクロロ−5,5−ジメチル−2,4−
イミダゾリジンジオン、1,3−ジブロモ−5,5−ジ
メチル−2,4−イミダゾリジンジオン、1,3−ショ
ート−5,5−ジメチルイミダゾリジンジオン、N、N
−ジクロロベンゼンスルフォンアミド、N。
トアミド、N−プロモサクシンイミド、N−ヨードアセ
トアミド、N−クロロフタルイミド、N−ブ晒モモフタ
ルイミドN−ヨードフクルイミド、N−クロロフタラジ
ノン、N−ブロモフタラジノン、N−ヨードフタラジノ
ン、N−クロロアセトアミド、N−ブロモアセトアミド
、N−ヨードアセトアミド、N−クロロアセトアニリド
、N−ブロモアセトアニリド、N−ヨードアセトアニリ
ド、1−クロロ−3,5,5−1−ウメチル−2,4−
イミダプリジンジオン、1−ブロモ−3,5,5−トリ
メチル−2,4−イミダゾリジンジオン、1−ヨード−
3,5,5−1−リメチル−2,4−イミダゾリジンジ
オン、1,3−ジクロロ−5,5−ジメチル−2,4−
イミダゾリジンジオン、1,3−ジブロモ−5,5−ジ
メチル−2,4−イミダゾリジンジオン、1,3−ショ
ート−5,5−ジメチルイミダゾリジンジオン、N、N
−ジクロロベンゼンスルフォンアミド、N。
N−ジブロモベンゼンスルフォンアミド、N−ブロモ−
N−メチルベンゼンスルフォンアミド、N−クロロ−N
−メチルベンゼンスルフォンアミド、N、N−ショート
ベンゼンスルフォンアミド、N−ヨード−N−メチルベ
ンゼンスルフォンアミド。
N−メチルベンゼンスルフォンアミド、N−クロロ−N
−メチルベンゼンスルフォンアミド、N、N−ショート
ベンゼンスルフォンアミド、N−ヨード−N−メチルベ
ンゼンスルフォンアミド。
1.3−ジクロロ−4,4−ジメチルヒダントイン、1
.3−ジブロモ−4,4−ジメチルヒダントイン、1.
3−ショート−4,4−ジメチルヒダントイン等を挙げ
ることができる。
.3−ジブロモ−4,4−ジメチルヒダントイン、1.
3−ショート−4,4−ジメチルヒダントイン等を挙げ
ることができる。
上記(ハ)の化合物としては、たとえば
等を挙げることができる。
上式中でXはCl、Br■を表わす。
(ハ)の化合物は、有機成分と元素が結合した下記構造
の有機元素化合物および(イ)あるいは←)の化合物と
を、単に混合して形成することができる。
の有機元素化合物および(イ)あるいは←)の化合物と
を、単に混合して形成することができる。
有等を挙げることができる。
成分(c)のハロゲン元素を含有する感光性有機酸化剤
としては、特開昭48−45228号、特開昭50−1
19624号、特開昭50−120328号に示されて
いる如き、1.2.3.4.−テトラブロモブタン、ヘ
キサブロモジクロー−キサン、2,2.2−トリブロモ
キナルジン、2−ブロモアセトフェノン、α−ヨード−
γ−ニトローβ−フェニルブチロフェノン、2−トリブ
ロモメチルスルホニルベンゾチアゾール、2,4−ビス
(トリブロモメチル)−6−メfルー5−トIJアジン
、0−ベンジルジブロマイド、およびその類似/’%0
ゲン化合物を挙げることができる。
としては、特開昭48−45228号、特開昭50−1
19624号、特開昭50−120328号に示されて
いる如き、1.2.3.4.−テトラブロモブタン、ヘ
キサブロモジクロー−キサン、2,2.2−トリブロモ
キナルジン、2−ブロモアセトフェノン、α−ヨード−
γ−ニトローβ−フェニルブチロフェノン、2−トリブ
ロモメチルスルホニルベンゾチアゾール、2,4−ビス
(トリブロモメチル)−6−メfルー5−トIJアジン
、0−ベンジルジブロマイド、およびその類似/’%0
ゲン化合物を挙げることができる。
成分(d)の還元剤としては、当分野で周知の種々のも
のが適用できる。
のが適用できる。
たとえば、置換フェノール類、置換または非置換ビスお
よびトリスフェノール類、ジもしくはポリヒドロキシベ
ンゼン類、ジもしくはポリヒドロキシナフタレン類等が
ある。
よびトリスフェノール類、ジもしくはポリヒドロキシベ
ンゼン類、ジもしくはポリヒドロキシナフタレン類等が
ある。
具体例としては、p−t−ブチルフェノール、2゜6−
ジーt−ブチル−p−クレゾール、p−フェニルフェノ
ール、■、1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチ
ルフェニル) −5,5−トリメチルヘキサン、ビス(
2−ヒドロキシ−3−1−ブチル−5−メチルフェニル
)メタン、ビス(2−ヒドロキシ−3,5−シー t−
ブチルフェニル)メタン、2.6−メチレンビス(2−
ヒドロキシ−3−1−フチルー5−メチルフェニル)−
4−メチルフェノール、ビス(2−ヒドロキシ−3−t
−ブチル−5−エチルフェニル)メタン、2.2−ジヒ
ドロキシ−1,1′−ビナフチル、ビス(2−ヒドロキ
シ−1−ナフチル)メタン、α−ナフトール、ハイドロ
キノン、t−ブチルハイドロキノン、2.6−ジクロロ
−4−ベンセ゛ンスルフオンアミドフェノール、2,5
−ジ−t−ブチル−4−メトキシフェノール等を挙げる
ことができる。
ジーt−ブチル−p−クレゾール、p−フェニルフェノ
ール、■、1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチ
ルフェニル) −5,5−トリメチルヘキサン、ビス(
2−ヒドロキシ−3−1−ブチル−5−メチルフェニル
)メタン、ビス(2−ヒドロキシ−3,5−シー t−
ブチルフェニル)メタン、2.6−メチレンビス(2−
ヒドロキシ−3−1−フチルー5−メチルフェニル)−
4−メチルフェノール、ビス(2−ヒドロキシ−3−t
−ブチル−5−エチルフェニル)メタン、2.2−ジヒ
ドロキシ−1,1′−ビナフチル、ビス(2−ヒドロキ
シ−1−ナフチル)メタン、α−ナフトール、ハイドロ
キノン、t−ブチルハイドロキノン、2.6−ジクロロ
−4−ベンセ゛ンスルフオンアミドフェノール、2,5
−ジ−t−ブチル−4−メトキシフェノール等を挙げる
ことができる。
還元剤の量は、有機銀塩や還元剤の種類によっても変化
するが、一般的には、有機銀塩1モル当り約0,1〜5
モルが適当である。
するが、一般的には、有機銀塩1モル当り約0,1〜5
モルが適当である。
還元剤は感光層に予め含有させて8くか、あるいは感光
層表面に塗布してもよい。
層表面に塗布してもよい。
上記の各成分の他に、当分野で周知の調色剤、熱かぶり
防止剤、増感剤、分光増感色素等を使用することは、本
発明にとって好ましい。
防止剤、増感剤、分光増感色素等を使用することは、本
発明にとって好ましい。
たとえば、フタラジノン、酢酸水銀、1−メチルピロリ
ドン、メロシアニン色素、それぞれ調色、熱かぶり防止
、増感、分光増感の目的に有用である。
ドン、メロシアニン色素、それぞれ調色、熱かぶり防止
、増感、分光増感の目的に有用である。
本発明に8いて使用される各成分は、バインダー中に分
散される。
散される。
バイくダーは当分野で周知の種々のものが適用できる。
たとえばポリビニルブチラール、ポリビニルアルコ−ル
、ポリアクリルアミド、ポリメチルメタアクリレート、
ポリ酢酸ビニル、エチルセルロース、セルロースアセテ
ート、セルロースアセ7−ト7’チレート、セルロース
アセテートプロピオネート、ポリスチレン、ポリビニル
ピロリドン、ポリイソプレン、ブタジエンースチレンコ
ポリマー、酢酸ビニル−塩化ビニルコポリマー、ポリビ
ニルアルコール、ゼラチン等を挙げることができる。
、ポリアクリルアミド、ポリメチルメタアクリレート、
ポリ酢酸ビニル、エチルセルロース、セルロースアセテ
ート、セルロースアセ7−ト7’チレート、セルロース
アセテートプロピオネート、ポリスチレン、ポリビニル
ピロリドン、ポリイソプレン、ブタジエンースチレンコ
ポリマー、酢酸ビニル−塩化ビニルコポリマー、ポリビ
ニルアルコール、ゼラチン等を挙げることができる。
これらは2種以上混合して使用することもできる。
これらの使用量は、有機銀塩に対して約10対1〜1対
10重量比が適当である。
10重量比が適当である。
各成分は同一層中、あるいは異なった層にわけて分散さ
れてもよい。
れてもよい。
本発明に使用されうる支持体としては、広範囲な種類の
ものが使用できる。
ものが使用できる。
代表的なものとして、ポリエステルフィルム、セルロー
スエステルフィルム等のプラスチックフィルムまたはシ
ート・ガラス、紙、金属等のシートが挙げられる。
スエステルフィルム等のプラスチックフィルムまたはシ
ート・ガラス、紙、金属等のシートが挙げられる。
本発明の熱現像銀画像形成材料は、当分野で周知の種々
の塗布方法で塗布し、乾燥して得られる。
の塗布方法で塗布し、乾燥して得られる。
画像形成のための露光には各種光源が使用できる。
露光はカメラによる撮影でも、反射焼付でも、密着焼付
でも、引き伸し焼付でもよい。
でも、引き伸し焼付でもよい。
熱現像は通常80°C〜130°Cに2いて約1秒〜6
0秒で行なわれる。
0秒で行なわれる。
露光前あるいは露光しながら、80℃〜130℃で約1
秒〜5秒間の加熱を行なうことにより感光性を付与する
ことができる。
秒〜5秒間の加熱を行なうことにより感光性を付与する
ことができる。
感光性付与のための予備力p熱温度は、現像温度と同一
もしくは低くてよい。
もしくは低くてよい。
現像にしろ、予備力ロ熱にしろ、温度が高いほど時間は
短かくてよい。
短かくてよい。
露光しながら適当な温度ぢよび時間で加熱することによ
り、画像を一度の加熱で得ることもできる。
り、画像を一度の加熱で得ることもできる。
また光照射下に?いて像状力ロ熱することにより、感熱
材料としても使用できる。
材料としても使用できる。
以下実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、こ
れに限定されるものではない。
れに限定されるものではない。
実施例 1
べ−\ン酸8.5gをエタノール150m1に加熱・攪
拌しながら溶解させ、加熱攪拌を続けながら、これに水
酸化すl−IJウム1gを100−の水に溶解させて得
られた水酸化すt−IJウム水溶液を滴下し、ベヘン酸
ナトリウムを作成した。
拌しながら溶解させ、加熱攪拌を続けながら、これに水
酸化すl−IJウム1gを100−の水に溶解させて得
られた水酸化すt−IJウム水溶液を滴下し、ベヘン酸
ナトリウムを作成した。
次に熱水200m1をこれに加えて加熱攪拌を続けると
、ベー\ン酸すl−IJウムは完全に溶解する。
、ベー\ン酸すl−IJウムは完全に溶解する。
次に仕込みベヘン酸と当モル量の硝酸銀を含有する硝酸
酸性の水溶液を、加熱攪拌しながらこれに滴下した。
酸性の水溶液を、加熱攪拌しながらこれに滴下した。
溶解したベヘン酸すl−IJウムは、ベヘン酸銀に変換
され不溶化した。
され不溶化した。
これを濾過した後、熱水および熱エタノールで繰り返し
洗浄した。
洗浄した。
これを乾燥して使用した。
次にメチルエチルケトンとトルエンの2:1混合溶媒8
8重量部さ上記ベヘン酸銀12重量部を、24時間ホー
ルミリングしてベヘン酸銀分散液を作成した。
8重量部さ上記ベヘン酸銀12重量部を、24時間ホー
ルミリングしてベヘン酸銀分散液を作成した。
次にこのベヘン酸銀分散液6gに、ポリビニルブチラー
ルのメチルエチルケトン溶液(15重量係)4.72g
を力区、攪拌してベヘン酸分散ポリマー溶液を得た。
ルのメチルエチルケトン溶液(15重量係)4.72g
を力区、攪拌してベヘン酸分散ポリマー溶液を得た。
次に下記に示す成分CI、lを順次に攪拌しながら添加
して得られた乳剤を、100μ厚さのポリエステルフィ
ルム上に湿潤時で100μの厚さに塗布し、室温で乾燥
した。
して得られた乳剤を、100μ厚さのポリエステルフィ
ルム上に湿潤時で100μの厚さに塗布し、室温で乾燥
した。
成分CI、1
酢酸水銀メタノール溶液 0.6−(20”
910.6m) テトラブロモブタン 0.0969N−
ヨードサクシンイミド 0.049次に下記に
示す成分C11lの溶液を湿潤時で100μの厚さに上
塗りし、室温で乾燥した。
910.6m) テトラブロモブタン 0.0969N−
ヨードサクシンイミド 0.049次に下記に
示す成分C11lの溶液を湿潤時で100μの厚さに上
塗りし、室温で乾燥した。
成 分 〔旧
アセトン 83g酢酸セルロ
ール 0.6:1フクラジノン
0.14 g2.2/−メチレン
ビス(4−エチル−0,35g6−t−ブチル)フェノ
ール 得られたフィルムを500Wキヤノンランプからの光で
照射(〜1081uxSeC)した。
ール 0.6:1フクラジノン
0.14 g2.2/−メチレン
ビス(4−エチル−0,35g6−t−ブチル)フェノ
ール 得られたフィルムを500Wキヤノンランプからの光で
照射(〜1081uxSeC)した。
光照射されたこのフィルム〔試料A〕を100℃で3秒
間予備加熱した後に、タングステンランプからの光(2
0001ux)でゴダック製の21段ステップタブレッ
トを通して1秒間露光し、次いで120°Cで5秒間加
熱現像して、鮮明な画像を得た。
間予備加熱した後に、タングステンランプからの光(2
0001ux)でゴダック製の21段ステップタブレッ
トを通して1秒間露光し、次いで120°Cで5秒間加
熱現像して、鮮明な画像を得た。
画像の光学密度と露光量から写真特性曲線を作成し、か
ぶり濃度よりも0.6大きい光学密度を与えるに必要な
露光量を求め、この逆数より相対感度を決定した。
ぶり濃度よりも0.6大きい光学密度を与えるに必要な
露光量を求め、この逆数より相対感度を決定した。
一方、予備乾燥前にキセノンランプでの光照射を施さな
かったフィルム〔試料B)にライても、同様にして相対
感度を求めた。
かったフィルム〔試料B)にライても、同様にして相対
感度を求めた。
両者の相対感度を比較した結果、試料Aの感度は試料B
の感度よりも4倍高感度であった。
の感度よりも4倍高感度であった。
本発明による光照射の増感効果は明白である。
実施例 2
実施例1と同様にして得られたべ・\ン酸銀分散ポリマ
ー溶液10.72.!9に、下記の成分(III)を順
次、攪拌しながら添加して得られた乳剤を、ポリエステ
ルフィルム上に湿潤時に100μの厚ミに塗布し、室温
で乾燥した。
ー溶液10.72.!9に、下記の成分(III)を順
次、攪拌しながら添加して得られた乳剤を、ポリエステ
ルフィルム上に湿潤時に100μの厚ミに塗布し、室温
で乾燥した。
成 分 (III)
酢酸水銀メタノール溶液 0.6yd(20
mV70.6m) テトラブロモブタン 0.0969トリ
フエニルホスフインジブロマイド0.03.!9トリフ
ェニルホスフインジアイオ 0.03.!i’ダイ
ド 次に実施例1で示した成分〔旧の溶液を湿潤時で100
μの厚さに上塗りし、室温で乾燥した。
mV70.6m) テトラブロモブタン 0.0969トリ
フエニルホスフインジブロマイド0.03.!9トリフ
ェニルホスフインジアイオ 0.03.!i’ダイ
ド 次に実施例1で示した成分〔旧の溶液を湿潤時で100
μの厚さに上塗りし、室温で乾燥した。
得られたフィルムを実施例1と同様にキセノンランプか
らの光で照射したものを試料Cとした。
らの光で照射したものを試料Cとした。
−力、キセノンランプからの光で照射しなかったフィル
ムを試料りとした。
ムを試料りとした。
次に、試料(Jよび試料りを50℃、相対湿度90%条
件下で、遮光することなく明るく保ったま5で保存して
、生フィルムの強制劣化テストを行なった後に、実施例
1と同じく100°C3秒で予備770熱を行ない、ス
テップタブレットを通して露光し、120℃5秒で加熱
現像した。
件下で、遮光することなく明るく保ったま5で保存して
、生フィルムの強制劣化テストを行なった後に、実施例
1と同じく100°C3秒で予備770熱を行ない、ス
テップタブレットを通して露光し、120℃5秒で加熱
現像した。
試料Cと試料りのかぶり濃度を比較した結果を表1に示
す。
す。
508C90%RHでの保存日数とかぶり濃度0 日
1 日 2 日試料CO,060,
060,06 試料D O,060,120,60 50°C90%RH条件下における生フィルムの安定性
向上に対する本発明の効果は、試料Cの結果より明白で
ある。
1 日 2 日試料CO,060,
060,06 試料D O,060,120,60 50°C90%RH条件下における生フィルムの安定性
向上に対する本発明の効果は、試料Cの結果より明白で
ある。
実施例 3
実施例1と同様にして得られたベヘン酸銀分散ポリマー
溶液に、下記に示す成分CIV)を順次攪拌しながら添
力pして得られた乳剤をポリエステルフィルム上に湿潤
時で100μの厚みに塗布し室温で乾燥した。
溶液に、下記に示す成分CIV)を順次攪拌しながら添
力pして得られた乳剤をポリエステルフィルム上に湿潤
時で100μの厚みに塗布し室温で乾燥した。
成 分 (IV〕
酢酸水銀メタノール溶液 0.6 rrLe(20
7nli / 0.6 d ) テトラブロモブタン 0.0969トリフエニ
ルホスフアイト 0.025μ沃 素
0.0691−メチルピロリドン
1.69次に、1.5 KW水銀ランプからの光で照
射した後に、実施例1に示した成分〔■〕の溶液を湿潤
時100μの厚さに上塗りし、室温で乾燥したものを試
料Eとした。
7nli / 0.6 d ) テトラブロモブタン 0.0969トリフエニ
ルホスフアイト 0.025μ沃 素
0.0691−メチルピロリドン
1.69次に、1.5 KW水銀ランプからの光で照
射した後に、実施例1に示した成分〔■〕の溶液を湿潤
時100μの厚さに上塗りし、室温で乾燥したものを試
料Eとした。
一刀、水銀ランプからの光で照射せずに、成分(II)
の溶液を湿潤時100μの厚さに上塗りし、室温で乾燥
したものを試料Fとした。
の溶液を湿潤時100μの厚さに上塗りし、室温で乾燥
したものを試料Fとした。
試料Eおよび試料Fを100℃3秒で予備加熱した後に
、500Wキセノンランプからの光をモノクロメータ−
(島津ボッシュロムグレーティング1200)に通し、
251m毎に波長300nmから700 nmまでを増
して露光し、次いで120°C5秒で加熱現像して各試
料の分光感度を決定した。
、500Wキセノンランプからの光をモノクロメータ−
(島津ボッシュロムグレーティング1200)に通し、
251m毎に波長300nmから700 nmまでを増
して露光し、次いで120°C5秒で加熱現像して各試
料の分光感度を決定した。
その結果、試料Eは600 nmまでの光に感光するの
に対し、試料Fは500 nmまでの光にしか感光しな
かった。
に対し、試料Fは500 nmまでの光にしか感光しな
かった。
。この結果、本発明の分光増感に対する効果は明白であ
る。
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 少なくとも(a)有機銀塩、(b)成分(a)の有
機銀塩と反応して加熱により感光性銀化合物を形成する
(イ)有機ハロアミドと(U:J)ヨウ素分′f−sよ
び(ハ)下記の一般式 %式% はAsを表わし、R、R/、 R//は未置換または置
換アリール基、未置換または置換アルキル基、あるいは
ベンジル基を表わシ、171 r n t Or pは
m + n + o + p = 3または4または5
になるような組合せであり、Xは塩素、臭素またはヨウ
素を表わす)で示される化合物や、 (Xは塩素、臭素またはヨウ素を表わす)で示される化
合物の中から選ばれた少なくとも1つの分子もしくはハ
ロゲン化合物、(C) 1.2.3.4−テトラブロモ
ブタン、ヘキサブロモシクロヘキサン、2゜2、2−1
− IJ フロモキナルジン、2−フ宅モアセトフエノ
ン、α−ヨード−γ−ニトローβ−フェニルフチロフエ
ノン、2−トリブロモメチルスルホニルベンゾチアゾー
ル、2,4−ビス(MJ’7’Oモメチル)−6−メチ
ル−5−トリアジン、0−ベンジルシフ七マイトの中か
ら選ばれた少なくとも1つの有機ハライド化合物であっ
て、その化合物に含有されるハロゲン元素と、成分(b
)に含有されるハロゲン元素とは、互い番(異なったハ
ロゲン元素同士の組合せを少なくとも一組含むように選
択された有機ハライド化合物、(d)還元剤からなる後
活性型乾式銀画像形成材料であって、塗布工程中あるい
は後に、50℃以下の温度で106〜109ルクス・秒
の光量の光照射を施すことを特徴とする該材料の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52135678A JPS5820418B2 (ja) | 1977-11-14 | 1977-11-14 | 乾式画像形成材料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52135678A JPS5820418B2 (ja) | 1977-11-14 | 1977-11-14 | 乾式画像形成材料の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5469426A JPS5469426A (en) | 1979-06-04 |
JPS5820418B2 true JPS5820418B2 (ja) | 1983-04-22 |
Family
ID=15157360
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52135678A Expired JPS5820418B2 (ja) | 1977-11-14 | 1977-11-14 | 乾式画像形成材料の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5820418B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4665468A (en) * | 1984-07-10 | 1987-05-12 | Nec Corporation | Module having a ceramic multi-layer substrate and a multi-layer circuit thereupon, and process for manufacturing the same |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4880030A (ja) * | 1972-01-17 | 1973-10-26 | ||
JPS5273022A (en) * | 1975-12-16 | 1977-06-18 | Asahi Chemical Ind | Dry image forming material |
-
1977
- 1977-11-14 JP JP52135678A patent/JPS5820418B2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4880030A (ja) * | 1972-01-17 | 1973-10-26 | ||
JPS5273022A (en) * | 1975-12-16 | 1977-06-18 | Asahi Chemical Ind | Dry image forming material |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5469426A (en) | 1979-06-04 |
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