JPS58184079A - レ−ザ加工装置 - Google Patents
レ−ザ加工装置Info
- Publication number
- JPS58184079A JPS58184079A JP57066616A JP6661682A JPS58184079A JP S58184079 A JPS58184079 A JP S58184079A JP 57066616 A JP57066616 A JP 57066616A JP 6661682 A JP6661682 A JP 6661682A JP S58184079 A JPS58184079 A JP S58184079A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- focal point
- reflected
- light
- concave spherical
- processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/073—Shaping the laser spot
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明はレーデ光を被加工物に照射し、例えば溶接ま
たは切断婢の加工を行う加工装置に関する。
たは切断婢の加工を行う加工装置に関する。
例えば、各種加工装置のなかには、被加工物にレーザ光
を照射して溶接または切断等の加工を行うようにし九い
わゆるレーザ加工装置があり、このレーデ加工装置は被
加工物の表面に高出力のレーず光を微小スーットにして
照射することにより、その加工歪中熱変形の少ない加工
が行え、このことから種々の分野に多用されつつある。
を照射して溶接または切断等の加工を行うようにし九い
わゆるレーザ加工装置があり、このレーデ加工装置は被
加工物の表面に高出力のレーず光を微小スーットにして
照射することにより、その加工歪中熱変形の少ない加工
が行え、このことから種々の分野に多用されつつある。
ところで、上記レーデ加工装置においては上記したよう
にレーデ光を微小スポットにして被加工物に照射するこ
とから、その加工はいわゆる魚加工となり、加工範囲を
大きく確保できない４のであつえ、このため、例えば切
断等の直線加工を行う場合にはその加工長さがどんなに
短くとも上記レーザ光もしくは被加工物の一方を円移動
させる送）機構が必要となり、その構造が複雑化する間
燗があった。
にレーデ光を微小スポットにして被加工物に照射するこ
とから、その加工はいわゆる魚加工となり、加工範囲を
大きく確保できない４のであつえ、このため、例えば切
断等の直線加工を行う場合にはその加工長さがどんなに
短くとも上記レーザ光もしくは被加工物の一方を円移動
させる送）機構が必要となり、その構造が複雑化する間
燗があった。
このようなことから、従来では上記レーザ光を円柱レン
ズによってスリ、ト状に集束させ、ある程度の直線加工
を行えるようにしたものも開発されているが、このよう
にすると上記レーや デ光の透過により上記円柱レンズ高温に加熱されるため
、この円柱レンズを加工時に冷却する必要がある。この
ため、従来においては上記円柱レンズを水などの冷却液
で冷却するようになっている。しかしながら、上記゛円
柱レンズを冷却液で冷却する場合、この円柱レンズの中
央部は上記レーザ光が透過するため、実際にこの円柱レ
ンｔを冷却液で冷却できるのはその両端部側のみである
。このため、上記円柱レンズの冷却効果が低く、高出力
のレーデ光を使用できない不具合が６−）え。
ズによってスリ、ト状に集束させ、ある程度の直線加工
を行えるようにしたものも開発されているが、このよう
にすると上記レーや デ光の透過により上記円柱レンズ高温に加熱されるため
、この円柱レンズを加工時に冷却する必要がある。この
ため、従来においては上記円柱レンズを水などの冷却液
で冷却するようになっている。しかしながら、上記゛円
柱レンズを冷却液で冷却する場合、この円柱レンズの中
央部は上記レーザ光が透過するため、実際にこの円柱レ
ンｔを冷却液で冷却できるのはその両端部側のみである
。このため、上記円柱レンズの冷却効果が低く、高出力
のレーデ光を使用できない不具合が６−）え。
この発明はこのような事情にもとづいてなされたもので
、その目的とするところは、加工面積を大暑〈確保でき
、かつ高出力のレーザ光を使用することのできるレーデ
加工装置【提供することにある。
、その目的とするところは、加工面積を大暑〈確保でき
、かつ高出力のレーザ光を使用することのできるレーデ
加工装置【提供することにある。
すなわち、この発明はレニ１１＃ｆ、Ｙｔ［！ＩｒＭ鏡
によシ反射させて被加工物に照射することにより、この
被加工物の加工を行うことを特徴とするも〔発明の実施
例〕 以下この発明の一実施例を図面にもとづき説明する。
によシ反射させて被加工物に照射することにより、この
被加工物の加工を行うことを特徴とするも〔発明の実施
例〕 以下この発明の一実施例を図面にもとづき説明する。
図中１はレーデ発生源であシ、このレーザ発振Ｉｌｌか
ら断面円形のレーザ光が出射される。
ら断面円形のレーザ光が出射される。
そして、レーデ発生ｌ１１の下方には凹面鏡として例え
ば凹球面鏡２が配置されている。この凹球ｉｉｌ鏡２は
曲率半径８の球の一部内面を反射面２１として構成した
もので、上記レーザ光はこの反射面２ａＫ反射されて被
加工物３に照射されるようになっている。なお、上記レ
ーデ発振源１から出射されるレーデ光は被加工物３の材
質に応じ、炭酸ガスレーデ党、ルビーレーザ元およびＹ
ＡＧレーデ光等から適宜責択されるものである。
ば凹球面鏡２が配置されている。この凹球ｉｉｌ鏡２は
曲率半径８の球の一部内面を反射面２１として構成した
もので、上記レーザ光はこの反射面２ａＫ反射されて被
加工物３に照射されるようになっている。なお、上記レ
ーデ発振源１から出射されるレーデ光は被加工物３の材
質に応じ、炭酸ガスレーデ党、ルビーレーザ元およびＹ
ＡＧレーデ光等から適宜責択されるものである。
次に、上記凹球面、、ＦＪの作用を以下に説明する。レ
ーデ発振源１から凹球面ｔＭ２に入射角θをもってＸ方
向から入射した入射レーザ光がＹ方向に反射されるもの
とすると、この反射レーデ光は上記反射面２ａ上のＡＢ
ＣＤで囲まれるレーデ元照射ｓ４からの反射によって得
られるものであることがわかる。したがうて、上記Ａ。
ーデ発振源１から凹球面ｔＭ２に入射角θをもってＸ方
向から入射した入射レーザ光がＹ方向に反射されるもの
とすると、この反射レーデ光は上記反射面２ａ上のＡＢ
ＣＤで囲まれるレーデ元照射ｓ４からの反射によって得
られるものであることがわかる。したがうて、上記Ａ。
Ｂ、Ｃ，Ｄおよびその中心００点に入射した入射レーデ
光＆ ＊ ｂ ＃ ＠ ＋ ｄおよび・の反射を追跡す
ることで上記反射レーデ光全体のビーム形状を求める仁
とができる。なお、上記入射角０は上記０点に入射する
入射レーザ光Ｏ？とこ００点と曲率中心Ｐ点とを結ぶ線
分ｑとのなす角をいう。
光＆ ＊ ｂ ＃ ＠ ＋ ｄおよび・の反射を追跡す
ることで上記反射レーデ光全体のビーム形状を求める仁
とができる。なお、上記入射角０は上記０点に入射する
入射レーザ光Ｏ？とこ００点と曲率中心Ｐ点とを結ぶ線
分ｑとのなす角をいう。
まず、上記レーデ光反射ｗ４におけるＡ−０−１点での
反射レーデｆｔａｔ ＊ ’１ 、ｂｌ を追跡す
ると、このムーｏ−ｉ点の軌跡が曲率中心Ｐ点を中心と
する曲率半径Ｒの円弧となることがらＡ、Ｏ，１１点に
おいてそれぞれ接線を引き、これら各点と上記Ｐ点とを
結ぶ一分つまりム。
反射レーデｆｔａｔ ＊ ’１ 、ｂｌ を追跡す
ると、このムーｏ−ｉ点の軌跡が曲率中心Ｐ点を中心と
する曲率半径Ｒの円弧となることがらＡ、Ｏ，１１点に
おいてそれぞれ接線を引き、これら各点と上記Ｐ点とを
結ぶ一分つまりム。
０．１点での法面に対するその入射角と勢しい反射角を
有するｆｉｌｌをそれぞれ引くことＫより、上記反射レ
ーデ光ａｌ ＋６１ ａｂｒ を纂１図に示す如く
求める仁とができる。この結果、第１図から明らかなよ
うに反射レーデ光１１．ＯＢ。
有するｆｉｌｌをそれぞれ引くことＫより、上記反射レ
ーデ光ａｌ ＋６１ ａｂｒ を纂１図に示す如く
求める仁とができる。この結果、第１図から明らかなよ
うに反射レーデ光１１．ＯＢ。
ｂｌは第１膣点ｆ、でなわり、その第１焦点距離Ｆ１は
、 Ｆ１≧８・−＃／２ ・・・・・・（１）で示
されることがわかった。なお 厳密に考えれば、入射レ
ーデ光全体にある程度の幅があるため、上記Ａ、０．Ｂ
点での入射角はそれぞれ異なるものであるが、上記−率
半径Ｒに対し上記入射レーデ光の光束径が充分小さいと
すれば上記各点での入射角の差異を無袂することができ
、上記第１無点ｆ１を求めることができるものである。
、 Ｆ１≧８・−＃／２ ・・・・・・（１）で示
されることがわかった。なお 厳密に考えれば、入射レ
ーデ光全体にある程度の幅があるため、上記Ａ、０．Ｂ
点での入射角はそれぞれ異なるものであるが、上記−率
半径Ｒに対し上記入射レーデ光の光束径が充分小さいと
すれば上記各点での入射角の差異を無袂することができ
、上記第１無点ｆ１を求めることができるものである。
また、上記凹球面鏡２に対し上記線分Ｑと平行に入射す
る入射光についてみれば、その焦点距離Ｆが Ｆ＝Ｒ／２ で示されることから、両式は Ｆ１≧Ｆ（２）０ と書き直すことができる。すなわち、上記第１焦点距離
Ｆ１は上記線分Ｑに対し角度θで交差する平面上に上記
焦点距離Ｆを投影したものと考えることができる。
る入射光についてみれば、その焦点距離Ｆが Ｆ＝Ｒ／２ で示されることから、両式は Ｆ１≧Ｆ（２）０ と書き直すことができる。すなわち、上記第１焦点距離
Ｆ１は上記線分Ｑに対し角度θで交差する平面上に上記
焦点距離Ｆを投影したものと考えることができる。
次に１上記レ一デ光反射部４におけるＣ−０−Ｄ点での
反射レーデ光ｅ１ ｓｏｌ ＋ｄｌＫついて追跡する
場合にはこれら反射レーザ光ｃｌ １”１ｅｄｌを第
２図に示す如く凹球面鏡２を構成する曲率半径Ｒの球５
で考えると理解しやすい。すなわち、上記Ｃ，Ｏ，Ｄ点
にそれぞれ入射角θで入射したレーデ光ｅ＋０＋１４ｔ
；ｊ各点における渋面での入射−反射側にしたがって反
射されることから、上記反射レーザ光６３ 、・重
。
反射レーデ光ｅ１ ｓｏｌ ＋ｄｌＫついて追跡する
場合にはこれら反射レーザ光ｃｌ １”１ｅｄｌを第
２図に示す如く凹球面鏡２を構成する曲率半径Ｒの球５
で考えると理解しやすい。すなわち、上記Ｃ，Ｏ，Ｄ点
にそれぞれ入射角θで入射したレーデ光ｅ＋０＋１４ｔ
；ｊ各点における渋面での入射−反射側にしたがって反
射されることから、上記反射レーザ光６３ 、・重
。
ｄｌは第２図中半径Ｒ−〇の円６上に沿ってそれぞれ進
むことになる。そして、これら反射レーザ光ｍｌ ｅ
０１ ＊ ｄｊは上記円６上を進みかつ上記０．０
．０点がそれぞれ半４ＩＲａｘ、θの円周上に位置して
いることから、反射レーデ党ｏ凰に対す反射レーデ光ｄ
１との関には０点り点でのそれぞれの法面がなす角と（
同等の角度ψをもって交差することにな如、また反射レ
ーデ光・１とｃｌ も同様に上記角度ψをもって交差す
ることになる。すなわち、このことから第１図に示す如
く第２焦点ｆｌが存在し、その第２焦点距離Ｆ寓は ｖ、＝ミｒｇ（２）θ＝２Ｆ備θ ・・・・・
（２）であった。
むことになる。そして、これら反射レーザ光ｍｌ ｅ
０１ ＊ ｄｊは上記円６上を進みかつ上記０．０
．０点がそれぞれ半４ＩＲａｘ、θの円周上に位置して
いることから、反射レーデ党ｏ凰に対す反射レーデ光ｄ
１との関には０点り点でのそれぞれの法面がなす角と（
同等の角度ψをもって交差することにな如、また反射レ
ーデ光・１とｃｌ も同様に上記角度ψをもって交差す
ることになる。すなわち、このことから第１図に示す如
く第２焦点ｆｌが存在し、その第２焦点距離Ｆ寓は ｖ、＝ミｒｇ（２）θ＝２Ｆ備θ ・・・・・
（２）であった。
このように上記凹球面鏡２に対し入射角θで入射して反
射される反射レーザ光には上記第１焦点ｆ１および第２
焦点ｆ、が存在し、このことがらムー０−１１点の軌跡
を縦軸Ｖ、Ｃ−０−Ｄ点の軌跡を横軸■とした場合の反
射レーデ光における光束のＨ／Ｖ比を調べ友結果、第３
図に示される結果が得られた。すなわち、第３図から明
らかなように反射レーザ光の光束における断面形状は第
１焦点ｆ、と第２焦点ｆ、との間に存在する変曲点ｚｌ
での間で横長の楕円状となり、上記変曲点２以降におい
ては縦長の楕円状となる。なお、上記変曲点２はＨ／Ｖ
比が１となる点を示す、 ・′１゜ したがって、上記第１焦点ｆ１の近傍では上記断面形状
が横長のスリ、ト状となり、また上記ａｍ！２焦点ｆ３
の近傍では縦長のスリ、ト状となることがわかる。なお
、第３図にボした実験結果は曲率半径Ｒ＝２９０ｓｍ−
直径４０鰭、厚さ４ｍの凹球面ｆ！＃２を使用して得ら
れたものであり、入射レーデ光の入射角はｍ＝４５°、
またその入射レーデ光には炭酸ガスレーデを用いた。
射される反射レーザ光には上記第１焦点ｆ１および第２
焦点ｆ、が存在し、このことがらムー０−１１点の軌跡
を縦軸Ｖ、Ｃ−０−Ｄ点の軌跡を横軸■とした場合の反
射レーデ光における光束のＨ／Ｖ比を調べ友結果、第３
図に示される結果が得られた。すなわち、第３図から明
らかなように反射レーザ光の光束における断面形状は第
１焦点ｆ、と第２焦点ｆ、との間に存在する変曲点ｚｌ
での間で横長の楕円状となり、上記変曲点２以降におい
ては縦長の楕円状となる。なお、上記変曲点２はＨ／Ｖ
比が１となる点を示す、 ・′１゜ したがって、上記第１焦点ｆ１の近傍では上記断面形状
が横長のスリ、ト状となり、また上記ａｍ！２焦点ｆ３
の近傍では縦長のスリ、ト状となることがわかる。なお
、第３図にボした実験結果は曲率半径Ｒ＝２９０ｓｍ−
直径４０鰭、厚さ４ｍの凹球面ｆ！＃２を使用して得ら
れたものであり、入射レーデ光の入射角はｍ＝４５°、
またその入射レーデ光には炭酸ガスレーデを用いた。
また、上記実験結果で得られた第１焦点距離Ｆｌおよび
第２焦点距離ＦｌはそれぞれＦ １ ＝ １０７ｍｍ
＋ Ｆ ｓ ＝ ２１５ｍ付近で６９、これらの値は前
記した式（１） 、 （２）より得られる理論値Ｆ１＝
（２９０Ｘ（２）４５’）／２占１０２．５■Ｆ 嘗＝
２９０ Ｘｃｔｍ４５” ≧２０６ｍに対して近似し
ていることもわかる。
第２焦点距離ＦｌはそれぞれＦ １ ＝ １０７ｍｍ
＋ Ｆ ｓ ＝ ２１５ｍ付近で６９、これらの値は前
記した式（１） 、 （２）より得られる理論値Ｆ１＝
（２９０Ｘ（２）４５’）／２占１０２．５■Ｆ 嘗＝
２９０ Ｘｃｔｍ４５” ≧２０６ｍに対して近似し
ていることもわかる。
したがって上記構成のレーザ加工装置によれば、被加工
物３を上記第１隻点ｆ１の近傍もしくは第２焦点ｆｌの
近傍に位置させることにより、反射レーデ光の光束形状
が横長もしくは縦長にスリ、ト化してその加工範囲を大
きく確保でき、これによって上記被加工物１における直
線加工が可能となって、この場合には切断や溶接加工に
好適するものである。なお、上記第１゜第２焦点ｆｌ＋
ｆｌの近傍においてはそのスリ、トの尚きが互いに直交
する方向に異なることから、その直線加工の方向につい
ては被加工物３の位置ｔ−第１および第２焦点ｆｌ＋ｆ
ｌ近傍のいずれかに選ぶととによシ僑択可能となる。
物３を上記第１隻点ｆ１の近傍もしくは第２焦点ｆｌの
近傍に位置させることにより、反射レーデ光の光束形状
が横長もしくは縦長にスリ、ト化してその加工範囲を大
きく確保でき、これによって上記被加工物１における直
線加工が可能となって、この場合には切断や溶接加工に
好適するものである。なお、上記第１゜第２焦点ｆｌ＋
ｆｌの近傍においてはそのスリ、トの尚きが互いに直交
する方向に異なることから、その直線加工の方向につい
ては被加工物３の位置ｔ−第１および第２焦点ｆｌ＋ｆ
ｌ近傍のいずれかに選ぶととによシ僑択可能となる。
また、上記被加工物１を第１１ｔ２焦点ｆ１ 。
ｆ！の前ｌＩＫ位置させれば、上記光束形状が横長もし
くは縦長の楕円形状になることがら、その加工面積を大
きく確保でき、この場合には焼入れや加熱加工等に好適
するものである。なお゛、このように反射レーデ光によ
る加工面積を大きく確保する場合には、その光束の断面
積が大きくなるＫつれ、反射レーザ光の・ｆワー缶度が
低下するので、実際の加工をなす場合、上記被加工物ｊ
ｔ′１０．８≦ｆｓ ≦１．２もしくはｏ、ｓ≦ｒ
１ ≦１．２の範囲に位置させるのが望ましい。
くは縦長の楕円形状になることがら、その加工面積を大
きく確保でき、この場合には焼入れや加熱加工等に好適
するものである。なお゛、このように反射レーデ光によ
る加工面積を大きく確保する場合には、その光束の断面
積が大きくなるＫつれ、反射レーザ光の・ｆワー缶度が
低下するので、実際の加工をなす場合、上記被加工物ｊ
ｔ′１０．８≦ｆｓ ≦１．２もしくはｏ、ｓ≦ｒ
１ ≦１．２の範囲に位置させるのが望ましい。
さらに、上記レーデ加工装置において４加工時には上記
凹球ｍＨｚを水などの冷却液で冷却する必要があるが、
この凹球面鏡２の場合にはレーデ光を反射するものであ
ることがら、四球面鏡２の車検全面を上記冷却液で冷却
することができる。よって、凹球面鏡２を効率良く冷却
できることから、上記レーデ光に高出力の４のを使用で
き、この結果上配光束の断面積が大きくともその・臂ワ
ー密度を高めて加工能力の向上を図ることができる。
凹球ｍＨｚを水などの冷却液で冷却する必要があるが、
この凹球面鏡２の場合にはレーデ光を反射するものであ
ることがら、四球面鏡２の車検全面を上記冷却液で冷却
することができる。よって、凹球面鏡２を効率良く冷却
できることから、上記レーデ光に高出力の４のを使用で
き、この結果上配光束の断面積が大きくともその・臂ワ
ー密度を高めて加工能力の向上を図ることができる。
また、凹球面鏡２ｔ−使用すれば、その冷却効果が高い
ことから、その材質に安価なものを利用できるばかシで
はなく、凹球面鏡２に入射する入射レーデ光の入射角−
を適宜撰択する仁とにより、反射レーデ光の反射方向を
任意に変えることができるので、一層その加工性能の向
上を図れ、ま九装置における光学系を簡単にすることが
できる。
ことから、その材質に安価なものを利用できるばかシで
はなく、凹球面鏡２に入射する入射レーデ光の入射角−
を適宜撰択する仁とにより、反射レーデ光の反射方向を
任意に変えることができるので、一層その加工性能の向
上を図れ、ま九装置における光学系を簡単にすることが
できる。
なお、上記一実施例では凹面鏡として凹球面鏡２を用い
たが、反射面が回転款物面等の凹面鏡を用いてもよく、
要は反射レーデ光に少なくとも１個以上の焦点が生じる
奄のであればよい。
たが、反射面が回転款物面等の凹面鏡を用いてもよく、
要は反射レーデ光に少なくとも１個以上の焦点が生じる
奄のであればよい。
また、上記一実施例では入射レーデ光の入射角Ｏを適宜
撰択するようＫしたが、実際の加工においては上記入射
レーデ光の光束径が曲率牛径ＲＫ対して充分に小さくと
もその値は０でないので、上記入射角−が９０°に近づ
くにつ九て第１焦点の存在が薄れ、このことから上記入
射角０は６０＠以下が望ましい、ｔた逆に入射角θが３
０＠以下であると、第１および第２無点ｆｌ ＋ｆ、
での光束形状がス／ ｙ ）状に近くなって反射レーデ
光のスリ、ト化が困難となることから、上記入射角０は ３０°≦θ≦６０１１ の範囲が望ましいものである。
撰択するようＫしたが、実際の加工においては上記入射
レーデ光の光束径が曲率牛径ＲＫ対して充分に小さくと
もその値は０でないので、上記入射角−が９０°に近づ
くにつ九て第１焦点の存在が薄れ、このことから上記入
射角０は６０＠以下が望ましい、ｔた逆に入射角θが３
０＠以下であると、第１および第２無点ｆｌ ＋ｆ、
での光束形状がス／ ｙ ）状に近くなって反射レーデ
光のスリ、ト化が困難となることから、上記入射角０は ３０°≦θ≦６０１１ の範囲が望ましいものである。
また、上記反射レーデ光の光束よりもさらに大きな加工
範囲でその加工を行う場合には上記凹球面鏡を移動可能
にすれはよく、この場合には従来のように円柱レンズ勢
のレンズを移動させるものよシもその機構が簡単になる
利点を有する。 □゛ 〔発明の効果〕 以上説明したようにこの発明はレーデ光を凹面鏡によシ
反射させて被加工物に照射することを特徴とするもので
ある。したがって上記凹面＠ｉ！４Ｃよ〕反射された反
射レーデ光には焦点位置が存在するので、この焦点位置
を基準として被加工物の位置を適宜撰択することにより
、上記反射レーデ光の光束形状を任意に選びかつその加
工範囲を大きく確保できるものである。ま九、凹面鏡は
その裏面全面を冷却液で冷却できるので、その冷却効果
が高く、よって高出力のレーデ光を使用して加工性能を
高めることができるなど、種々と優れた効果を奏する。
範囲でその加工を行う場合には上記凹球面鏡を移動可能
にすれはよく、この場合には従来のように円柱レンズ勢
のレンズを移動させるものよシもその機構が簡単になる
利点を有する。 □゛ 〔発明の効果〕 以上説明したようにこの発明はレーデ光を凹面鏡によシ
反射させて被加工物に照射することを特徴とするもので
ある。したがって上記凹面＠ｉ！４Ｃよ〕反射された反
射レーデ光には焦点位置が存在するので、この焦点位置
を基準として被加工物の位置を適宜撰択することにより
、上記反射レーデ光の光束形状を任意に選びかつその加
工範囲を大きく確保できるものである。ま九、凹面鏡は
その裏面全面を冷却液で冷却できるので、その冷却効果
が高く、よって高出力のレーデ光を使用して加工性能を
高めることができるなど、種々と優れた効果を奏する。
図面はこの発明の一実施例を示し、第１図は装置の概略
図、第２図はレーデ光の反射状Ｉｉを示す図、第３図は
反射レーデ−光の光束形状を示す特性図である。 ２・・・凹球面鏡（凹面鏡）、３・・・被加工物。
図、第２図はレーデ光の反射状Ｉｉを示す図、第３図は
反射レーデ−光の光束形状を示す特性図である。 ２・・・凹球面鏡（凹面鏡）、３・・・被加工物。
Claims (2)
- （１） 被加工物にし〜デ光を照射してこの被加工物
の加工を行うようＫしたレーデ加工Ｍｔにおいて、上記
レーデ光は凹面鏡により反射されて上記被加工物に照射
されることを特徴とするレーデ加工装置。 - （２）上記凹面鏡は凹球面鏡であることｔ−特徴とする
特許請求の範囲第（１）項記載のレーザ加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57066616A JPS58184079A (ja) | 1982-04-21 | 1982-04-21 | レ−ザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57066616A JPS58184079A (ja) | 1982-04-21 | 1982-04-21 | レ−ザ加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58184079A true JPS58184079A (ja) | 1983-10-27 |
Family
ID=13321006
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57066616A Pending JPS58184079A (ja) | 1982-04-21 | 1982-04-21 | レ−ザ加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58184079A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2654843A1 (fr) * | 1989-11-23 | 1991-05-24 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif de focalisation d'un faisceau lumineux permettant d'obtenir une tache focale de forme allongee. |
-
1982
- 1982-04-21 JP JP57066616A patent/JPS58184079A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2654843A1 (fr) * | 1989-11-23 | 1991-05-24 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif de focalisation d'un faisceau lumineux permettant d'obtenir une tache focale de forme allongee. |
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