JPS5818369A - ビストリアゾリルケトン系化合物の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式（１）で示される新規なビストリアゾ
リルケトン系化合物の製造法に関するものである。

〔式中、又は水素原子または塩素原子を表わす。〕

一般式中で示される本発明に係る化合物は、一般式（Ｉ
Ｉ）で示される特開昭３３−／３θル乙／号公報に記載
のトリアゾリルビニルケトン系化合物および一般式唾で
示される特開昭、５４ｔ−４１／に７Ｓ号公報に記載の
ドリアゾリルビニルアルコール系化合物の製造中間体と
して重要な化合物である。

〔式中、ＸＦｉ前述のとおりである。〕〔式中、Ｘは前
述のとおりである。〕 一般式ｉｌりおよび（ｆｉｌｌで示される化合物は、廣
園共用植−に寄生する種々の有害な菌類に対して高い防
除効果を有する殺菌剤として有用であり、かかる化合物
の製造中間体を提供する本発明の意義はきわめて大きい
。

本発明者らは、一般式（ｎ）および（２）で示される殺
菌剤として有用な化合物をいかに工業的に有利に製造す
るかを鋭意研究の結果、下記反応式で示されるごとく、
本発明に係る化合物（１）から容易に前記トリアゾリル
ビニルケトン系化合物＋ｎ＋が、さらに該化合物を還元
することによりトリアゾリルビニルアルコール系化合物
（２）が得られることを見出した。

本発明に係る化合物ＩＩ）は、工業的に入手可能なベン
ズアルデヒド類ととナコロンとの縮合によって得られる
ベンザルビナコロン類（■）を出発物質として、下記の
反応径路で一般式菌で示されるスルホニルケトンブロマ
イド系化合物または一般式顛で示されるスルホニルビニ
ルケトン系化合物から容易に製造されｂことを見出した
。

〔上記式中、Ｘは水素原子または塩素原子を、Ｙはアル
キル基またはハロゲン原子を表わす、〕すなわち、本発
明に係る化合物中を熱分解さセルことにより、高収率で
トリアゾリルビニルケトン系化合物（ＩＤが得られ、本
発明に係る化合物中が優れたドリアゾリルビニルケトン
系化合物（［）の前駆体であることが明らかにされた。

一方、前記反応式に示されるように、工業的に容易に入
手できるとこ゛ろのベンズアルデヒド類ととナコロンと
を縮合することによって得られるビニルケトン系化合物
（ＶＩＩＩ　）を出発原料として、たとえば（４）→■
→Ｍ→あるいは（至）→Ｍ→の径路で本発明化合物の原
料となるスルホニルケトンブロマイド系化合物開がきわ
めて高収率で製造されることが判明した。

本発明に係る化合物（１）を製造するには前記のごとく
して得られるスルホニルケトンブロマイド系化合物（至
）を用いることによって、たとえば二つの径路で達成す
ることができるが、本発明においては、スルホニルケト
ンブロマイド系化合物（Ｖ）をスルホニルビニルケトン
系化合物勤に変換し、これにトリアゾールを反応させて
ビストリアゾリルケトン系化合物（Ｉ）を製造する。ス
ルホニルビニルケトン系化合物Ｎを単離したのち、これ
にトリアゾールを反応させることもできるが、スルホニ
ルケトンブロマイド系化合物菌と塩基とを反応させたの
ち、生成したスルホニルビニルケトン系化合物（財）を
単離することなく、続いてトリアゾールと反応させるこ
ともできる。（至）→（Ｖ）→（Ｉ）の段階的に反応さ
せる本発明マドグラフィーを用いてモニターする場合に
は有利と考えられる。

脱臭化水素酸反応に使用される塩基としては炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウムなどの炭＃塩、酢酸カリウム、酢酸
ナトリウムなどの酢酸塩、水ｍ化カリウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カルシウムなどの金属水酸化物またトリ
エチルアミン、ピリジンなどの第３級アミン類などがあ
げられるが、炭酸塩類が好ましい。また、塩基としてト
リアゾールを用いることも可能である。

使用される溶媒類としては、アセトン、メチルエチルケ
トンなどのケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリ
ルなどのニトリル類、ベンゼン、トルエン、キシレンな
どの炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
エチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキサイド、ヘキサメチルリン酸アミ
ドなどがあげられる。また、水を用いることも可能であ
り、前記溶媒類と混合もしくは二相反応の温度は０°Ｃ
から使用する溶媒類の沸点の範囲、好ましくは５０°Ｃ
から溶媒類の沸点の範囲であり、塩基類の量は、スルホ
ニルケトンブロマイド系化合物（Ｖ）１モルと等モル程
度である０ トリアゾリル化反応も同じく塩基の存在下に・行なうこ
とが好ましく、塩基が存在しない条件での反応ではきわ
めて低収率でしか反応を進行させることができない。

すなわち、（至）→（Ｉ）への反応を通じて使用する塩
基の量は、（９）に対しておよそ２モル以上、通常は３
．６５モルからＳモルの範囲が好ましい。反応生成物は
、副生ずる塩基類と臭化水素酸およびフェニルスルフィ
ン酸との塩を濾過もシくハ水に溶解させることによって
除去した後常法に従って得られる。

なお、本発明化合物には、２′ａ！のジアステレオマー
が存在し、かつその各々に光学異性体が存在する。本発
明はこれら異性体のすべてにおよぶものである。

以下に実施例をあげて本発明をさらに詳しく説明する。

実施例／ ／−（，２，グージクロロフェニル）−グ。

グージメチル−／−ｐ−トルエンスルホニル−７−ペン
テン−３−オン、２ｆ（０，００，Ｓモル）、／Ｈ−／
、　、２．　ｌ／１−１−リアゾールθ。５ｙ（０，６
９モル）、炭酸カリウムθ、７ｙ（θ、甥モＪし）およ
びアセトニトリル３０　ｃｃを６θ〜７θ°Ｃに７３時
間加温したのち不溶物を沖天し、氷水３θθＣＣを加え
、クロロホルムで抽出した。有機層の溶媒を留去し、シ
リカゲルクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／アセトン
＝２θ／／）で精製し、／−（Ｘ、グージクロロフェニ
ル）−＋、２−ジメチルー／、−一ビス（／、　ｘ、　
１Ｊｌ−トリアゾール−／−イル）ペンタン−３−オン
／、δＦ、（４５１ソｊチ）を得た。

実施例コ ／−（＋−クロロフェニル）−＋、グージメチルー／−
ｐ−）ルエンスルホニルー／−ペンテン−３−オン３．
ｇ　ｙ　　（０，００９モル）、／Ｈ−／、　、２．ダ
ートリアゾールθ、ｇｙ（６０１モル）、炭酸カリウム
／、’ｌｆおよびアセトニトリル３０　ｃｃを６０〜に
０°Ｃにて７．２時間反応させたのち、不溶物を涙去し
、氷水３θθＣＣを加え、クロロホルム３θθＣＣで抽
出した。有機層を濃縮し、ｎ−へキサンで結晶化させる
ことによｆｉ、　／−（Ｑ−クロロフェニル）−グ、ダ
ージメチルー／９．２−ビス（／。

、２．４’−）リアゾール−／−イル）ペンタン−３−
オン３．θＦ　（収率７乙％）を得た。

手続補正書（自発） 昭和Ｓ６年ン月Ｐ日 １　事件の表示 昭和ＪＡ年　特許願第　／＃７．２ン　号２８　発明の
名称 ビストリアゾリルケトン系化合物の製造法３　補正をす
る者 事件との関係　　特許出願人 住　所　　大阪市東区北浜５丁目１５ｉ地名称　（２０
９）住友化学工業株式会社代表者　　　　　土　　方　
　　　　武４代理人 住　所　　大阪市東区北浜５丁目１５番地コ。特許請求
の範囲 一般式 〔式中、Ｘは水素原子または塩素原子を、Ｙはアルキル
基またはハロゲン原子を表わす。〕で示されるスルホニ
ルケトンブロマイド糸化合物と／、　、、２．１ｌｔ−
トリアゾールとを塩基の存在下反応させることを特徴と
する一般式 〔式中、Ｘは水素原子または塩素原子を表わす。〕 で示されるビストリアゾリルケトン系化合物の製造法。

（７児） ６４９−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （／）一般式 〔式中、Ｘは水素原子または塩素原子を、Ｙはアルキル
   基またはハロゲン原子を表わす。〕 で示されるスルホニルビニルケトン系化合物と／、、２
   ．ｌ−１リアゾールとを塩基の存在下反応させることを
   ４Ｉ歎とする一般式〔式中、Ｘは水素原子または塩素原
   子を表わす。〕 で示されるビストリアゾリルケトン系化合物の製造法。 （，２）一般式 〔式中、又は水素原子または塩素原子を、Ｙはアルキル
   基またはハロゲン原子を表わす。〕 で示されるスルホニルケトンブロマイド系化合物と塩基
   とを反応させて、一般式 〔式中、ＸおよびＹは前述のとおりである。〕で示され
   るスルホニルビニルケトン系化合物となし、ついでこれ
   と／＋−２＋”−トリアゾールとを塩基の存在下反応さ
   せることを特徴とする一般式 で示されるビストリアゾリルケトン系化合物の製造法。