JPS58177935A - ｄ−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸の製造方法 - Google Patents
ｄ−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸の製造方法Info
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- JPS58177935A JPS58177935A JP6123782A JP6123782A JPS58177935A JP S58177935 A JPS58177935 A JP S58177935A JP 6123782 A JP6123782 A JP 6123782A JP 6123782 A JP6123782 A JP 6123782A JP S58177935 A JPS58177935 A JP S58177935A
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- dimethylcyclopropanecarboxylic acid
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、デヒドロペプチダーゼｌ阻害剤の中間体など
として、あるいは光学分割剤とじて有用なａ−２，２−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸の取得方法に関する
。
として、あるいは光学分割剤とじて有用なａ−２，２−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸の取得方法に関する
。
従来より、＋１−．２．２−ジメチルシクロプロパンカ
ルボン酸の製造方法としては、ｄＪｔ−Ｊ。
ルボン酸の製造方法としては、ｄＪｔ−Ｊ。
コージメチルシクロプロパンカルボン酸を光学分割する
方法が知られており、分割方法として／）キニンによる
分割（特開昭３６−３７θ）３号令＄１）１．２）ｄ−
またはＬ−α−フェネチルアミンによる分割（英国特許
第７．Ｊ９ｇｐ号明細書）が公知である。
方法が知られており、分割方法として／）キニンによる
分割（特開昭３６−３７θ）３号令＄１）１．２）ｄ−
またはＬ−α−フェネチルアミンによる分割（英国特許
第７．Ｊ９ｇｐ号明細書）が公知である。
しかし、前者の方法は分割剤としては非常に高価で、し
かもその供給が不安定なキニンを使用しなければならな
いうえ、収率も低いという問題があり、また後者の方法
は旋光度が＋６５０という光学純度の低い（１−２，，
２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸しか得られない
という問題があり、これらの方法はいずれ本光学純度の
高い＋１−．１．２−ジメチルシクロプロパンカルボン
酸を工業的に有利に得る方法とは言えない。
かもその供給が不安定なキニンを使用しなければならな
いうえ、収率も低いという問題があり、また後者の方法
は旋光度が＋６５０という光学純度の低い（１−２，，
２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸しか得られない
という問題があり、これらの方法はいずれ本光学純度の
高い＋１−．１．２−ジメチルシクロプロパンカルボン
酸を工業的に有利に得る方法とは言えない。
このようなことから、本発明者らは光学的純度の高いｄ
−Ｊ、２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸を好収率
で、工業的有利に製造すべく検討の結果、本発明に至っ
た。
−Ｊ、２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸を好収率
で、工業的有利に製造すべく検討の結果、本発明に至っ
た。
すなわち本発明は１．２．．２−ジメチルシクロプロパ
ンカルボン酸に、正の旋光度を有する一般式（り （式中、Ｒ１およびＲ２１ｊ：水素原子または低級アル
キル基を示す。） で示される光学活性アミンを作用させて光学分割するこ
とを特徴とするｄ−２，−一ジメチルシクロプロパンカ
ルボン酸の製造方法である。
ンカルボン酸に、正の旋光度を有する一般式（り （式中、Ｒ１およびＲ２１ｊ：水素原子または低級アル
キル基を示す。） で示される光学活性アミンを作用させて光学分割するこ
とを特徴とするｄ−２，−一ジメチルシクロプロパンカ
ルボン酸の製造方法である。
以下、本発明の詳細な説明する。
出発原料として用いられるコア。２−ジメチルシクロプ
ロパンカルポン酸はラセミ体もしくはｄ一体が過剰に含
まれている該カルボン酸が用いられるが、なかでもｄ一
体が過剰に含まれているλ１．２−ジメチルシクロプロ
パンカルポン酸を原料とする場合に、より効率的に分割
が行われる。かかるｄ一体過剰のカルボン酸は、たとえ
ば米国特許第４１，０２９，６９０号明細書に記載され
るような方法により容易に得ることができる。
ロパンカルポン酸はラセミ体もしくはｄ一体が過剰に含
まれている該カルボン酸が用いられるが、なかでもｄ一
体が過剰に含まれているλ１．２−ジメチルシクロプロ
パンカルポン酸を原料とする場合に、より効率的に分割
が行われる。かかるｄ一体過剰のカルボン酸は、たとえ
ば米国特許第４１，０２９，６９０号明細書に記載され
るような方法により容易に得ることができる。
ここで、ｄ一体過剰率すなわち光学純度は任意であるが
、通常／ｊ％１゛４、上、好ましくは３θチ以上がよい
。
、通常／ｊ％１゛４、上、好ましくは３θチ以上がよい
。
コ、−−ジメチルシクロプロパンカルボン酸の光学分割
処理は、該カルボン酸と前記一般式（１）で示される光
学活性アミンとを溶媒中で反応させて、ジアステレオマ
ー塩を形成せしめ、反応混合物を徐冷してｄ一体のジア
ステレオマー塩を析出させ、これを分離したのち分解す
ることにより行われる。
処理は、該カルボン酸と前記一般式（１）で示される光
学活性アミンとを溶媒中で反応させて、ジアステレオマ
ー塩を形成せしめ、反応混合物を徐冷してｄ一体のジア
ステレオマー塩を析出させ、これを分離したのち分解す
ることにより行われる。
ジアステレオマー塩の生成反応において用いられる光学
活性アミンの使用量は、２．２−ジメチルシクロプロパ
ンカルボン酸に対して通常へλ倍モル以下、好ましくは
θ。５〜７倍モルである。
活性アミンの使用量は、２．２−ジメチルシクロプロパ
ンカルボン酸に対して通常へλ倍モル以下、好ましくは
θ。５〜７倍モルである。
ここで一般式（１）で示される光学活性アミンとしては
、たとえば（＋）−α−フェニル−β−（ｐ−トリル）
−エチルアミン、（＋）−α−（ｐ−トリル）−β−フ
ェニル−エチルアミン、（→−）−α−フェニル−β−
フェニル−エチルアミンなどがあげられる。
、たとえば（＋）−α−フェニル−β−（ｐ−トリル）
−エチルアミン、（＋）−α−（ｐ−トリル）−β−フ
ェニル−エチルアミン、（→−）−α−フェニル−β−
フェニル−エチルアミンなどがあげられる。
上記反応で使用される有機溶媒としては、メタノール、
エタノール、インプロパツール、ｎ−プロパツール、ア
セトンおよびそれらの水溶液または酢酸エチル、トルエ
ン、ベンゼン、クロロホルム、ヘキサン、ナト５ヒドロ
フランあるいはそれらの混合溶媒等が例示される。
エタノール、インプロパツール、ｎ−プロパツール、ア
セトンおよびそれらの水溶液または酢酸エチル、トルエ
ン、ベンゼン、クロロホルム、ヘキサン、ナト５ヒドロ
フランあるいはそれらの混合溶媒等が例示される。
反応温度については一２θ℃〜使用溶媒の沸点の範囲で
任意であるが、生成したジアステレオマー塩が析出する
温度以上が好ましい。
任意であるが、生成したジアステレオマー塩が析出する
温度以上が好ましい。
上記の反応によってジアステレオマー塩を生成せしめた
のち、反応混合物を徐冷し、目的とするｄ一体のジアス
テレオマー塩を析出させる。
のち、反応混合物を徐冷し、目的とするｄ一体のジアス
テレオマー塩を析出させる。
もし必要とあらば取得した結晶はさらに再結晶を繰りか
えし精製することができる。
えし精製することができる。
このようにして得た結晶はこれをｒ別し、さらに必要な
らば乾燥させたのち、酸あるいはアルカリによってこれ
を分解する。酸を用いる場合は塩酸、硫酸、リン酸、酢
酸等が用いられ、遊離するｄ−２，２−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸は有機溶媒（たとえばトルエン、ベ
ンゼン、クロロホルム、酢酸エチルエステル、エチルエ
ーテルなど）で抽出単票さ九る。
らば乾燥させたのち、酸あるいはアルカリによってこれ
を分解する。酸を用いる場合は塩酸、硫酸、リン酸、酢
酸等が用いられ、遊離するｄ−２，２−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸は有機溶媒（たとえばトルエン、ベ
ンゼン、クロロホルム、酢酸エチルエステル、エチルエ
ーテルなど）で抽出単票さ九る。
分解反応にアルカリを用いる場合は苛性ソーダ、苛性カ
リ等が用いられ、分解反応液を有機溶媒で抽出すること
により、分割剤として使用した光学活拙アミンが有機溶
媒層に移行し、当該光学活性カルボン酸は塩として水層
に移行する。この水層に酸を加えて中和し、有機溶媒で
抽出すると（１−，２，２−ジメチルシクロプロパンカ
ルボン酸が有機層に抽出される。
リ等が用いられ、分解反応液を有機溶媒で抽出すること
により、分割剤として使用した光学活拙アミンが有機溶
媒層に移行し、当該光学活性カルボン酸は塩として水層
に移行する。この水層に酸を加えて中和し、有機溶媒で
抽出すると（１−，２，２−ジメチルシクロプロパンカ
ルボン酸が有機層に抽出される。
このときの酸および抽出有機溶媒としては、前記と同様
のものが用いられる。
のものが用いられる。
かくして改−２，−−ジメチルシクロプロパンカルボン
酸が効率よく得られ、また使用した光学活性アミンも回
収することができる０次に実施例をあげて本発明を説明
する０実施例／ −９，２−ジメチルシクロプロパンカルポン酸（ｄ体逼
剰率ｊ乙ｌＩ１％）Ｊθ２、ｄ−α−フェニル−β−（
ｐ−トリル）−エチルアミンｓｓ、ｓ ｙおよびベンゼ
ン−２をフラスコに仕込み７時間還流する。その後３０
〜ゲθ℃で、別途に調製した（１−ｊ、、２−ジメチル
シクロプロパンカルボン酸とｄ−α−フェニル−β−（
ｐ−）リル）エチルアミンのジアステレオマー塩の結晶
を種晶として少量加え、７０℃まで徐冷し、析出した結
晶をｒ別する。
酸が効率よく得られ、また使用した光学活性アミンも回
収することができる０次に実施例をあげて本発明を説明
する０実施例／ −９，２−ジメチルシクロプロパンカルポン酸（ｄ体逼
剰率ｊ乙ｌＩ１％）Ｊθ２、ｄ−α−フェニル−β−（
ｐ−トリル）−エチルアミンｓｓ、ｓ ｙおよびベンゼ
ン−２をフラスコに仕込み７時間還流する。その後３０
〜ゲθ℃で、別途に調製した（１−ｊ、、２−ジメチル
シクロプロパンカルボン酸とｄ−α−フェニル−β−（
ｐ−）リル）エチルアミンのジアステレオマー塩の結晶
を種晶として少量加え、７０℃まで徐冷し、析出した結
晶をｒ別する。
得られる結晶はさらに／ざ倍重量部のベンゼンで再結晶
を行い、件、／Ｓ’の結晶を得た。
を行い、件、／Ｓ’の結晶を得た。
次にここで得た塩幻、θ？、エチルエーテル−００Ｉ！
／および水ｊθｄの混合液に／θチ塩酸水５６ノを加え
て塩を分解し、（１−１，２−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸を有機層に抽出する。有機層を水洗し、エー
テルを留去したのち、蒸留により＋１−．２．．２−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸７１１．６１１ （収
率ＳＯＳ、対仕込カルボン酸）を得た。
／および水ｊθｄの混合液に／θチ塩酸水５６ノを加え
て塩を分解し、（１−１，２−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸を有機層に抽出する。有機層を水洗し、エー
テルを留去したのち、蒸留により＋１−．２．．２−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸７１１．６１１ （収
率ＳＯＳ、対仕込カルボン酸）を得た。
〔α〕萱 ／グｔ、／’（０＝八クロロホルム）ルと
のエステルにし、ジアステレオマーとしてガスクロマト
グラフィーにより測定した。）実施例Ｊ フラスコにコ９．２−ジメチルシクロプロパンカルポン
酸（ａ体過剰率７３．９％）／！；Ｐ。
のエステルにし、ジアステレオマーとしてガスクロマト
グラフィーにより測定した。）実施例Ｊ フラスコにコ９．２−ジメチルシクロプロパンカルポン
酸（ａ体過剰率７３．９％）／！；Ｐ。
イソプロピルアルコール２１Ｉθｄ１水３．２θｄおよ
びｄ−α−フェニル−８−＜ｐ−トリル）−エチルアミ
ンＺ、に２を加え、３０分還流する。その後１ｊ−５θ
℃で実施例／と同じ種晶を少量加え、／ｊ’ｃまで徐冷
し、析出した結晶をＰ別する。塩ｘ、ｊグを得た。
びｄ−α−フェニル−８−＜ｐ−トリル）−エチルアミ
ンＺ、に２を加え、３０分還流する。その後１ｊ−５θ
℃で実施例／と同じ種晶を少量加え、／ｊ’ｃまで徐冷
し、析出した結晶をＰ別する。塩ｘ、ｊグを得た。
次にここで得た塩、２ｊ？、エチルエーテル／、２θ−
および水３θ−をフラスコに仕込み、／θチ塩酸３２１
！を加え、塩を分解する。以下実施例／に準じて後処理
、精製し、得られる残渣を蒸留する０ 得量ｒ、Ａ３ｆｃ収率７θ。−チ対仕込カルボン酸）〔
α瑠／Ｎ、グ０（Ｃ＝八へロロホルム）４体過剰率
タデ、にチ 含量 ９ｔ、タデ実施例３ コ、コージエチルシクロブロバンヵルボン酸（４体過剰
率１／Ｊチ）ｌ／、グｐ、ａ−α−フェニル−θ−（ｐ
−トリル）−エチルアミン２／、／ ｆおよびトルエン
ｊθθｄをフラスコに仕込み７時間還流する。その後ｊ
ｊ〜６０℃にて種晶を少量加え、−０℃まで徐冷し、析
出した結晶をｒ別する。
および水３θ−をフラスコに仕込み、／θチ塩酸３２１
！を加え、塩を分解する。以下実施例／に準じて後処理
、精製し、得られる残渣を蒸留する０ 得量ｒ、Ａ３ｆｃ収率７θ。−チ対仕込カルボン酸）〔
α瑠／Ｎ、グ０（Ｃ＝八へロロホルム）４体過剰率
タデ、にチ 含量 ９ｔ、タデ実施例３ コ、コージエチルシクロブロバンヵルボン酸（４体過剰
率１／Ｊチ）ｌ／、グｐ、ａ−α−フェニル−θ−（ｐ
−トリル）−エチルアミン２／、／ ｆおよびトルエン
ｊθθｄをフラスコに仕込み７時間還流する。その後ｊ
ｊ〜６０℃にて種晶を少量加え、−０℃まで徐冷し、析
出した結晶をｒ別する。
得られる結晶はさらに／Ｓ倍重量部のトルエンで再結晶
を行い、χＪＰの結晶を得た。
を行い、χＪＰの結晶を得た。
次にことで得た結晶、トルエン！Ｏｄおよび水３θｄを
フラスコに仕込み、／θチ塩酸 ＣコアＦを加え、塩を
分解する。以下実施例／およびコに準じて後処理、精製
する。
フラスコに仕込み、／θチ塩酸 ＣコアＦを加え、塩を
分解する。以下実施例／およびコに準じて後処理、精製
する。
得量７．ざ／ｙ（収率ｌＪＪチ）
４体過剰率 タ５．３９６
実施例１
実施例３においてトルエンｊθθｄをメタノール６θｄ
１水６θθ−に変更する以外は実施例３と同様に反応し
、７０〜ｇθ℃にて接種、−０℃まで徐冷する。析出し
た結晶は／り、７１であった。
１水６θθ−に変更する以外は実施例３と同様に反応し
、７０〜ｇθ℃にて接種、−０℃まで徐冷する。析出し
た結晶は／り、７１であった。
次にここで得た塩／？Ｐ％）ルエン３０ｄ！および水３
θｄをフラスコに仕込み、／θチ塩酸２６Ｆを加え、塩
を分解する。以下実施例コに準じて後処理精製する。
θｄをフラスコに仕込み、／θチ塩酸２６Ｆを加え、塩
を分解する。以下実施例コに準じて後処理精製する。
得量Ａ、６３ｔ （ｕ、Ｊチ）
４体過剰率 ９７．ｔ％
実施例！
フラスコに−９，２−ジメチルシクロプロパンカルボン
酸（ａ体過剰率７ｊ、／チ）Ｈ，ｔｆ。
酸（ａ体過剰率７ｊ、／チ）Ｈ，ｔｆ。
ｄ−α−フェニル−β−（ｐ−トリル）−エチルアミン
Ｘ、θ？、水ダθθ−およびイソプロビルアルコールダ
θθｄを加え３０分還流する。
Ｘ、θ？、水ダθθ−およびイソプロビルアルコールダ
θθｄを加え３０分還流する。
その後４Ｉｊ℃で実施例／と同じ種晶を少量加え、７５
℃まで徐冷し、析出した結晶をｒ別する０塩仰、り７を
得た。
℃まで徐冷し、析出した結晶をｒ別する０塩仰、り７を
得た。
次にここで得た塩υ、ｓ ｙ、トルエン／５ｏｌＥ１１
′および水３０ｄをフラスコに仕込み、−〇−苛性ソー
ダ、２’ｌｔを加え、塩を分解する。水層を分液し、／
θチ塩酸弼Ｊ ＳＦを加え、遊離するカルボン酸をエチ
ルエーテルにβ−にて抽出する。以下実施例／に準じて
後処理、精製し得ら江る残渣を蒸留する。トルエン層か
らはｄ−α−フェニル−β−（ｐ−トリル）−エチルア
ミンを回収する。
′および水３０ｄをフラスコに仕込み、−〇−苛性ソー
ダ、２’ｌｔを加え、塩を分解する。水層を分液し、／
θチ塩酸弼Ｊ ＳＦを加え、遊離するカルボン酸をエチ
ルエーテルにβ−にて抽出する。以下実施例／に準じて
後処理、精製し得ら江る残渣を蒸留する。トルエン層か
らはｄ−α−フェニル−β−（ｐ−トリル）−エチルア
ミンを回収する。
得量／／、Ｊ Ｐ （収率ＩＪ、３ ％対仕込カルボン
酸）〔α〕Ｗ／侭、、１０ （、Ｏ＝へクロロホルム
）４体過剰率 ９デ、７％、含量 ？に、７デ手続補
正害（自発） Ｉ 事件の表示 昭和５７年 特許願第 ６１２８７ 月２ 発明の名
称 ｄ−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸の製造
方法 ３ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪市東区北浜５丁目１５ｉ地明細書の特許
請求の範囲および発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 （１１明細１の特許請求の範囲を別紙のとおり補正する
。
酸）〔α〕Ｗ／侭、、１０ （、Ｏ＝へクロロホルム
）４体過剰率 ９デ、７％、含量 ？に、７デ手続補
正害（自発） Ｉ 事件の表示 昭和５７年 特許願第 ６１２８７ 月２ 発明の名
称 ｄ−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸の製造
方法 ３ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪市東区北浜５丁目１５ｉ地明細書の特許
請求の範囲および発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 （１１明細１の特許請求の範囲を別紙のとおり補正する
。
（２） 明細１第８頁第２〜第８行目、第４頁第５行
目および第４頁第１８〜第１４行目に「２゜２−ジメチ
ルシクロプロパンカルボン酸」とあるを、それぞれ「ｄ
一体を過剰に含む２゜２−ジメチルシクロプロパンカル
ボン酸」と補正する。
目および第４頁第１８〜第１４行目に「２゜２−ジメチ
ルシクロプロパンカルボン酸」とあるを、それぞれ「ｄ
一体を過剰に含む２゜２−ジメチルシクロプロパンカル
ボン酸」と補正する。
（３１同＠８頁Ｆから第８行目〜Ｆから第２行目に、「
出発原料として用いられる・・・・・・ｄ一体過剰のカ
ルボン酸は、」とあるを、［出発原料として用いられる
ｄ一体を過剰に含む２゜２−ジメチルシクロプロパンカ
ルボン酸は］と補正する。
出発原料として用いられる・・・・・・ｄ一体過剰のカ
ルボン酸は、」とあるを、［出発原料として用いられる
ｄ一体を過剰に含む２゜２−ジメチルシクロプロパンカ
ルボン酸は］と補正する。
以 上
２、特許請求の範囲
ｄ一体１！ｌｉに含む２．２−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸に、正の旋光度を有する一般式 （式中、Ｒ１およびＲ２は水素原子または低級アルキル
基を示す。） で示される光学活性アミンを作用させて光学分割するこ
とを特徴とするｄ−２，２−ジメチルシクロプロパンカ
ルボン酸の製造方法。
カルボン酸に、正の旋光度を有する一般式 （式中、Ｒ１およびＲ２は水素原子または低級アルキル
基を示す。） で示される光学活性アミンを作用させて光学分割するこ
とを特徴とするｄ−２，２−ジメチルシクロプロパンカ
ルボン酸の製造方法。
Claims (1)
- （１）２．２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸に、
正の旋光度を有する一般式 （式中、Ｒ１およびＲ２は水素原子または低級アルキル
基を示す。） で示される光学活性アミンを作用させて光学分割するこ
とを特徴とするｄ−ｊ、、２−ジメチルシクロプロパン
カルボン酸の製造方法。 （，２） ｄ一体を過剰に含むコ、２．−ジメチルシ
クロプロパンカルポン酸を出発原料とする特許請求の範
囲第１項に記載の方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6123782A JPS58177935A (ja) | 1982-04-12 | 1982-04-12 | ｄ−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸の製造方法 |
| US06/482,259 US4542235A (en) | 1982-04-12 | 1983-04-05 | Method for producing an optically active 2,2-dimethylcyclopropanecarboxylic acid |
| DE8383301925T DE3366389D1 (en) | 1982-04-12 | 1983-04-06 | Method for producing and optically active 2,2-dimethylcyclopropanecarboxylic acid |
| EP83301925A EP0093511B1 (en) | 1982-04-12 | 1983-04-06 | Method for producing and optically active 2,2-dimethylcyclopropanecarboxylic acid |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6123782A JPS58177935A (ja) | 1982-04-12 | 1982-04-12 | ｄ−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58177935A true JPS58177935A (ja) | 1983-10-18 |
| JPH0337534B2 JPH0337534B2 (ja) | 1991-06-05 |
Family
ID=13165415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6123782A Granted JPS58177935A (ja) | 1982-04-12 | 1982-04-12 | ｄ−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58177935A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11279111A (ja) * | 1998-01-29 | 1999-10-12 | Sumitomo Chem Co Ltd | 光学活性な菊酸の製造方法 |
-
1982
- 1982-04-12 JP JP6123782A patent/JPS58177935A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11279111A (ja) * | 1998-01-29 | 1999-10-12 | Sumitomo Chem Co Ltd | 光学活性な菊酸の製造方法 |
| JP4576642B2 (ja) * | 1998-01-29 | 2010-11-10 | 住友化学株式会社 | 光学活性な菊酸の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0337534B2 (ja) | 1991-06-05 |
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