JPS58184080A - レ−ザ加工装置 - Google Patents
レ−ザ加工装置Info
- Publication number
- JPS58184080A JPS58184080A JP57066617A JP6661782A JPS58184080A JP S58184080 A JPS58184080 A JP S58184080A JP 57066617 A JP57066617 A JP 57066617A JP 6661782 A JP6661782 A JP 6661782A JP S58184080 A JPS58184080 A JP S58184080A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- reflected
- raded
- mirror
- sealed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
- B23K26/10—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece using a fixed support, i.e. involving moving the laser beam
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は例えば被加工物にレーザ光を肺射して加熱等
の加工を行うレーデ加工装置に関する。
の加工を行うレーデ加工装置に関する。
この種のレーデ加工装置は被加工物として例えばガラス
類の封着予定部にレーデ光を照射することで、仁の封着
予定部の加熱を行い、これによってその封着加工を行え
るようにできることから、上記封着予定部の加熱装置し
て適用可能である。そして、このようにレーデ加工装置
を加熱装置して使用すれば、高出力のレーデ光を微小ス
/、)として上記封着予定部に照射できることから、そ
の加熱時間の短縮を図れ、また封着予定線以外への熱影
醤を・防止するうえで特有の効果を奏するものである。
類の封着予定部にレーデ光を照射することで、仁の封着
予定部の加熱を行い、これによってその封着加工を行え
るようにできることから、上記封着予定部の加熱装置し
て適用可能である。そして、このようにレーデ加工装置
を加熱装置して使用すれば、高出力のレーデ光を微小ス
/、)として上記封着予定部に照射できることから、そ
の加熱時間の短縮を図れ、また封着予定線以外への熱影
醤を・防止するうえで特有の効果を奏するものである。
また、特にラングの製造においては・9−す等の燃料ガ
スである水素等の混入を避けることができることから、
クリーンは加工が可能となる利点とも有するものである
。
スである水素等の混入を避けることができることから、
クリーンは加工が可能となる利点とも有するものである
。
しかしながら、上記従来のレーデ加工装置においては通
常、そのレーデ光の光束断面形状か円形であり、またそ
の・臂ワー密度は光束の中心が最も高くなるようなガウ
ス分布をなすものであった。このため、上記レーデ光の
光束中心が照射される封着予定部では加熱が良好となる
が光束の周辺側では加熱不良となシ上記封着予定部に加
熱むら等の加工むらが生じる問題があった。また、この
ようなことから、上記レーザ光の光束径を被加工物の加
工範囲よシも充分太きく確保して加熱を行うことも考え
られるが仁のようにすると、レーデ光のエネルギ損失が
大となシ、実用に適さないものであった。
常、そのレーデ光の光束断面形状か円形であり、またそ
の・臂ワー密度は光束の中心が最も高くなるようなガウ
ス分布をなすものであった。このため、上記レーデ光の
光束中心が照射される封着予定部では加熱が良好となる
が光束の周辺側では加熱不良となシ上記封着予定部に加
熱むら等の加工むらが生じる問題があった。また、この
ようなことから、上記レーザ光の光束径を被加工物の加
工範囲よシも充分太きく確保して加熱を行うことも考え
られるが仁のようにすると、レーデ光のエネルギ損失が
大となシ、実用に適さないものであった。
この発明はこのような事情にもとづいてなされたもので
、その目的とするところは、エネルギ損失を抑えなおか
つ加工むらを防止することのできるレーザ加工装置を提
供することにある。
、その目的とするところは、エネルギ損失を抑えなおか
つ加工むらを防止することのできるレーザ加工装置を提
供することにある。
すなわち、この発明はレーデ光を凹thi鏡によ・:
・)。
・)。
り反射して被加工物に照射するとともに、上1凹面鏡を
往復傾動可能に構成し、上記被加工物に照射される反射
レーデ光を光束の径方向に所ある。
往復傾動可能に構成し、上記被加工物に照射される反射
レーデ光を光束の径方向に所ある。
以下この発明の一実施例を図面にもとづき説明する。
第1図中IFi放電管の到着装置を示し、xrd放電管
、JFi放電管2のパルプホルダ、4は電極マウントホ
ルダ、5,5はピンチャ−である。
、JFi放電管2のパルプホルダ、4は電極マウントホ
ルダ、5,5はピンチャ−である。
4お、槙2図において放tIIL管の全体を示す。
そして、10は上記封着装ft2に適用されるレーデ加
工装置を示し、このレーデ加工装置10は第3図26m
で示すレーデ発振器から出射したレーデ光11を反射鏡
12・・・等からなる光学系によプ上記パルプホルダ3
に保持された放電管2パルプ2aの封着予定部2bに照
射するように構成されている。また、とのレーデ加工装
&10全体はよ記パルプ2aの管軸を中心として回転可
能に構成され、レーデ光11を上記封着予定部2bの全
周にわたって照射するようになっている。なお、このレ
ーデ光11としてはガラス製のパルプ2aに対して吸収
のよい炭酸ガスレーデを用いるのが望ましい。
工装置を示し、このレーデ加工装置10は第3図26m
で示すレーデ発振器から出射したレーデ光11を反射鏡
12・・・等からなる光学系によプ上記パルプホルダ3
に保持された放電管2パルプ2aの封着予定部2bに照
射するように構成されている。また、とのレーデ加工装
&10全体はよ記パルプ2aの管軸を中心として回転可
能に構成され、レーデ光11を上記封着予定部2bの全
周にわたって照射するようになっている。なお、このレ
ーデ光11としてはガラス製のパルプ2aに対して吸収
のよい炭酸ガスレーデを用いるのが望ましい。
そして、この一実施例では上記光学系を構成する反射鏡
12・・・のうち直接上記封着予定部2bにレーデ光1
1を反射する反射鏡が凹球面鏡12aで構成されている
。この凹球面鏡I Jmは第3図に示す如く曲率半切8
の球の一部内面−を反射面13として構成したもので、
レーザ光111dこの反射面13で反射されて封着予定
部2bに照射されるものである。
12・・・のうち直接上記封着予定部2bにレーデ光1
1を反射する反射鏡が凹球面鏡12aで構成されている
。この凹球面鏡I Jmは第3図に示す如く曲率半切8
の球の一部内面−を反射面13として構成したもので、
レーザ光111dこの反射面13で反射されて封着予定
部2bに照射されるものである。
また、この一実施例の場合、凹球面fjkx2a#i鏡
ホルダ13に対し回動ピン14を介して連結され、この
回動ピン14を中心としてエアシリンダ15により前稜
に往復傾動可能となっている。
ホルダ13に対し回動ピン14を介して連結され、この
回動ピン14を中心としてエアシリンダ15により前稜
に往復傾動可能となっている。
次に、上記一実施例の作用について説明する。
まず、レーデ発振器から出射されたレーデ光11は上記
光学系の反射fil12・・・および凹球面鏡12aで
順次反射されて封着予定部2 b F(照射されること
になるが、ここで上記凹球面鏡12&の作用を以下に説
明する。
光学系の反射fil12・・・および凹球面鏡12aで
順次反射されて封着予定部2 b F(照射されること
になるが、ここで上記凹球面鏡12&の作用を以下に説
明する。
レーデ発振器1−aから凹球面鏡12aに入射角−をも
ってX方向から入射した入射レーデ光がY方向に反射さ
れるものとすると、この反射レーデ光は上記反射面2a
上のム、B、C,Dで囲まれるレーデ光照射部14から
の反射によって得られるものである仁とがわかる。した
がって、上記A、B、C,Dおよびその中心00点に入
射した入射レーデ光a、b、e、−および0の反射を追
跡することで上記反射レーザ光全体のビーム形状を求め
ることができる。なお、上記入射角0は上記0点に入射
する入射レーデ光04とこの0点と自車中心P点とを結
ぶ線分Qとのなす角をいう・ まず、上記レーデ光反射部14におけるA −0−B点
での反射レーデ光alt・1+b1 を追跡すると、と
のA−0−B点の軌跡が曲率中心P点を中心とする曲率
半径Rの円弧となることからA、O,B点においてそれ
ぞれ接線を引き、これら各点と112点とを結ぶ線分つ
’tlih。
ってX方向から入射した入射レーデ光がY方向に反射さ
れるものとすると、この反射レーデ光は上記反射面2a
上のム、B、C,Dで囲まれるレーデ光照射部14から
の反射によって得られるものである仁とがわかる。した
がって、上記A、B、C,Dおよびその中心00点に入
射した入射レーデ光a、b、e、−および0の反射を追
跡することで上記反射レーザ光全体のビーム形状を求め
ることができる。なお、上記入射角0は上記0点に入射
する入射レーデ光04とこの0点と自車中心P点とを結
ぶ線分Qとのなす角をいう・ まず、上記レーデ光反射部14におけるA −0−B点
での反射レーデ光alt・1+b1 を追跡すると、と
のA−0−B点の軌跡が曲率中心P点を中心とする曲率
半径Rの円弧となることからA、O,B点においてそれ
ぞれ接線を引き、これら各点と112点とを結ぶ線分つ
’tlih。
0、B点での法面に対するその入射角と等しい反射角を
有する直線をそれぞれ引くことによ)、上記反射レーザ
光&1 p(11、blを第3図に示す如く求めるこ
とができる。この結果、第3図から明らかなように反射
レーデ光al g・l。
有する直線をそれぞれ引くことによ)、上記反射レーザ
光&1 p(11、blを第3図に示す如く求めるこ
とができる。この結果、第3図から明らかなように反射
レーデ光al g・l。
blは第1焦点f′lで交わシ、その第1焦点距離F1
は、 Fl;:R−(2)θ/2 ・・・(1)で示され
ることがわかった。なお、厳密に考えれば、入射レーデ
光全体KToる程度の幅があるため、上記ム、0.B点
での入射角はそれぞれ異なるものであるが、上記曲率半
径RK対し上記入射レーザ光の光束径が充分小さいとす
れば上記各点での入射角の差異を無視することができ、
上記第1焦点f、を求めることができる亀のである。ま
た、上記凹球面鏡12aに対し上記線分Qと平行に入射
する入射光についてみれば、その焦点距離Fが F = R/2 で示されることから、動式は F b F as e とIn直すことができる。すなゎ也、上記第1焦点距離
r1は上記線分QK対し角度−で交差する平面上に上記
焦点距離Fを投影した亀のと考えることができる。
は、 Fl;:R−(2)θ/2 ・・・(1)で示され
ることがわかった。なお、厳密に考えれば、入射レーデ
光全体KToる程度の幅があるため、上記ム、0.B点
での入射角はそれぞれ異なるものであるが、上記曲率半
径RK対し上記入射レーザ光の光束径が充分小さいとす
れば上記各点での入射角の差異を無視することができ、
上記第1焦点f、を求めることができる亀のである。ま
た、上記凹球面鏡12aに対し上記線分Qと平行に入射
する入射光についてみれば、その焦点距離Fが F = R/2 で示されることから、動式は F b F as e とIn直すことができる。すなゎ也、上記第1焦点距離
r1は上記線分QK対し角度−で交差する平面上に上記
焦点距離Fを投影した亀のと考えることができる。
次に、上記レーデ光反射部14におけるC−0−D点で
の反射レーデ光el s*1 、d、について追跡
する場合KFiこれら反射レーデ光e1 j・1 、
dlを鮪4図に示す如く凹球面鏡11mを構成する一率
半111の球5で考えると理解しやすす、す表わち、上
記C,O,DAKそれぞれ入射角−で入射した入射レー
デ光C2・、シは各点における法面での入射−反射側に
したがって反射されゐことから、上記反射レーデ光c1
、・1、−1は第4図中中径R(2)θの円1−上に
沿りてそれぞれ進むことになる。そして、これら反射レ
ーア光ぐ1eQ1edl#′i上記円tg上を進みかつ
上記C#O,D点がそれぞれ半@n、aの円周上に位置
していることから、反射レーデ光・凰に対す反射レーデ
光d1とその間には0点、D点でのそれぞれの法面がな
す角と同等の角度ψをもりて交差するヒとに1+%また
反射レーデ光・1と−1も同様に上記角度ψをもりて交
差する仁とにな為、すなわち、仁のことから第3図に示
す如く第2焦点f、が存在し、そのjI2焦点距離r廊
はF B a B IXII # −1F m #
”(2)でTo9た。
の反射レーデ光el s*1 、d、について追跡
する場合KFiこれら反射レーデ光e1 j・1 、
dlを鮪4図に示す如く凹球面鏡11mを構成する一率
半111の球5で考えると理解しやすす、す表わち、上
記C,O,DAKそれぞれ入射角−で入射した入射レー
デ光C2・、シは各点における法面での入射−反射側に
したがって反射されゐことから、上記反射レーデ光c1
、・1、−1は第4図中中径R(2)θの円1−上に
沿りてそれぞれ進むことになる。そして、これら反射レ
ーア光ぐ1eQ1edl#′i上記円tg上を進みかつ
上記C#O,D点がそれぞれ半@n、aの円周上に位置
していることから、反射レーデ光・凰に対す反射レーデ
光d1とその間には0点、D点でのそれぞれの法面がな
す角と同等の角度ψをもりて交差するヒとに1+%また
反射レーデ光・1と−1も同様に上記角度ψをもりて交
差する仁とにな為、すなわち、仁のことから第3図に示
す如く第2焦点f、が存在し、そのjI2焦点距離r廊
はF B a B IXII # −1F m #
”(2)でTo9た。
仁のように上記凹球面鏡xxhK対し入射角−で入射し
て反射される反射レーデ光には上記第1焦点f1および
第2焦点f1が存在し、このことからムーo−m点の軌
跡を縦軸VIC−0−D点の軌跡を横軸■とした場合の
反射レーデ光における光束の1比を調べた結果、第5図
に示される結果が得られた。すなわち、第5図から明ら
かなように反射レーデ光の光束における断面形状は第1
焦点f1と第2焦点fsとの関に存在する変曲点2まで
の間で横長の楕円状とな)、上記変曲点2以降において
は縦長の楕円状となる。なお、上記蛮曲点z#′iル僧
比が1となる点を示す。
て反射される反射レーデ光には上記第1焦点f1および
第2焦点f1が存在し、このことからムーo−m点の軌
跡を縦軸VIC−0−D点の軌跡を横軸■とした場合の
反射レーデ光における光束の1比を調べた結果、第5図
に示される結果が得られた。すなわち、第5図から明ら
かなように反射レーデ光の光束における断面形状は第1
焦点f1と第2焦点fsとの関に存在する変曲点2まで
の間で横長の楕円状とな)、上記変曲点2以降において
は縦長の楕円状となる。なお、上記蛮曲点z#′iル僧
比が1となる点を示す。
したがって、上記第1@点f1の近傍では上記断面形状
が横長のスリ、ト状となシ、また上記第2焦点f、の近
傍では縦長のスリ、ト状となることがわかる。なお、第
5図に示した実験結果は曲率亭径虱−200■、直径4
0wm、厚さ4■の凹球面鏡JJaを使用して得られた
も/′)であ如、入射レーず光の入射角は0千45°で
ある。
が横長のスリ、ト状となシ、また上記第2焦点f、の近
傍では縦長のスリ、ト状となることがわかる。なお、第
5図に示した実験結果は曲率亭径虱−200■、直径4
0wm、厚さ4■の凹球面鏡JJaを使用して得られた
も/′)であ如、入射レーず光の入射角は0千45°で
ある。
また、上記実験結果で得られた第1焦点距離Flおよび
第2焦点距離F、はそれぞれF、=107籠、Fax3
11−付近でTo〕、これらの値は前記した式(1)、
(2)よル得られる理論値FI m (290Xaw4
5°)/2≧102.5 waFm −290XmJ5
° :206 wmK対して近似していることもわかる
。
第2焦点距離F、はそれぞれF、=107籠、Fax3
11−付近でTo〕、これらの値は前記した式(1)、
(2)よル得られる理論値FI m (290Xaw4
5°)/2≧102.5 waFm −290XmJ5
° :206 wmK対して近似していることもわかる
。
し九がって、反射鏡として上記凹球面鏡12mを用いれ
ば、封着予定部2bの大きさ、姿勢および形状などによ
)その位置を変えることで上記封着予定部2bに応じ九
反射レーデ光の光束形状が得られ、多品種の放電管にお
ける到着予足部2bの加熱に適用可能である0例えば、
この一実施例の場合のようK z4ルプ21の管軸が垂
直とfk2ている場合には上記変曲点2よ)も遠い所に
封着予定部2bを位置させることKよυ、反射レーデ光
の光束形状を縦長のスリ、ト状もしくは楕円形状にする
ことができ、この反射レーデ光を効果的に照射できるも
のである。
ば、封着予定部2bの大きさ、姿勢および形状などによ
)その位置を変えることで上記封着予定部2bに応じ九
反射レーデ光の光束形状が得られ、多品種の放電管にお
ける到着予足部2bの加熱に適用可能である0例えば、
この一実施例の場合のようK z4ルプ21の管軸が垂
直とfk2ている場合には上記変曲点2よ)も遠い所に
封着予定部2bを位置させることKよυ、反射レーデ光
の光束形状を縦長のスリ、ト状もしくは楕円形状にする
ことができ、この反射レーデ光を効果的に照射できるも
のである。
なお、実際の加工においては反射レーデ光の・母ワー*
mが高い0.8≦f1≦1.2もしくは0.8≦f3≦
1.2の範囲に被加工物を位置させることが望壕しく、
また入射レーデ光の入射角−は30°≦O≦600の範
囲が望ましい。
mが高い0.8≦f1≦1.2もしくは0.8≦f3≦
1.2の範囲に被加工物を位置させることが望壕しく、
また入射レーデ光の入射角−は30°≦O≦600の範
囲が望ましい。
そして、上記−実施例では王妃凹球面鏡12&を前後に
傾動可能に構成しであるから、王妃反射レーデ光をその
光束の径方向つま)バルブ21の管軸方向に所定の振@
して振動させることができる。この結果、第6図に示さ
れるように反射レーデ光のノ譬ワー密度ががウス分布で
あっても上記封着予定郁2bの管軸方向全体を均等に加
熱することができ、この後のピンチャ−5,5による封
着を東好に行うことができる。
傾動可能に構成しであるから、王妃反射レーデ光をその
光束の径方向つま)バルブ21の管軸方向に所定の振@
して振動させることができる。この結果、第6図に示さ
れるように反射レーデ光のノ譬ワー密度ががウス分布で
あっても上記封着予定郁2bの管軸方向全体を均等に加
熱することができ、この後のピンチャ−5,5による封
着を東好に行うことができる。
kお、封着予定部21の管軸周シについてけレーデ加工
装置全体が上記管軸を中心として回転されるので加熱む
らが生じたシすることは々い。
装置全体が上記管軸を中心として回転されるので加熱む
らが生じたシすることは々い。
また、上記反射レーデ光を振動させる場合、装置J#O
11転角度位置に対するその振動モードを第7図ないし
第9図のように設定すれば、振幅中心Mよ)も振輻端N
側において反射レーデ光の光束中心軸が長く照射される
ことになシ、一層封着予足部1′bを均4!に加熱する
ことができる。
11転角度位置に対するその振動モードを第7図ないし
第9図のように設定すれば、振幅中心Mよ)も振輻端N
側において反射レーデ光の光束中心軸が長く照射される
ことになシ、一層封着予足部1′bを均4!に加熱する
ことができる。
また、上記したように封着予定部xbの大きさ姿勢形状
に応じて反射レーザ光の光束形状を選ぶことができるの
で、エネルギ損失を大幅に低減できるものであみ。
に応じて反射レーザ光の光束形状を選ぶことができるの
で、エネルギ損失を大幅に低減できるものであみ。
さらに、上記レーず加工装置においては、加工時反射鏡
12・・・鯛よび凹球面鏡JJaを水などの冷却液で冷
却する必要があるが、これら反射鏡12・・・および凹
球面鏡12aの場合にはそれぞれの反射面の裏側全面を
冷却液で冷却することができるので、その冷却効果は高
く、よってレーデ光に高出力のものを利用できる効J[
有する。
12・・・鯛よび凹球面鏡JJaを水などの冷却液で冷
却する必要があるが、これら反射鏡12・・・および凹
球面鏡12aの場合にはそれぞれの反射面の裏側全面を
冷却液で冷却することができるので、その冷却効果は高
く、よってレーデ光に高出力のものを利用できる効J[
有する。
なお、上記一実施例では放電管の封着装置に適用した例
を示したが、このようなガラス類の加熱に限らず、金属
における焼入れまたは溶接切断などの加工においても適
用できることけ4ちろんであシ、また加熱加工のみ表ら
ず上記焼入れ、溶接および切断などの加工においてもそ
あってもよい々ど、種々と変更して実施可能である。
を示したが、このようなガラス類の加熱に限らず、金属
における焼入れまたは溶接切断などの加工においても適
用できることけ4ちろんであシ、また加熱加工のみ表ら
ず上記焼入れ、溶接および切断などの加工においてもそ
あってもよい々ど、種々と変更して実施可能である。
以上説明したようkこの発明はレーデ光を聞耐鏡により
反射して被加工物に照射するとともに上記a番・鏡を往
復傾動可能に構成して上記被加工物に照射される反射レ
ーデ光を光束軸と直交する方向に所定の振幅で振動させ
るようにした奄のである。(−たがって、反射レーデ光
の・947%−8度がガラス分布であっても上記振動に
)〉賛加工物への加工が均一なものとなる。また、この
ように加工範囲以上に反射レーデ光を照射する必要もな
いので、この反射レーデ光のエネルギ損失を極力防止で
きるなど、種々と優れた効果を奏する。
反射して被加工物に照射するとともに上記a番・鏡を往
復傾動可能に構成して上記被加工物に照射される反射レ
ーデ光を光束軸と直交する方向に所定の振幅で振動させ
るようにした奄のである。(−たがって、反射レーデ光
の・947%−8度がガラス分布であっても上記振動に
)〉賛加工物への加工が均一なものとなる。また、この
ように加工範囲以上に反射レーデ光を照射する必要もな
いので、この反射レーデ光のエネルギ損失を極力防止で
きるなど、種々と優れた効果を奏する。
図面はこの発明の一実施例を示し、第1図は封着および
レーデ加工装置全体の概略図、第2図は放電管の正面図
、第3図および第4図は凹球面鏡の反射作用をそれぞれ
示す図、第5図は凹球面鏡による反射レーデ光の光束形
状を示す特性図、第6図は反射レーデ光の振動による作
用を示す図、第7図ないし第9図は反射レーザ光の振動
モードを示す図である。 2b・・・封着予定部(被加工物)、23m・・・凹球
面鏡(反射鏡)、13・・・鏡ホルダ、15・・・エア
シリンダ。
レーデ加工装置全体の概略図、第2図は放電管の正面図
、第3図および第4図は凹球面鏡の反射作用をそれぞれ
示す図、第5図は凹球面鏡による反射レーデ光の光束形
状を示す特性図、第6図は反射レーデ光の振動による作
用を示す図、第7図ないし第9図は反射レーザ光の振動
モードを示す図である。 2b・・・封着予定部(被加工物)、23m・・・凹球
面鏡(反射鏡)、13・・・鏡ホルダ、15・・・エア
シリンダ。
Claims (2)
- (1)被加工物にレーデ光を照射してこの被加工物の加
工を行うようにしたレーず加工装置において、上記レー
デ光は凹面鏡によシ反射されて上記被加工物に照射され
るとともに、上記凹面鏡を往復傾動可能に構成し上記被
加物に照射される反射レーデ光を光束の径方向に所定の
振幅で振動させることを特徴とするレーデ加工装置。 - (2)上記反射レーデ光の振動によるレーデ光光束軸の
照射時間は振幅中心よシも振幅端側か長く設定されてい
ることを特徴とする特許情求の範囲第(1)項記載のレ
ーデ加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57066617A JPS58184080A (ja) | 1982-04-21 | 1982-04-21 | レ−ザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57066617A JPS58184080A (ja) | 1982-04-21 | 1982-04-21 | レ−ザ加工装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58184080A true JPS58184080A (ja) | 1983-10-27 |
Family
ID=13321032
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57066617A Pending JPS58184080A (ja) | 1982-04-21 | 1982-04-21 | レ−ザ加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58184080A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4661679A (en) * | 1985-06-28 | 1987-04-28 | Eaton Corporation | Semiconductor laser processing with mirror mask |
US5172261A (en) * | 1990-11-01 | 1992-12-15 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Oscillatory mirror device with two exciting means |
-
1982
- 1982-04-21 JP JP57066617A patent/JPS58184080A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4661679A (en) * | 1985-06-28 | 1987-04-28 | Eaton Corporation | Semiconductor laser processing with mirror mask |
US5172261A (en) * | 1990-11-01 | 1992-12-15 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Oscillatory mirror device with two exciting means |
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