JPS58199744A - 反射防止ガラスの製造方法 - Google Patents
反射防止ガラスの製造方法Info
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- JPS58199744A JPS58199744A JP57083528A JP8352882A JPS58199744A JP S58199744 A JPS58199744 A JP S58199744A JP 57083528 A JP57083528 A JP 57083528A JP 8352882 A JP8352882 A JP 8352882A JP S58199744 A JPS58199744 A JP S58199744A
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- Japan
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- glass
- silica
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/40—Solar thermal energy, e.g. solar towers
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ガラスの反射率を低下させ、透過率を増大さ
せるために、ガラス表面にポーラスでシリカリッチな層
を均一に形成させる製造方法に関する。
せるために、ガラス表面にポーラスでシリカリッチな層
を均一に形成させる製造方法に関する。
更に詳細には、ガラスを珪弗化水素酸のシリカ過飽和水
溶液に浸漬などで接触させることＫより、ガラス表面の
シリカ以外の成分を選択的に溶出除去してシリカの骨格
層を残すようにした化学的エツチング方法において、ガ
ラス表面に生成するシリカ骨格層の屈折率を処理途中で
知ることにより、処理工程を制御することを特徴とする
反射防止ガラスの製造方法に関する。
溶液に浸漬などで接触させることＫより、ガラス表面の
シリカ以外の成分を選択的に溶出除去してシリカの骨格
層を残すようにした化学的エツチング方法において、ガ
ラス表面に生成するシリカ骨格層の屈折率を処理途中で
知ることにより、処理工程を制御することを特徴とする
反射防止ガラスの製造方法に関する。
近年、省エネルギー政策のため、太陽熱を利用する研究
が盛んに行われ、集熱効率を向上させた種々の太陽熱集
熱器が開発されている。この太陽熱集熱器は一般的には
、その集熱部を太陽に臨むべく、外部へ露出させるため
集熱部或いは集光部に損傷を与えないように、透過性の
すぐれたガラスの板、パイプ等でカバーされている。
が盛んに行われ、集熱効率を向上させた種々の太陽熱集
熱器が開発されている。この太陽熱集熱器は一般的には
、その集熱部を太陽に臨むべく、外部へ露出させるため
集熱部或いは集光部に損傷を与えないように、透過性の
すぐれたガラスの板、パイプ等でカバーされている。
該ガラスは、カバーとして機能するとともに太陽熱集熱
器の本来の目的を達成すべく、大量の光エネルギーを通
過させ、更には集熱器に吸収された熱エネルギーを外部
に放散することなく、確保するという機能を有さなけれ
ばならない。集熱器のカバー用ガラスが上記の如き機能
を果すことによって、太陽熱集熱器の集熱効率を一層向
上せしめることができるのである。実際には、集熱器が
吸収した熱エネルギーを確保するために、カバー用ガラ
スを二層にして設けるのが一般的である。
器の本来の目的を達成すべく、大量の光エネルギーを通
過させ、更には集熱器に吸収された熱エネルギーを外部
に放散することなく、確保するという機能を有さなけれ
ばならない。集熱器のカバー用ガラスが上記の如き機能
を果すことによって、太陽熱集熱器の集熱効率を一層向
上せしめることができるのである。実際には、集熱器が
吸収した熱エネルギーを確保するために、カバー用ガラ
スを二層にして設けるのが一般的である。
一方、カバー用ガラスにおいてより多くの光エネルギー
を通過せしめるために、ガラス自体の反射率を低下させ
る必要がある。特にカバー用ガラスによる太陽光の反射
損失は、ガラス一枚で集熱器に照射される全エネルギー
の７〜ｇ％、従って二層のガラスでは／−〜ｌＩ１％に
達するため、ガラスの反射による損失を低下せしめ、透
過率を増大させることは、集熱器の集熱効率の向上に大
きく寄与する。
を通過せしめるために、ガラス自体の反射率を低下させ
る必要がある。特にカバー用ガラスによる太陽光の反射
損失は、ガラス一枚で集熱器に照射される全エネルギー
の７〜ｇ％、従って二層のガラスでは／−〜ｌＩ１％に
達するため、ガラスの反射による損失を低下せしめ、透
過率を増大させることは、集熱器の集熱効率の向上に大
きく寄与する。
従来、ガラスの反射率を低下せしめる方法として、ガラ
スの表面に真空蒸着法によって弗化マグネシウム等の低
屈折率薄膜をコーティングする方法があるが、この方法
は主に、レンズ・フィルター等の小型の精密光学部品に
使用されるもので、装置の構造上、及びコスト的に太陽
熱集熱器のカバーガラスの如き大型のものに使用するこ
とは困難である。
スの表面に真空蒸着法によって弗化マグネシウム等の低
屈折率薄膜をコーティングする方法があるが、この方法
は主に、レンズ・フィルター等の小型の精密光学部品に
使用されるもので、装置の構造上、及びコスト的に太陽
熱集熱器のカバーガラスの如き大型のものに使用するこ
とは困難である。
大型のガラスの反射率を低減し、透過率を増大せしめる
方法として、ニコルらによる米国特許第、２１４．４（
ｊ／号、トムセンによる米国特許第２９９０．ｔ６２号
に開示された珪弗化水素酸のシリカ過飽和水溶液を利用
するエツチング方法がある。
方法として、ニコルらによる米国特許第、２１４．４（
ｊ／号、トムセンによる米国特許第２９９０．ｔ６２号
に開示された珪弗化水素酸のシリカ過飽和水溶液を利用
するエツチング方法がある。
この方法によれば、ガラスを上記水溶液中に浸漬し、ガ
ラス成分であるアルカリ及びアルカリ土類金属酸化物を
ガラス表面から取り除き、シリカ成分のみを選択的に残
すことによって多孔質のシリカスケルトンからなる厚み
が０．／μ前後の極めて薄い層をガラス表面に形成する
ことにより反射率が低減された反射防止ガラスが得られ
る。
ラス成分であるアルカリ及びアルカリ土類金属酸化物を
ガラス表面から取り除き、シリカ成分のみを選択的に残
すことによって多孔質のシリカスケルトンからなる厚み
が０．／μ前後の極めて薄い層をガラス表面に形成する
ことにより反射率が低減された反射防止ガラスが得られ
る。
ところで上述の公知のエツチング方法による処理では、
処理液は珪弗化水素酸のシリカ過飽和水溶液であるが、
処理する時には、これに微量のホウ酸又はフッ化カリウ
ムを添加して液の状態を調整する。ホウ酸は処理液中に
存在するフッ素イオンを減少させ、フッ化カリウムは逆
に増加させると考えられる。液の状態が処理に適してい
る時、処理後のガラスは未処理ガラスと比較して、太陽
光透過率が約５％増加するが、このような液の状態は、
ホウ酸又はフッ化カリウムの添加量のあるせまい範囲で
のみ達成される。さらにフッ素イオ ′ン濃度が測定で
きないので液の状態が処理に適しているか否かを処理す
る前に知ることはできず、処理後のガラスの太陽光透過
率を測定して初めて処理の可否を判定できる。太陽光透
過率の測定を行うには、ガラスを取り出して洗浄・乾燥
する時間が必要である。したがって、連続的に処理を繰
り返す工程では、処理されたガラスの太陽光透過率を測
定して次の処理におけるフッ化カリウムの添加量を判断
し、次の処理を行うとすると、透過率測定に要する時間
は、次回の処理が行えず、見かけの一回の処理時間が長
くなり製造効率が低くなる。また処理されたガラスの太
陽光透過率の測定結果がでる前に、透過率測定によって
経験的に得られている一定量の７）化カリウムを添加し
て続けて処理を行っていくと、透過率測定結果のフィー
ドバンクは次次回の処理時でなければ反映されないこと
になる。従って透過率の測定の結果、一定量の添加量に
補正を加える必要がある場合は次回の処理時には補正が
なされず、次に処理したガラスは所定の反射防止層が得
られず、品質規格からはずれたものとなり、歩留の低下
となる。
処理液は珪弗化水素酸のシリカ過飽和水溶液であるが、
処理する時には、これに微量のホウ酸又はフッ化カリウ
ムを添加して液の状態を調整する。ホウ酸は処理液中に
存在するフッ素イオンを減少させ、フッ化カリウムは逆
に増加させると考えられる。液の状態が処理に適してい
る時、処理後のガラスは未処理ガラスと比較して、太陽
光透過率が約５％増加するが、このような液の状態は、
ホウ酸又はフッ化カリウムの添加量のあるせまい範囲で
のみ達成される。さらにフッ素イオ ′ン濃度が測定で
きないので液の状態が処理に適しているか否かを処理す
る前に知ることはできず、処理後のガラスの太陽光透過
率を測定して初めて処理の可否を判定できる。太陽光透
過率の測定を行うには、ガラスを取り出して洗浄・乾燥
する時間が必要である。したがって、連続的に処理を繰
り返す工程では、処理されたガラスの太陽光透過率を測
定して次の処理におけるフッ化カリウムの添加量を判断
し、次の処理を行うとすると、透過率測定に要する時間
は、次回の処理が行えず、見かけの一回の処理時間が長
くなり製造効率が低くなる。また処理されたガラスの太
陽光透過率の測定結果がでる前に、透過率測定によって
経験的に得られている一定量の７）化カリウムを添加し
て続けて処理を行っていくと、透過率測定結果のフィー
ドバンクは次次回の処理時でなければ反映されないこと
になる。従って透過率の測定の結果、一定量の添加量に
補正を加える必要がある場合は次回の処理時には補正が
なされず、次に処理したガラスは所定の反射防止層が得
られず、品質規格からはずれたものとなり、歩留の低下
となる。
そこで処理が終了する前に次回処理のために処理液に添
加すべきフッ化カリウムの量が簡単に判断できる方法の
開発が望まれていた。
加すべきフッ化カリウムの量が簡単に判断できる方法の
開発が望まれていた。
本発明者らは、この問題を解決すべく種々の検討を行っ
た結果、処理の途中でガラス表面に生成しつつある反射
防止層の屈折率を測定することにより、処理の成否を正
確に予測し、次の処理におけるフッ化カリウムの最適添
加量を決定する製造方法を発明した。
た結果、処理の途中でガラス表面に生成しつつある反射
防止層の屈折率を測定することにより、処理の成否を正
確に予測し、次の処理におけるフッ化カリウムの最適添
加量を決定する製造方法を発明した。
新しく調製した／、ｓｓ ｍｏｌ／ｌ の珪弗化水素
酸の整した処理液に、ざ５０ｇ％の太陽光透過率を有す
る３ｍｍ厚の普通板ガラスを処理液／ｌ当り表面積Ｊ０
０Ｃ１１１２の割合で浸漬し、処理時間を変えて取り出
し、太陽光透過率を測定した結果を第１図に示した。Ａ
、Ｂ、Ｃはホウ酸を処理液／ｌ当り、ｔＯｘｌｏ−４１
ＲＯ１添加シ、さらに７ツ化力リウムヲ処ｆｌｌｒｍ／
ｌ当’）、＋レソレ１０Ｘ１０Ｘ１０−４ 。
酸の整した処理液に、ざ５０ｇ％の太陽光透過率を有す
る３ｍｍ厚の普通板ガラスを処理液／ｌ当り表面積Ｊ０
０Ｃ１１１２の割合で浸漬し、処理時間を変えて取り出
し、太陽光透過率を測定した結果を第１図に示した。Ａ
、Ｂ、Ｃはホウ酸を処理液／ｌ当り、ｔＯｘｌｏ−４１
ＲＯ１添加シ、さらに７ツ化力リウムヲ処ｆｌｌｒｍ／
ｌ当’）、＋レソレ１０Ｘ１０Ｘ１０−４ 。
／ｌ×１０−４ｍ０１．２２×１０−４ｍ０１添加した
処理液で処理したガラスの太陽光透過率を示す。図のよ
うにＡ、 Ｂ、 Ｃのカーブは１１１０分後に最大に達
し、太陽光透過率はそれぞれｑｏ、コ、 ９／、０．９
０．０％を示した。Ｂでは処理液の状態が処理に適して
いたと判断できる。これに対してＡではフン化カリウム
の添加量が不足し、Ｃでは過剰であったと考えられる。
処理液で処理したガラスの太陽光透過率を示す。図のよ
うにＡ、 Ｂ、 Ｃのカーブは１１１０分後に最大に達
し、太陽光透過率はそれぞれｑｏ、コ、 ９／、０．９
０．０％を示した。Ｂでは処理液の状態が処理に適して
いたと判断できる。これに対してＡではフン化カリウム
の添加量が不足し、Ｃでは過剰であったと考えられる。
同じガラスについて、表面に生成したシリカ多孔層の屈
折率（ｎ）、膜厚（ｄ）を偏光解析装置（エリプソメー
ター）で測定し、第２図、第３図に示した。
折率（ｎ）、膜厚（ｄ）を偏光解析装置（エリプソメー
ター）で測定し、第２図、第３図に示した。
１１１０分処理後、Ａではｎ＝／：３ｒｇ 、ａ−ｑ３
ｏｈ。
ｏｈ。
Ｂではｎ−／、２ｔ９．ｄ−１０７ＯＡ 、０”Ｃはｎ
−／、２２１１ 、 ｄ −／／ｌｌ０Ａテあった。ま
た、ｇｏ分焙処理後はＡでｎ−／、Ｊ４１９ ｄ−１Ｉ
１０Ａ 、 Ｂでｎ二／、／！；１Ｉｖｄ＝３３０Ｘ
、 Ｃテｎ −／、／ｊ／； 、 ｄ−３１ＯＡであっ
た。第２図かられかるように、処理液の状態によって生
成する膜の屈折率が異なっており１０分の処理時間で十
分に差を把握することができることがわかった。
−／、２２１１ 、 ｄ −／／ｌｌ０Ａテあった。ま
た、ｇｏ分焙処理後はＡでｎ−／、Ｊ４１９ ｄ−１Ｉ
１０Ａ 、 Ｂでｎ二／、／！；１Ｉｖｄ＝３３０Ｘ
、 Ｃテｎ −／、／ｊ／； 、 ｄ−３１ＯＡであっ
た。第２図かられかるように、処理液の状態によって生
成する膜の屈折率が異なっており１０分の処理時間で十
分に差を把握することができることがわかった。
また第４図に実験で求めたｌｒＯ分処理時における反射
防止層の屈折率と次回処理時に添加すべき７フ化カリウ
ム添加量との関係を示す。
防止層の屈折率と次回処理時に添加すべき７フ化カリウ
ム添加量との関係を示す。
上記フッ化カリウム添加量は、添加後の処理液中へガラ
スを１ＩＩＯ分間浸漬したときに最高の太陽光透過率が
得られるような添加量である。
スを１ＩＩＯ分間浸漬したときに最高の太陽光透過率が
得られるような添加量である。
例えば、新規な処理液中にガラス板を１０分間浸漬した
後取り出してその屈折率を測定して屈折率が八／Ｓ４’
であったとすれば、同一の処理液を用いて次回の処理を
行なうに先立ってフッ化カリウムを処理液、／ｌ当り７
Ｘ１０−４ｍＯ１だけ添加すれば処理液が最適・条件に
維持されて次回の処理時も／４１０分間の浸漬処理で最
高の太陽光透過率が得られることがわかる。以上のよう
にして反射防止層を生成する最適処理時間の少くとも／
／−の処理時間以上処理したガラスの屈折率および必要
に応じて膜厚を測定することにより、処理液の状態を把
握し、最適状態からのずれから、次の処理における７フ
化カリウムの添加量を決めることができる。太陽光透過
率をもとに判断する場合第１図のように、液の状態が異
っていても、Ｉｒ０分の値の差が小さく処理途中で処理
の成否を正確に推測することはできない。
後取り出してその屈折率を測定して屈折率が八／Ｓ４’
であったとすれば、同一の処理液を用いて次回の処理を
行なうに先立ってフッ化カリウムを処理液、／ｌ当り７
Ｘ１０−４ｍＯ１だけ添加すれば処理液が最適・条件に
維持されて次回の処理時も／４１０分間の浸漬処理で最
高の太陽光透過率が得られることがわかる。以上のよう
にして反射防止層を生成する最適処理時間の少くとも／
／−の処理時間以上処理したガラスの屈折率および必要
に応じて膜厚を測定することにより、処理液の状態を把
握し、最適状態からのずれから、次の処理における７フ
化カリウムの添加量を決めることができる。太陽光透過
率をもとに判断する場合第１図のように、液の状態が異
っていても、Ｉｒ０分の値の差が小さく処理途中で処理
の成否を正確に推測することはできない。
以下に実施例を述べる。
実施例
新しく調製した濃度／、２！； ｍｏｌ！／ｌの珪弗化
水素醸のシリカ過飽和水溶液からなる処理液に／ｌ当り
ＡＯ×１０４ｍ０１の割合でホウ酸を添加し、さらに７
ツ化カリウムを／ｌ当り＃ Ｘ １０−４ｍｏｌの割合
で添加して液の状態を調整した。これに、ざｊ、５％の
太陽光透過率を有する３ ｍｍ厚の普通板ガラスを浸漬
して／’１０分間放置した。ガラスを取り出して洗浄、
乾燥した後、太陽光透過率を測定した。太陽光透過率は
９／、０％であり、未処理のガラスより５．−％増加し
た。したがって液の状態が処理に適していたことがわか
った。連続して処理を行う場合、処理ごとに処理液／ｌ
当り、７ Ｘ １０−４ ｍｏｌの割合でフッ化カリウ
ムを添加すると、次回の処理でも太陽光透過率が約５％
増加したガラスが得られることが経験によってわかって
いるので、この割合で７フ化カリウムを添加した。これ
にＪ ｍｍ厚の普通板ガラスを二枚浸漬し、一枚をざ０
分後に取り出した。これを洗浄、乾燥して表面に生成し
た膜の屈折率と膜厚を偏光解析装置で測定したところｎ
−／、 ／！；Ｉｔ 、 ｄ−！；３０ Ａであった
。この値は、第一図、第３図におけるＢの値と一致した
。残りの一枚を７４０分後にとり出して洗浄、乾燥した
後、太陽光透過率を測定したところ、９／、０％であり
、未処理よりよ、２％増加した。
水素醸のシリカ過飽和水溶液からなる処理液に／ｌ当り
ＡＯ×１０４ｍ０１の割合でホウ酸を添加し、さらに７
ツ化カリウムを／ｌ当り＃ Ｘ １０−４ｍｏｌの割合
で添加して液の状態を調整した。これに、ざｊ、５％の
太陽光透過率を有する３ ｍｍ厚の普通板ガラスを浸漬
して／’１０分間放置した。ガラスを取り出して洗浄、
乾燥した後、太陽光透過率を測定した。太陽光透過率は
９／、０％であり、未処理のガラスより５．−％増加し
た。したがって液の状態が処理に適していたことがわか
った。連続して処理を行う場合、処理ごとに処理液／ｌ
当り、７ Ｘ １０−４ ｍｏｌの割合でフッ化カリウ
ムを添加すると、次回の処理でも太陽光透過率が約５％
増加したガラスが得られることが経験によってわかって
いるので、この割合で７フ化カリウムを添加した。これ
にＪ ｍｍ厚の普通板ガラスを二枚浸漬し、一枚をざ０
分後に取り出した。これを洗浄、乾燥して表面に生成し
た膜の屈折率と膜厚を偏光解析装置で測定したところｎ
−／、 ／！；Ｉｔ 、 ｄ−！；３０ Ａであった
。この値は、第一図、第３図におけるＢの値と一致した
。残りの一枚を７４０分後にとり出して洗浄、乾燥した
後、太陽光透過率を測定したところ、９／、０％であり
、未処理よりよ、２％増加した。
次にこの処理液に、処理液／ｌ当り／Ｘ／（１）−４ｍ
ｏｌの割合でフッ化カリウムを添加し、３ｍｍ厚の普通
板ガラスを二枚浸漬した。一枚を１０分後にとり出し、
洗浄、乾燥した後、表面に生成した膜の屈折率と膜厚を
偏光解析装置で測定したところｎ −／、２４Ｉ９ 、
（］−１１０Ａ ”７：”あツタｏコｆ）値ハｓ−図
、第３図のＡの値に一致した。残りの一枚を１４１０分
後に取り出し、洗浄、乾燥した後、太陽光透過率を測定
したところ、９０．２％であり、未処理よりＵ、４１％
しか増加しなかった。
ｏｌの割合でフッ化カリウムを添加し、３ｍｍ厚の普通
板ガラスを二枚浸漬した。一枚を１０分後にとり出し、
洗浄、乾燥した後、表面に生成した膜の屈折率と膜厚を
偏光解析装置で測定したところｎ −／、２４Ｉ９ 、
（］−１１０Ａ ”７：”あツタｏコｆ）値ハｓ−図
、第３図のＡの値に一致した。残りの一枚を１４１０分
後に取り出し、洗浄、乾燥した後、太陽光透過率を測定
したところ、９０．２％であり、未処理よりＵ、４１％
しか増加しなかった。
次いで、この処理液に処理液／ｌ当り、前回の不足分を
考慮して／ＪＸ１０−４＋＋ｏｌの割合でフッ化カリウ
ムを添加し、ｊｍｍ厚の普通板ガラスを二枚浸・潰した
。一枚をｌｒＯ分後に取り出し、洗浄。
考慮して／ＪＸ１０−４＋＋ｏｌの割合でフッ化カリウ
ムを添加し、ｊｍｍ厚の普通板ガラスを二枚浸・潰した
。一枚をｌｒＯ分後に取り出し、洗浄。
乾燥して表面に生成した膜の屈折率と膜厚を偏光解析装
置で測定したところｎ−１，ｉｓｑ、ａ−ｓｓ。
置で測定したところｎ−１，ｉｓｑ、ａ−ｓｓ。
Ａであった。この値は第２図、第３図におけるＢの値と
一致した。残りの一枚を７４０分後に取り出し洗浄、乾
燥した後、太陽光透過率を測定したところ、９７．０％
であり、未処理より５．コ％増加した。屈折率＃排撃か
ら判断したフッ化カリウムの添加量で処理液の状態は回
復した。
一致した。残りの一枚を７４０分後に取り出し洗浄、乾
燥した後、太陽光透過率を測定したところ、９７．０％
であり、未処理より５．コ％増加した。屈折率＃排撃か
ら判断したフッ化カリウムの添加量で処理液の状態は回
復した。
本実施例では、膜の屈折率膜厚の測定に偏光解析装置を
使用したが、他の方法でもよい。
使用したが、他の方法でもよい。
第１図は珪弗化水素酸のシリカ過飽和水溶液に７フ化カ
リウムを分量を変えて添加した処理液にｊｆｉ ｘ ｋ
＊ ’ＩＩＩ ’Ｌ、 ｆ＝ ＭＡ ＊ Ｋ オＩ＝
＋ ４ ＠ １１ ｆｉ Ｍ ｋ ＠ １１ ＊’ガラ
スの太陽光透過率との関係を示すグラフ、第２図は上記
処理液への浸漬時間と得られるガラス表面の反射防止層
の屈折率との関係を示すグラフ。 第３図は上記処理液への浸漬時間と得られるガラス表面
の反射防止層の膜厚との関係を示すグラフ。 第４図は１０分浸漬処理後の反射防止層の屈折率と次回
の処理時に液に添加すべきフッ化カリウムの量との関係
の一例を示すグラフである。 第１＠ ％理時間 （き） 第２ｒＩＡ 処理時間 （釣 ＋００ ２００” ％ Ｋ ９￥ Ｍ （／ａ’）第４ｒＩ
Ａ
リウムを分量を変えて添加した処理液にｊｆｉ ｘ ｋ
＊ ’ＩＩＩ ’Ｌ、 ｆ＝ ＭＡ ＊ Ｋ オＩ＝
＋ ４ ＠ １１ ｆｉ Ｍ ｋ ＠ １１ ＊’ガラ
スの太陽光透過率との関係を示すグラフ、第２図は上記
処理液への浸漬時間と得られるガラス表面の反射防止層
の屈折率との関係を示すグラフ。 第３図は上記処理液への浸漬時間と得られるガラス表面
の反射防止層の膜厚との関係を示すグラフ。 第４図は１０分浸漬処理後の反射防止層の屈折率と次回
の処理時に液に添加すべきフッ化カリウムの量との関係
の一例を示すグラフである。 第１＠ ％理時間 （き） 第２ｒＩＡ 処理時間 （釣 ＋００ ２００” ％ Ｋ ９￥ Ｍ （／ａ’）第４ｒＩ
Ａ
Claims (1)
- ガラスを珪弗化水素酸のシリカ過飽和水溶液に接触させ
ることによりガラス表面のシリカ以外の成分を選択的に
除去してシリカを主体とする多孔層からなる反射防止層
を形成する方法において、前記処理の途中でガラス表面
に生成したシリカ多孔層の屈折率を測定し、この屈折率
と処理液への添加剤の最適添加量との関係を予め求めて
おき、処理途中での屈折率測定から求めた所定量の添加
剤を次回処理時に加えて処理液を調整することを特徴と
する反射防止ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57083528A JPS58199744A (ja) | 1982-05-18 | 1982-05-18 | 反射防止ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57083528A JPS58199744A (ja) | 1982-05-18 | 1982-05-18 | 反射防止ガラスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58199744A true JPS58199744A (ja) | 1983-11-21 |
| JPH0214300B2 JPH0214300B2 (ja) | 1990-04-06 |
Family
ID=13804983
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57083528A Granted JPS58199744A (ja) | 1982-05-18 | 1982-05-18 | 反射防止ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58199744A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60235745A (ja) * | 1984-05-07 | 1985-11-22 | Hoya Corp | 多孔質反射防止膜およびその製造方法 |
| JPS6428251A (en) * | 1987-06-19 | 1989-01-30 | Glaverbel | Glass product with low direct reflection |
| CN102674704A (zh) * | 2011-03-11 | 2012-09-19 | 北京市太阳能研究所有限公司 | 多孔纳米二氧化硅减反射膜的制备方法 |
| JP2020073456A (ja) * | 2014-05-20 | 2020-05-14 | コーニング インコーポレイテッド | 耐キズガラス及び作製方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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1982
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0214300B2 (ja) | 1990-04-06 |
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