JPS58190704A - 線巾の測定方法 - Google Patents
線巾の測定方法Info
- Publication number
- JPS58190704A JPS58190704A JP7284882A JP7284882A JPS58190704A JP S58190704 A JPS58190704 A JP S58190704A JP 7284882 A JP7284882 A JP 7284882A JP 7284882 A JP7284882 A JP 7284882A JP S58190704 A JPS58190704 A JP S58190704A
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- JP
- Japan
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- distance
- line width
- scanning
- circuit
- measured
- Prior art date
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- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は平板上に形成された線巾の測定方法に関するも
のであり、特に、半導体製造プロセスで１史用される目
合せ用マスク及び半導体基板（以下、ウェハースという
）上に形成された微小線巾を測定する方法に関するもの
である。
のであり、特に、半導体製造プロセスで１史用される目
合せ用マスク及び半導体基板（以下、ウェハースという
）上に形成された微小線巾を測定する方法に関するもの
である。
目合せ用マスクや、ウエノ−−ス上に形成された回路パ
ターンの線巾を測定する場合、回路パターンの断面形状
に関係なく最初のエッヂから最後のエッヂ迄の距離を再
現性良く測定可能とすることは必要不可欠の条件である
。従来、回路パターンの線巾を測定するには、第１図に
示すように光スポット１を走査させ、回路パターン２で
の反射光１ａの強度変化点を検出器３で捕えて微分回路
４でパルス信号を出力し、２つのパルス信号間の距離を
全体の線巾の測定値として測定していた。この方法は第
１図に示すように回路パターン２の板厚が均一である単
純断面形状のものについては十分に、機能を発揮するが
、第２図に示すように回路パターン２の板厚が不均一で
ある断面形状のものでは回路パターン２のエッヂ部分で
のパルス信号と、回路パターン途中の板厚が変化する部
分でのパルス信号との間の距離ａを回路パターン２の全
体線巾として測定してしまうため、測定したい全体寸法
（ａ＋ｂ十ｃ ）を測定できないという欠点があった。
ターンの線巾を測定する場合、回路パターンの断面形状
に関係なく最初のエッヂから最後のエッヂ迄の距離を再
現性良く測定可能とすることは必要不可欠の条件である
。従来、回路パターンの線巾を測定するには、第１図に
示すように光スポット１を走査させ、回路パターン２で
の反射光１ａの強度変化点を検出器３で捕えて微分回路
４でパルス信号を出力し、２つのパルス信号間の距離を
全体の線巾の測定値として測定していた。この方法は第
１図に示すように回路パターン２の板厚が均一である単
純断面形状のものについては十分に、機能を発揮するが
、第２図に示すように回路パターン２の板厚が不均一で
ある断面形状のものでは回路パターン２のエッヂ部分で
のパルス信号と、回路パターン途中の板厚が変化する部
分でのパルス信号との間の距離ａを回路パターン２の全
体線巾として測定してしまうため、測定したい全体寸法
（ａ＋ｂ十ｃ ）を測定できないという欠点があった。
本発明は前記問題点を解消するもので、予じめ九のスポ
ットの走査距離を被測定物の寸法に対応させて設定し、
その設定された距離だけ光スポットを走査させてその間
に得られた全てのパルス信号間の距離を加算して測定値
とすることを特徴とするものである。
ットの走査距離を被測定物の寸法に対応させて設定し、
その設定された距離だけ光スポットを走査させてその間
に得られた全てのパルス信号間の距離を加算して測定値
とすることを特徴とするものである。
以下、本発明の実施例を図面によって説明する。
第２図は本発明の一実施例を示すものであり、第１図と
同一構成については同一符号を付して説明する。
同一構成については同一符号を付して説明する。
第２図において、ミラー１６及びレンズ１２を介して照
射される光スポット１を矢視Ａ方向に走★開始する２、
スポット１が回路ノ（ターフ２の最初のエッヂ２ａに達
した時その反射光１ａの強度が変化し、検出器乙の出力
が２３で示すような電流（又は電圧）特性を示す。検出
器６の出力を微分回路４に入力させて微分して反射光１
ａの強度が変化する部分で２２で示すようなノ＜ルス信
号を発イキする。この最初のパルス信号２ａをトリガー
としてトリガー回路５よシカランター６に入力してこれ
を駆動させ、以後スポット１の移動量をカウントさせる
。一方、デジタルスイッチ８で被測定物としての回路パ
ターン２０線巾寸法を入力させて光スポット１の走査距
離を回路パターン２の線巾寸法に対応させて設定し、コ
ンパレータ７でデジタルスイッチ８によシ入力した値Ｘ
とカウンター６の値を比較監視し続け、両者の値が一致
したときにスポット走査を制御させるドライバー９にス
ポット走査停止信号を送信する。また、コンパレータ７
が一致信号を発信する迄の間、検出器３及び微分回路４
から得られたパルス信号２ａからパルス信号２ｄまでの
間の距離ａ、ｂ、ｃをサンプリング回路１０を介してメ
モリーしておき、コンパレータ７の一致信号と同時に演
算回路１１でΣ＝ａ十す十ｃの値を演算して回路パター
ン２の測定値として表示又はプリントアウトする。尚、
本発明に係る測定方法において、デジタルスイッチ８で
入力させる値Ｘと、パルス信号間の距離ａ、ｂ、ｃとは
Ｘ≧ａ＋ｂ＋ｃの条件にあることが必要不可欠で、１）
、比較測定するのであるから測定しようとする回路パタ
ーンの線巾（基本寸法）（・ｔＦじめ判っている必要が
あり、又、デジタルスイッチ８からの入力寸法値は基本
寸法＋σを設定する必要がある。
射される光スポット１を矢視Ａ方向に走★開始する２、
スポット１が回路ノ（ターフ２の最初のエッヂ２ａに達
した時その反射光１ａの強度が変化し、検出器乙の出力
が２３で示すような電流（又は電圧）特性を示す。検出
器６の出力を微分回路４に入力させて微分して反射光１
ａの強度が変化する部分で２２で示すようなノ＜ルス信
号を発イキする。この最初のパルス信号２ａをトリガー
としてトリガー回路５よシカランター６に入力してこれ
を駆動させ、以後スポット１の移動量をカウントさせる
。一方、デジタルスイッチ８で被測定物としての回路パ
ターン２０線巾寸法を入力させて光スポット１の走査距
離を回路パターン２の線巾寸法に対応させて設定し、コ
ンパレータ７でデジタルスイッチ８によシ入力した値Ｘ
とカウンター６の値を比較監視し続け、両者の値が一致
したときにスポット走査を制御させるドライバー９にス
ポット走査停止信号を送信する。また、コンパレータ７
が一致信号を発信する迄の間、検出器３及び微分回路４
から得られたパルス信号２ａからパルス信号２ｄまでの
間の距離ａ、ｂ、ｃをサンプリング回路１０を介してメ
モリーしておき、コンパレータ７の一致信号と同時に演
算回路１１でΣ＝ａ十す十ｃの値を演算して回路パター
ン２の測定値として表示又はプリントアウトする。尚、
本発明に係る測定方法において、デジタルスイッチ８で
入力させる値Ｘと、パルス信号間の距離ａ、ｂ、ｃとは
Ｘ≧ａ＋ｂ＋ｃの条件にあることが必要不可欠で、１）
、比較測定するのであるから測定しようとする回路パタ
ーンの線巾（基本寸法）（・ｔＦじめ判っている必要が
あり、又、デジタルスイッチ８からの入力寸法値は基本
寸法＋σを設定する必要がある。
以−にの説明から明らかなように本発明による測定方法
によれば被測定物から得られるエッヂ信号の数に関係な
く、最初のエッヂから最後のエッヂ迄の測定が可能とな
るので、断面形状が必ずしも一足でないウェハース上の
パターン測定に適用すれば非常に効果を発揮することが
想定できる。
によれば被測定物から得られるエッヂ信号の数に関係な
く、最初のエッヂから最後のエッヂ迄の測定が可能とな
るので、断面形状が必ずしも一足でないウェハース上の
パターン測定に適用すれば非常に効果を発揮することが
想定できる。
父、上記説明に於ては、スポットの走査距離Ｘを・相別
する手段としてデジタルスイッチを用いて説明したが、
コンピュータ制御で考えられるキーボード入力又はカー
ドベースによる入力手段で行−）てもよいことはいうま
でもない。
する手段としてデジタルスイッチを用いて説明したが、
コンピュータ制御で考えられるキーボード入力又はカー
ドベースによる入力手段で行−）てもよいことはいうま
でもない。
第１図は従来の測定方法の一実施例、第２図は本発明に
よる測定方法の一実施例である。 １・・・光スポット、２・・・被測定物（）くターン）
、６・・・検出器、４・・・微分回路、５・・・トリガ
ー回路１、） カウンター、７・・・コンノくレータ、
８・・・デジタルスイッチ、９・・・ドライバー、１０
・・・サンプリング回路、１１・・・演算回路、１２・
・・レンズ、１３・・・特許出願人 九州日本電
気株式会社ｉ’Ｔ 代理人 弁理士 菅 野 中 Ｘ７：１４１
．ｊ
よる測定方法の一実施例である。 １・・・光スポット、２・・・被測定物（）くターン）
、６・・・検出器、４・・・微分回路、５・・・トリガ
ー回路１、） カウンター、７・・・コンノくレータ、
８・・・デジタルスイッチ、９・・・ドライバー、１０
・・・サンプリング回路、１１・・・演算回路、１２・
・・レンズ、１３・・・特許出願人 九州日本電
気株式会社ｉ’Ｔ 代理人 弁理士 菅 野 中 Ｘ７：１４１
．ｊ
Claims (1)
- １１１ 収束性の高い光スポットを被測定物上に走査
させ、反射光の強度の変化点を捕えてパルス信号を発信
し、そのパルス信号間の距離を測定値とする線巾の測定
方法において、光スポットの走査距離を被測定物の寸法
に対応させて設定し、最初のパルス信号から前記設定し
た距離だけ光スポットを走査させ、その間に得られた全
てのパルス信号間の距離を加算することを特徴とする線
巾の測定方法・・
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7284882A JPS58190704A (ja) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | 線巾の測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7284882A JPS58190704A (ja) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | 線巾の測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58190704A true JPS58190704A (ja) | 1983-11-07 |
| JPH0450522B2 JPH0450522B2 (ja) | 1992-08-14 |
Family
ID=13501206
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7284882A Granted JPS58190704A (ja) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | 線巾の測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58190704A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6061603A (ja) * | 1983-09-16 | 1985-04-09 | Citizen Watch Co Ltd | 微小寸法測定装置 |
| JPS62137504A (ja) * | 1985-12-10 | 1987-06-20 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 部分クラッド材の幅測定装置 |
| EP0614068A1 (en) * | 1993-03-04 | 1994-09-07 | Shin-Etsu Handotai Company Limited | Method of measuring orientation flat width of single crystal ingot |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5335569A (en) * | 1976-09-14 | 1978-04-03 | Asahi Glass Co Ltd | Method of measuring outer diameter of transparent substance |
-
1982
- 1982-04-30 JP JP7284882A patent/JPS58190704A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5335569A (en) * | 1976-09-14 | 1978-04-03 | Asahi Glass Co Ltd | Method of measuring outer diameter of transparent substance |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6061603A (ja) * | 1983-09-16 | 1985-04-09 | Citizen Watch Co Ltd | 微小寸法測定装置 |
| JPH0456241B2 (ja) * | 1983-09-16 | 1992-09-07 | Citizen Watch Co Ltd | |
| JPS62137504A (ja) * | 1985-12-10 | 1987-06-20 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 部分クラッド材の幅測定装置 |
| JPH0415882B2 (ja) * | 1985-12-10 | 1992-03-19 | Sumitomo Spec Metals | |
| EP0614068A1 (en) * | 1993-03-04 | 1994-09-07 | Shin-Etsu Handotai Company Limited | Method of measuring orientation flat width of single crystal ingot |
| US5402239A (en) * | 1993-03-04 | 1995-03-28 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Method of measuring orientation flat width of single crystal ingot |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0450522B2 (ja) | 1992-08-14 |
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