JPS58176143A - ガラス及びガラス繊維の親水化方法 - Google Patents
ガラス及びガラス繊維の親水化方法Info
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- JPS58176143A JPS58176143A JP57057012A JP5701282A JPS58176143A JP S58176143 A JPS58176143 A JP S58176143A JP 57057012 A JP57057012 A JP 57057012A JP 5701282 A JP5701282 A JP 5701282A JP S58176143 A JPS58176143 A JP S58176143A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- group
- glass fibers
- agent
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はガラス及びガラス繊細の親水化方法に関するも
のである。
のである。
従来、石綿は石綿セメント板など種々の製品に適用され
ているが、衛生上発ガン性などに間鵜があるために、法
律風１１１１によって代替品が求められている。代替品
の一つにガ２スｗＩ錐かあげられる。しかし、ガラス繊
細には石綿が有するような親水性、保水性、ｍ出ｍ形分
肪止など抄造法に必要な骨性に欠けている。
ているが、衛生上発ガン性などに間鵜があるために、法
律風１１１１によって代替品が求められている。代替品
の一つにガ２スｗＩ錐かあげられる。しかし、ガラス繊
細には石綿が有するような親水性、保水性、ｍ出ｍ形分
肪止など抄造法に必要な骨性に欠けている。
本発明者らはｌラス繊細な石綿と同様の性質を有するよ
うな処理方法を鋭意研究した結果、ガラスを親水化する
属水化剤を見い出し、これｔガラス線−に施し【、ガラ
スＩＩＩＪＩを水にぬれ易くすると共和分散性喪好なし
かも保水性にすぐれたガラス繊細を提供するととに成功
した。
うな処理方法を鋭意研究した結果、ガラスを親水化する
属水化剤を見い出し、これｔガラス線−に施し【、ガラ
スＩＩＩＪＩを水にぬれ易くすると共和分散性喪好なし
かも保水性にすぐれたガラス繊細を提供するととに成功
した。
すなわち、本楯明者らは、次の一般式（夏）で表わされ
る化合物 （ ２ｘθ ｂ （但し％へ・４・馳Ｒａ、Ｒａ はアルーＩＰル基、島
はアルキレン基、〜、Ｉｌａはアル中しン基、アッルキ
レン基、二重結合または酸３１１１［子含有有機基、Ｘ
は塩素原子または臭ｌ！原子８％は任意の整数を表わす
、） 本発明に使用される一般式（１）で表わされる化合物（
以下親水化剤と称する）は新規化合物であり次のように
して脅威される。すなわち、次の一般式（層）で表わさ
れる１個のアルコキシ基及び般式■で表わされるジー−
ダン化合物とを適当な溶媒中でメンシェドキン反応を行
なわせることＫよって得られるもの！ある。
る化合物 （ ２ｘθ ｂ （但し％へ・４・馳Ｒａ、Ｒａ はアルーＩＰル基、島
はアルキレン基、〜、Ｉｌａはアル中しン基、アッルキ
レン基、二重結合または酸３１１１［子含有有機基、Ｘ
は塩素原子または臭ｌ！原子８％は任意の整数を表わす
、） 本発明に使用される一般式（１）で表わされる化合物（
以下親水化剤と称する）は新規化合物であり次のように
して脅威される。すなわち、次の一般式（層）で表わさ
れる１個のアルコキシ基及び般式■で表わされるジー−
ダン化合物とを適当な溶媒中でメンシェドキン反応を行
なわせることＫよって得られるもの！ある。
ｘｅ
（１）
但し、Ｒ１−Ｒｓ −Ｒａ −Ｒｓ −Ｒｓ −Ｒｅ
−Ｒｖ −Ｒｅ −Ｘ及び亀は前記と同じでＩＩｊる。
−Ｒｖ −Ｒｅ −Ｘ及び亀は前記と同じでＩＩｊる。
化合物１）のアルキル基（Ｒ１）は低級アルキル基が好
ましく、例えばメチル基、エチル基、グービル基、ブチ
ル基などがあげられる。化合物（■）のアルキレン基（
Ｒ１）は低級アルキレン基が好ましく、例えばエチレン
基、ブーピレン篠、ブチレン基、ペンタメチレン基、ヘ
キサメチレン基などがあげられる。化合物値）の具体例
なあげれば （Ｃ）１．０）、８↓ＣＨ，ＣＨｇ ＣＭ、 Ｃ／（Ｃ
Ｍ＠ Ｏ）１ Ｂ Ａ ＣＭ＠ ＣＨＥＩ ＣＨｇ Ｂ
ｒ（Ｃ，Ｈ，Ｏ）８８ＡＣＨ，ＣＩｉ、 ＣＴＩ、 ａ
ｉｒ（Ｃｇ Ｈｇ Ｏ）、８４ ＣＨｇ Ｃ１１ｐ Ｃ
４Ｂｒ（ＣＨｓ Ｏ）ｓ Ｂｂ ＣＨｔ Ｃｋ ＣＨ
ｔ ＣＢａ （？（”ＨＩ Ｏ）ｓ ８４ ＣＢａ
Ｃ＄ ＣＨ，−１’３ｒ（Ｃｔ Ｔｉｅ Ｏ）ｓ ％
Ｃｕｔ ＣＢａ Ｃｕｔ ＣＢａ ＣＨ（ＣＨ，Ｏ）、
８ｋＣＭ、 ＣＨ，Ｃｌｔｍ偽国、 ｅｌｌ、 Ｑ！Ｆ
などかあげられる。
ましく、例えばメチル基、エチル基、グービル基、ブチ
ル基などがあげられる。化合物（■）のアルキレン基（
Ｒ１）は低級アルキレン基が好ましく、例えばエチレン
基、ブーピレン篠、ブチレン基、ペンタメチレン基、ヘ
キサメチレン基などがあげられる。化合物値）の具体例
なあげれば （Ｃ）１．０）、８↓ＣＨ，ＣＨｇ ＣＭ、 Ｃ／（Ｃ
Ｍ＠ Ｏ）１ Ｂ Ａ ＣＭ＠ ＣＨＥＩ ＣＨｇ Ｂ
ｒ（Ｃ，Ｈ，Ｏ）８８ＡＣＨ，ＣＩｉ、 ＣＴＩ、 ａ
ｉｒ（Ｃｇ Ｈｇ Ｏ）、８４ ＣＨｇ Ｃ１１ｐ Ｃ
４Ｂｒ（ＣＨｓ Ｏ）ｓ Ｂｂ ＣＨｔ Ｃｋ ＣＨ
ｔ ＣＢａ （？（”ＨＩ Ｏ）ｓ ８４ ＣＢａ
Ｃ＄ ＣＨ，−１’３ｒ（Ｃｔ Ｔｉｅ Ｏ）ｓ ％
Ｃｕｔ ＣＢａ Ｃｕｔ ＣＢａ ＣＨ（ＣＨ，Ｏ）、
８ｋＣＭ、 ＣＨ，Ｃｌｔｍ偽国、 ｅｌｌ、 Ｑ！Ｆ
などかあげられる。
第三級ジアンン（■のアルキル基（Ｒａ ）、（Ｒａ
）。
）。
（Ｒｓ）−（Ｒａ）は立体障害によるメンシェドキン反
応の反応性の低下の見地から低級アルキル基が好ましく
例えばメチル基、エチル基、プロピル基などがあげられ
る。（−）は炭素数！乃至１８のアルキレン基、アッル
キレン基、し重結合または酸素原子含有有機基がａＳさ
れる。一般式（１）で表わされる第三緩りアンの異体例
とし【はＣ１１ｓ ＣＭ
＠などがあげられる。
応の反応性の低下の見地から低級アルキル基が好ましく
例えばメチル基、エチル基、プロピル基などがあげられ
る。（−）は炭素数！乃至１８のアルキレン基、アッル
キレン基、し重結合または酸素原子含有有機基がａＳさ
れる。一般式（１）で表わされる第三緩りアンの異体例
とし【はＣ１１ｓ ＣＭ
＠などがあげられる。
ジハロゲン化合物■の（−）は 炭素数２乃至１８のア
ルキル基、アラルキレン基、二重結合または酸素原子含
有有機基が推奨される。
ルキル基、アラルキレン基、二重結合または酸素原子含
有有機基が推奨される。
一般式側で表わされるジハロゲン化合物の具体例として
は ＣＩ ＣＢ、 ＣＭ、 ｃｔＢｒ Ｃ１１ｌ Ｃ１１１
Ｂｒ （ＩＣＨ，ＣＭ、 Ｃｍ、ＣＩＢｒＣＨ１Ｃ１
１１１Ｃ４Ｂｒ Ｃ１（Ｃ１［ｔ）＋（ｒ Ｂｒ
（ＣＨ２）＊”（１（０１１１１＊ ）＠ （）！’
１ｈ（Ｃｌ６ ）＠ｌｒ ｆｆ（ＣＨ＊ ）ｓｏ
”ＢｒｃＣＨ，）ｌｅ Ｂｒ ｃｘｃｖｔ、 −（）
−Ｃ４ｃｔｃｒａｇ、 −＜：＞ −０−＜：＞ −
（ｆｆ、 ｃｒりＣ馬ＣＨ＝ ＣＩ！ ＣＨ，σ ｃｒ
ａｍ、 ｃｏｏ ｃ島国１刀ＣＣＨ，す＃ ＣＨ，Ｃｏ
ｏ （ＣＨ，）、 ＯＯＣＣ１ｌ＠ ｆｆｃｙｃａ、
ｃｏｏ （ＣＨ，）、 Ｏ（Ｃ！Ｉ！、 ）、 ００
ｃＨ，ＱＦｃｚｃ４ ｃｏｏ Ｃ４Ｃｌｌｍｅｌ ｃ−
■Ｃ１ｌ、Ｏ１ｌなどがあげられる。
は ＣＩ ＣＢ、 ＣＭ、 ｃｔＢｒ Ｃ１１ｌ Ｃ１１１
Ｂｒ （ＩＣＨ，ＣＭ、 Ｃｍ、ＣＩＢｒＣＨ１Ｃ１
１１１Ｃ４Ｂｒ Ｃ１（Ｃ１［ｔ）＋（ｒ Ｂｒ
（ＣＨ２）＊”（１（０１１１１＊ ）＠ （）！’
１ｈ（Ｃｌ６ ）＠ｌｒ ｆｆ（ＣＨ＊ ）ｓｏ
”ＢｒｃＣＨ，）ｌｅ Ｂｒ ｃｘｃｖｔ、 −（）
−Ｃ４ｃｔｃｒａｇ、 −＜：＞ −０−＜：＞ −
（ｆｆ、 ｃｒりＣ馬ＣＨ＝ ＣＩ！ ＣＨ，σ ｃｒ
ａｍ、 ｃｏｏ ｃ島国１刀ＣＣＨ，す＃ ＣＨ，Ｃｏ
ｏ （ＣＨ，）、 ＯＯＣＣ１ｌ＠ ｆｆｃｙｃａ、
ｃｏｏ （ＣＨ，）、 Ｏ（Ｃ！Ｉ！、 ）、 ００
ｃＨ，ＱＦｃｚｃ４ ｃｏｏ Ｃ４Ｃｌｌｍｅｌ ｃ−
■Ｃ１ｌ、Ｏ１ｌなどがあげられる。
上記親水化剤（１）の合成に用いられるメンシェド中ン
反応は有機＃１１／Ｉ＆中を行赴われるが、反応速度の
見糟から極性溶媒な用いる方が好ましく例えばジメチル
ホルムア電ド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホ
キナイド、Ｎ−メチルピロリドン、ニトロメタン、ニト
ロベンゼン。
反応は有機＃１１／Ｉ＆中を行赴われるが、反応速度の
見糟から極性溶媒な用いる方が好ましく例えばジメチル
ホルムア電ド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホ
キナイド、Ｎ−メチルピロリドン、ニトロメタン、ニト
ロベンゼン。
アセトニトリル、メチルアルコール、エチルアルコール
またはこれらの温合溶媒などがあげられる。反応温度及
び反応時間は反応に用いる化合物（ＩＩ） 、 （１）
、欄の種類及び溶媒の種＠によって異なるが１通常は
３０℃乃至１１０℃の温度で数時間乃至５０時間程度で
完結する０本発明の親水化剤（１）の合成には第三級ジ
アミン（１）とジハロゲン化合物Ｍは等モル量づつ使用
することが望ましいが、特定の第三級シア（ン及びジハ
ロゲン化合物は他の第三級ジアミンまたはジハロゲン化
合物で１部置換することができる。すなわち、この場合
には共付加重合体が得られる。
またはこれらの温合溶媒などがあげられる。反応温度及
び反応時間は反応に用いる化合物（ＩＩ） 、 （１）
、欄の種類及び溶媒の種＠によって異なるが１通常は
３０℃乃至１１０℃の温度で数時間乃至５０時間程度で
完結する０本発明の親水化剤（１）の合成には第三級ジ
アミン（１）とジハロゲン化合物Ｍは等モル量づつ使用
することが望ましいが、特定の第三級シア（ン及びジハ
ロゲン化合物は他の第三級ジアミンまたはジハロゲン化
合物で１部置換することができる。すなわち、この場合
には共付加重合体が得られる。
本発明に使用される親水化剤中の箕は平均の重合度を表
わすものであり、その値は化合物（Ｉｆ）と化合物（１
）または化合物Ｗのモル数の比によってコン−ロールす
ることかでき、親水化に適用するには５≦篤≦２００の
範囲が推奨される。
わすものであり、その値は化合物（Ｉｆ）と化合物（１
）または化合物Ｗのモル数の比によってコン−ロールす
ることかでき、親水化に適用するには５≦篤≦２００の
範囲が推奨される。
本発＃４ＶＣ使用される親水化剤の具体例としては
２Ｃ１θ
ＣＨ，Ｃに×コａｌｌ、 −］ト、
１１ｒｅ
２σθ
２砂ｐ
Ｂｒｅ
ｃＰ
２Ｃ１θ
２Ｂθ
ｒ
Ｂｐ
２Ｃ／θ
ＣＨ，ＣＴｌｇＣＨＣＨ，）ｓ
１１
２Ｃｒθ
ＣＨ。
ｅ
（ＣＨ，０）、８１ＣＨ，ＣＢ、 Ｃ１１ｉ、 −１セ
ー（Ｃｕｔ ）ｔ Ｏ（Ｃ１ｌｙ）ｔ Ｏ（ＣＨｔ ）
＊ＣＨ，ＣＨ。
ー（Ｃｕｔ ）ｔ Ｏ（Ｃ１ｌｙ）ｔ Ｏ（ＣＨｔ ）
＊ＣＨ，ＣＨ。
ｅ
−Ｍ−ＣＨ＠ ＣＨ−ｅｃＴ（ＣＨＩ ）、―
龜
ｃＨ” ２ａｅ
などがあげられる。
本発明の親水化剤はガラス及びガラス線維に適用して親
水化作用な有するものであるが、ガラス鎗細ＫＩＩ水化
剤を適用するＫは、親水化剤の溶液をガラス線維に塗布
または付着させるもので、例えば、通常のｊツス＊＊紡
出工程にお望て使用される集束剤付与装置において集束
剤に親木化剤な混入しておき、集束剤と共ＫｉＩｌｌ水
化剤浸し、これを次工程の加熱乾燥工程で焼き付けな行
なう、親水化剤の付着量はガラス線維に対して１０１〜
１０重量繁であって、性能及び経済的見地からａ１〜４
重量繁が好ましい。
水化作用な有するものであるが、ガラス鎗細ＫＩＩ水化
剤を適用するＫは、親水化剤の溶液をガラス線維に塗布
または付着させるもので、例えば、通常のｊツス＊＊紡
出工程にお望て使用される集束剤付与装置において集束
剤に親木化剤な混入しておき、集束剤と共ＫｉＩｌｌ水
化剤浸し、これを次工程の加熱乾燥工程で焼き付けな行
なう、親水化剤の付着量はガラス線維に対して１０１〜
１０重量繁であって、性能及び経済的見地からａ１〜４
重量繁が好ましい。
親水化剤の親水化機構は、親水化剤が水浴液中で加水分
解してケイ素原子に結合しているアルコキシ基がシラノ
ールとなり、ガラスｌ＃麹の８、−ＯＨ基とは加畷乾像
時（脱水縮合してガラス線維の表内とは共有結合を生成
する一方、第四アンモニウム塩残基がぎわめて高い親水
性な有するために、ガ５ス錬細の親水性１分散性及び保
水性が向上するものと思われる。
解してケイ素原子に結合しているアルコキシ基がシラノ
ールとなり、ガラスｌ＃麹の８、−ＯＨ基とは加畷乾像
時（脱水縮合してガラス線維の表内とは共有結合を生成
する一方、第四アンモニウム塩残基がぎわめて高い親水
性な有するために、ガ５ス錬細の親水性１分散性及び保
水性が向上するものと思われる。
従って、親水化剤で処理したガラス＊＊は、例えばガラ
ス紙の如き抄造分野や、石綿セメント板０石こうスラグ
歇、パルプセメント板などの製造における石綿代替分野
に有利に使用することができる。
ス紙の如き抄造分野や、石綿セメント板０石こうスラグ
歇、パルプセメント板などの製造における石綿代替分野
に有利に使用することができる。
さらに、本発明はガラスのｌ［！だけでなく、ガラスの
叡などにも適用できる０本発明の親水化剤で処理したガ
ラスの板に水滴を落してみると、水滴は直ちに広がって
しまって、水ｆｉｊ４は瞬時に消失する。
叡などにも適用できる０本発明の親水化剤で処理したガ
ラスの板に水滴を落してみると、水滴は直ちに広がって
しまって、水ｆｉｊ４は瞬時に消失する。
本発明の親水化したガラスは、上記親水性発現の機構か
らも推定されるように１親水性は半恒久的である。
らも推定されるように１親水性は半恒久的である。
本発明の親水化剤の効果はガラスＩＩＩ麹の沈降速度試
験及びガラス［Ｋ水＃１４を落下し、その接触角が小さ
いことによつ′’（ＩＥ明される。沈降速度試験は５０
０６Ｈのメスシリンダ中ｃｓｏｏｃｃまで水または水浴
液系、例えばポリエチレンオキサイド水浴液、カルダキ
シメテル竜ルｐ−ス水浴液、セメント上澄み液などｔ入
れて、その中で親水化剤で処理したガラス線Ｊｌｌｉ（
チョツプドストランド）及び親水化剤で処理しないガラ
ス繊細を投入し、５００ａｌのメスシリンダ中の４５ｏ
ｅｅから１００ａ：までの沈降時間を橢定する。この場
合、親水化剤で処理したガラス線維は水によくなじみ、
ガラス線維の１本１本が分散し、その沈降時間が親水化
剤で処理しない鹸＃ｌｌＫ比較し℃長い。
験及びガラス［Ｋ水＃１４を落下し、その接触角が小さ
いことによつ′’（ＩＥ明される。沈降速度試験は５０
０６Ｈのメスシリンダ中ｃｓｏｏｃｃまで水または水浴
液系、例えばポリエチレンオキサイド水浴液、カルダキ
シメテル竜ルｐ−ス水浴液、セメント上澄み液などｔ入
れて、その中で親水化剤で処理したガラス線Ｊｌｌｉ（
チョツプドストランド）及び親水化剤で処理しないガラ
ス繊細を投入し、５００ａｌのメスシリンダ中の４５ｏ
ｅｅから１００ａ：までの沈降時間を橢定する。この場
合、親水化剤で処理したガラス線維は水によくなじみ、
ガラス線維の１本１本が分散し、その沈降時間が親水化
剤で処理しない鹸＃ｌｌＫ比較し℃長い。
癖考例１
；、ノウ、□＄ ｋ Ａア。、。。、え、−２゜８ア。
１，３トリメトキシシツンｔｏ＃、）ｔ、）ｌ、Ｎ、Ｎ
−テトツメチルエチレンジア々ン１１＃、二塩化−Ｐ−
キシリレン１７．１＃Ｖ溶解させた溶液な７０℃で１２
時間加熱攪拌した０次いで反応混合物から減圧下＆Ｃｆ
ｎ媒を留去して淡褐色の残置を得た。この残置の分析か
ら、このものは次の構造式％式％ ｔ有する智質〔以下親水化剤（ト）と称する〕力１主成
分であることかｉｉｉ誌された。ｌｌ水化剤（ト）は絶
乾状態では粉末であるが、高吸湿性のため、大気中に放
置すると潮解性な示した。
−テトツメチルエチレンジア々ン１１＃、二塩化−Ｐ−
キシリレン１７．１＃Ｖ溶解させた溶液な７０℃で１２
時間加熱攪拌した０次いで反応混合物から減圧下＆Ｃｆ
ｎ媒を留去して淡褐色の残置を得た。この残置の分析か
ら、このものは次の構造式％式％ ｔ有する智質〔以下親水化剤（ト）と称する〕力１主成
分であることかｉｉｉ誌された。ｌｌ水化剤（ト）は絶
乾状態では粉末であるが、高吸湿性のため、大気中に放
置すると潮解性な示した。
参考例２
ジメチルホルムア建ド１００＃Ｋｒ−７０ルプｐピルト
リメトキシシランｔｏ＃、Ｎ、Ｍ、）ｌ’、Ｎ’−テト
ラメチルへキナメチレンシア叱ン１１２１ 、 二壜
化−Ｐ−キシリレン１７．５＃ ｖ１１解させて得ら
れた溶液な参考例１と同様に処理して淡褐色の残置を得
た。この残置の分析から、このもの＆１次の構造式 ） を有する物質〔以下親水化剤恒）と称する〕であること
が確認された。
リメトキシシランｔｏ＃、Ｎ、Ｍ、）ｌ’、Ｎ’−テト
ラメチルへキナメチレンシア叱ン１１２１ 、 二壜
化−Ｐ−キシリレン１７．５＃ ｖ１１解させて得ら
れた溶液な参考例１と同様に処理して淡褐色の残置を得
た。この残置の分析から、このもの＆１次の構造式 ） を有する物質〔以下親水化剤恒）と称する〕であること
が確認された。
実施例１
参考例１で得られた親水化１ｉｌ（４）のａ１％、（Ｌ
５％ｚＯ％ 水溶液を調製し、これら３種類の水溶液に
水集束したガラス繊細糸（集束数２００本、ｓ！維径径
１９〜２０ｊ浸漬し、これらを１日間風乾した後熱風乾
燥機中でｉＭＯ℃、１時間加熱してガラスＳ細糸に親水
化剤の焼き付けを施した。
５％ｚＯ％ 水溶液を調製し、これら３種類の水溶液に
水集束したガラス繊細糸（集束数２００本、ｓ！維径径
１９〜２０ｊ浸漬し、これらを１日間風乾した後熱風乾
燥機中でｉＭＯ℃、１時間加熱してガラスＳ細糸に親水
化剤の焼き付けを施した。
これらのものを１Ｓ謹の長さにカットしてチ曹ツブトス
トランドとし、沈降速度試験を行なった。
トランドとし、沈降速度試験を行なった。
沈降速度試験はポリエチレンオキサイド（ｐｇｏ）の水
溶液を用い【、上記詳述した方法により５ｏｏｃｃのメ
スシリンダ中で上記チョツプドストランドの沈降速度ｖ
ｍ定した結果を第１表に示す。なお、比較のために、水
集束しただけで。
溶液を用い【、上記詳述した方法により５ｏｏｃｃのメ
スシリンダ中で上記チョツプドストランドの沈降速度ｖ
ｍ定した結果を第１表に示す。なお、比較のために、水
集束しただけで。
親水化剤で処理しないガラス醸錐のチｌツブトストラン
ドについ（沈降速度試験をした結果な比較例で示す。
ドについ（沈降速度試験をした結果な比較例で示す。
第１表
なお、親水化剤囚の２０％水−液で処理した場合の親水
化剤の付着量は１３％であった。
化剤の付着量は１３％であった。
実施例２
参考例２で得られた雇水化剤恒）の１１％、ＣＬ５％。
２．０％水溶液な調製し、これら３種類の水浴液に水集
束したガラス蒙麹糸（集束本数２００本、＊＊径１９〜
２０声）を浸漬し、以下実施例１と同じよ５に処理して
試験用のチ冒ツブトストランドな得た。
束したガラス蒙麹糸（集束本数２００本、＊＊径１９〜
２０声）を浸漬し、以下実施例１と同じよ５に処理して
試験用のチ冒ツブトストランドな得た。
また、沈降速度試験溶液はポリエチレンオキサイド水溶
液の代りにセメント上置み液を用いた以外は実真例１と
同じように試験を行なった。得られた緒釆ｔ’ｌ１２表
に示す、なお、比較のために、水集束しただけで、親水
化剤で処理しないガラス＊＊のチョツプドストランドに
ついて沈降試験をした結果を比較例で示す。
液の代りにセメント上置み液を用いた以外は実真例１と
同じように試験を行なった。得られた緒釆ｔ’ｌ１２表
に示す、なお、比較のために、水集束しただけで、親水
化剤で処理しないガラス＊＊のチョツプドストランドに
ついて沈降試験をした結果を比較例で示す。
第２表
なお、親水化剤−）の１０％水Ｓ＊で処理した場合の親
水化剤の付着量はｔＳ％であった。
水化剤の付着量はｔＳ％であった。
実施例３
ガラスＩＩをり四ム酸温淑で洗浄し、このガラス板に参
考例１で得られたＪＩ＊化剤（４）の２０％水濤液Ｖ塗
布し、これｖｌｌＩＩ風乾燥機中１５０ｔ：で１時間加
熱して、親水化ａｔ’焼き付けしたガラス板を得た・こ
のガラス板虻水ＩＩを舊したところ、水筒は直ちに広が
り、その接雛角は５°以下であった。
考例１で得られたＪＩ＊化剤（４）の２０％水濤液Ｖ塗
布し、これｖｌｌＩＩ風乾燥機中１５０ｔ：で１時間加
熱して、親水化ａｔ’焼き付けしたガラス板を得た・こ
のガラス板虻水ＩＩを舊したところ、水筒は直ちに広が
り、その接雛角は５°以下であった。
これに対して親水化剤を塗布しなかったガラス板は水滴
な落下し【も広がることなく、長時間球状の水滴でとｙ
まっていた。
な落下し【も広がることなく、長時間球状の水滴でとｙ
まっていた。
以上のように１本発明の親水化剤で処理されたガラスま
たはｉラス４１ＪＩＩｌは親水性にすぐれており、ガラ
ス峻麹の場合には石綿の代替品として有利に使用するこ
とができる。
たはｉラス４１ＪＩＩｌは親水性にすぐれており、ガラ
ス峻麹の場合には石綿の代替品として有利に使用するこ
とができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 次の一般式で表わされる化合物 （但し、八・穐・穐・鳥ｅＲ＠ はアルキル基ｅＲ１
はアルキレン基＊Ｉ＋、＃−はアルキレン基、アラルを
表わす。） の少なくとも１種を含む系で処理すること′１に４？徴
とするガラス及びガラス繊細の親水化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57057012A JPS58176143A (ja) | 1982-04-06 | 1982-04-06 | ガラス及びガラス繊維の親水化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57057012A JPS58176143A (ja) | 1982-04-06 | 1982-04-06 | ガラス及びガラス繊維の親水化方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58176143A true JPS58176143A (ja) | 1983-10-15 |
Family
ID=13043523
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57057012A Pending JPS58176143A (ja) | 1982-04-06 | 1982-04-06 | ガラス及びガラス繊維の親水化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58176143A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0855372A1 (de) * | 1997-01-23 | 1998-07-29 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewandten Forschung E.V. | Verfahren zur Hydrophilierung von Glassubstraten und deren Verwendung |
| EP1625945A2 (en) | 2001-06-11 | 2006-02-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Surface hydrophilic material |
-
1982
- 1982-04-06 JP JP57057012A patent/JPS58176143A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0855372A1 (de) * | 1997-01-23 | 1998-07-29 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewandten Forschung E.V. | Verfahren zur Hydrophilierung von Glassubstraten und deren Verwendung |
| EP1625945A2 (en) | 2001-06-11 | 2006-02-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Surface hydrophilic material |
| US7306850B2 (en) | 2001-06-11 | 2007-12-11 | Fujifilm Corporation | Planographic printing plate precursor, substrate for the same and surface hydrophilic material |
| US7351513B2 (en) | 2001-06-11 | 2008-04-01 | Fujifilm Corporation | Planographic printing plate precursor, substrate for the same and surface hydrophilic material |
| EP1625945B1 (en) * | 2001-06-11 | 2009-12-23 | FUJIFILM Corporation | Surface hydrophilic material |
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