JPS58174454A - 磁性膜用塗料組成物製造方法 - Google Patents
磁性膜用塗料組成物製造方法Info
- Publication number
- JPS58174454A JPS58174454A JP5659682A JP5659682A JPS58174454A JP S58174454 A JPS58174454 A JP S58174454A JP 5659682 A JP5659682 A JP 5659682A JP 5659682 A JP5659682 A JP 5659682A JP S58174454 A JPS58174454 A JP S58174454A
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- Japan
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- magnetic
- magnetic powder
- kneader
- coating
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、磁気ディスクなどの磁性膜用塗料組成物の製
造方法に関する。
造方法に関する。
従来、磁気ディスクの製造は強磁性体微粒子を高分子結
合剤溶液中に分散せしめてなる塗料を基板上に塗布し、
熱硬化、加工等のプロセスを経て行なわれている。一般
に塗膜中の磁性粉粒子はランダムに凝集し、不均一な大
きさの凝集体として存在している。したがって高密度デ
ィスクとしては、電気的欠陥や表面の平滑性等の面で充
分満足し得なかった。この点を改良したものとして特開
昭５５−２５４０６号があるが、記録密度ｔａｏｏｏＢ
ｐ ｚ以上の超高配録密度の磁気ディスクでは、％に、
表面平滑性の点でまだ不十分であった。
合剤溶液中に分散せしめてなる塗料を基板上に塗布し、
熱硬化、加工等のプロセスを経て行なわれている。一般
に塗膜中の磁性粉粒子はランダムに凝集し、不均一な大
きさの凝集体として存在している。したがって高密度デ
ィスクとしては、電気的欠陥や表面の平滑性等の面で充
分満足し得なかった。この点を改良したものとして特開
昭５５−２５４０６号があるが、記録密度ｔａｏｏｏＢ
ｐ ｚ以上の超高配録密度の磁気ディスクでは、％に、
表面平滑性の点でまだ不十分であった。
本発明は、磁気ディスク塗膜中、の磁性粉を一個一個ば
らばらに分散させると電気的欠陥が減少し、電磁気的響
性に優れ、かつ平滑性に優れた磁気ディスクを得る仁と
ができるという点に着目してなされたものであり、本発
明の目的はか＼る磁気ディスクを製造するため、磁性粉
が一個一個完全に分散した塗料を製造することにある。
らばらに分散させると電気的欠陥が減少し、電磁気的響
性に優れ、かつ平滑性に優れた磁気ディスクを得る仁と
ができるという点に着目してなされたものであり、本発
明の目的はか＼る磁気ディスクを製造するため、磁性粉
が一個一個完全に分散した塗料を製造することにある。
磁気記録体は磁性膜形成に用いる磁性塗料の良否に依存
する。すなわち、磁性塗料を得るに際し、塗料混線時の
積算消費電力（仕事量に相当する）をある範囲に規定す
ることにより、非常に平滑な電気特性の優れた塗膜が得
られることを発見した。
する。すなわち、磁性塗料を得るに際し、塗料混線時の
積算消費電力（仕事量に相当する）をある範囲に規定す
ることにより、非常に平滑な電気特性の優れた塗膜が得
られることを発見した。
以下１本発明の詳細を実施例により説明する。
実施例１
ポリビニルブチラールの粉末２Ｋｆ、磁性粉２０〜をニ
ーダ−混線機に投入し、約１５分間混合を行なう。つぎ
に、シクロへキサノン９Ｋｆを添加し、ニーダ−混線を
４時間行なった。つぎに、ニーダ−混線はそのまま継続
。させた状態でシクロヘキサノン１５に＃を除々に添加
することによりニーダ−混線物を溶解させた。その間の
積算消費電力は６ＡＪＦ、Ａであった。つぎに、この混
練物５０００ ｆを−とり、１５ノのポールミルボット
ニ入れ、さらにシクロへキサノン＋６００ ｔ 添７７
０し、５日間ボールミル混練を行ない磁性粉を分散させ
る。つぎに、フェノール樹脂４０［１ｆ 、 ２０％ノ
エボキシ樹脂のシクロヘキサノン溶液を２０００ ？
。
ーダ−混線機に投入し、約１５分間混合を行なう。つぎ
に、シクロへキサノン９Ｋｆを添加し、ニーダ−混線を
４時間行なった。つぎに、ニーダ−混線はそのまま継続
。させた状態でシクロヘキサノン１５に＃を除々に添加
することによりニーダ−混線物を溶解させた。その間の
積算消費電力は６ＡＪＦ、Ａであった。つぎに、この混
練物５０００ ｆを−とり、１５ノのポールミルボット
ニ入れ、さらにシクロへキサノン＋６００ ｔ 添７７
０し、５日間ボールミル混練を行ない磁性粉を分散させ
る。つぎに、フェノール樹脂４０［１ｆ 、 ２０％ノ
エボキシ樹脂のシクロヘキサノン溶液を２０００ ？
。
イソホロンｙｏａｔ、ジオキサン５００ ｆを添加し。
磁気ディスク用塗料を調合する。つぎに、この塗料をあ
らかじめ表面を清浄雀したアルミニラ１− Ｆｌ［Ｋｆ
ｌｌＪｌ ｏ、６〜ｏ、ｓ＊ｍ Ｋｌｔ”Ｗ 、 ！Ｅ
ｎ Ｌ 、 ２２０ビ２時間の焼付けを行なった。塗膜
焼付は後の磁気ディスクの面粗さはｆｉａ ＝ ０．０
２μｍで従来のディスク（Ｒａ＞ｏ、ｏ５μｍ）に比べ
格段に良好であった。この磁気ディスクをさらに研摩し
、膜厚０．５〜０．７μｍ。
らかじめ表面を清浄雀したアルミニラ１− Ｆｌ［Ｋｆ
ｌｌＪｌ ｏ、６〜ｏ、ｓ＊ｍ Ｋｌｔ”Ｗ 、 ！Ｅ
ｎ Ｌ 、 ２２０ビ２時間の焼付けを行なった。塗膜
焼付は後の磁気ディスクの面粗さはｆｉａ ＝ ０．０
２μｍで従来のディスク（Ｒａ＞ｏ、ｏ５μｍ）に比べ
格段に良好であった。この磁気ディスクをさらに研摩し
、膜厚０．５〜０．７μｍ。
Ｒａ ＝＝ ０．０１μｍＫ表面加工した。上記方法に
より製造した磁気ディスクをさらにパーフロロアルキル
ポリエーテルのフレオン溶液に浸漬することＫより、塗
布を行なった。以上のプロセスにより製造した磁気ディ
スクの浮動特性を磁気ヘッドにピエゾセンサーを塔載す
ることＫより調べた。その結果、第１図に特性１で示す
如〈従来の磁気ディスクの場合の特性０に比べ浮動特性
が大巾に同上した。また、電気特性の面でも。
より製造した磁気ディスクをさらにパーフロロアルキル
ポリエーテルのフレオン溶液に浸漬することＫより、塗
布を行なった。以上のプロセスにより製造した磁気ディ
スクの浮動特性を磁気ヘッドにピエゾセンサーを塔載す
ることＫより調べた。その結果、第１図に特性１で示す
如〈従来の磁気ディスクの場合の特性０に比べ浮動特性
が大巾に同上した。また、電気特性の面でも。
従来に比し、 ＳｌＮ比が約２５％向上した。
実施例２
ポリビニルブチラールの粉末２紛、磁性粉２０〜をニー
ダ−混線機に投入し、約１５分間混合を行ナウ。つぎに
シクロへキサノン６に４を添加し。
ダ−混線機に投入し、約１５分間混合を行ナウ。つぎに
シクロへキサノン６に４を添加し。
ニーダ−混線を４□時間行なった。つぎに、ニーダ−混
線はそのま”鴛７継続させた状態でシクロ・＼キサノン
１６Ｋｆを除々に添加することにより、ニーダ−混線物
を溶解させた。その間の積算消費電力はＨ）ＸＷｈであ
った。その後のプロセスは実施例１と同様の方法により
磁気ディスクをつくった。塗膜焼付後の磁気ディスクの
面粗さは。
線はそのま”鴛７継続させた状態でシクロ・＼キサノン
１６Ｋｆを除々に添加することにより、ニーダ−混線物
を溶解させた。その間の積算消費電力はＨ）ＸＷｈであ
った。その後のプロセスは実施例１と同様の方法により
磁気ディスクをつくった。塗膜焼付後の磁気ディスクの
面粗さは。
Ｒａ ＝αＱ２μｍでありだ。塗膜厚が０．５〜０．７
１１ｍ ｌＩＣなるように塗膜加工後、パー７０ロアル
キルボリエーテルのフレオン溶液に浸漬塗布した。以上
のプロセスを経た磁気ディスクについて実施例１と同様
に浮動特性を調べたみその結果、第１図の特性２に示す
如く、従来の磁気ディスクに比べ浮上特性が向上した。
１１ｍ ｌＩＣなるように塗膜加工後、パー７０ロアル
キルボリエーテルのフレオン溶液に浸漬塗布した。以上
のプロセスを経た磁気ディスクについて実施例１と同様
に浮動特性を調べたみその結果、第１図の特性２に示す
如く、従来の磁気ディスクに比べ浮上特性が向上した。
塗膜表面に加工で取れＫくい突起が残干残ったため忙、
実施例１よりや＼浮動特性が低下した。
実施例１よりや＼浮動特性が低下した。
実施例３
ポリビニルブチラールの粉末２に９．磁性粉２０−をニ
ーダ−混線機に投入し、約１５分間混合を行なう。つぎ
にシクロへキサノン１６Ｋｇを添加し。
ーダ−混線機に投入し、約１５分間混合を行なう。つぎ
にシクロへキサノン１６Ｋｇを添加し。
ニーダ−混線を４時間行なった。つぎに、ニーダ−混線
ば°そのまま継続させた状態でシクロへキサノン６ＫＦ
を除々に添加することによりニーダ−混練物を溶解させ
た。その間の積算消費電力は０．５ ｆｆ Ａであった
。その後のプロセスは実施例１と同様の方法により磁気
ディスクをつくった。塗膜焼付は後の面粗さはｌ（ａ
＝ ０．０５５μｍであった。塗膜厚が０．５〜α７μ
ｍ忙なるように塗膜加工後、パーフロロアルキルポリエ
ーテルのフレオン溶液に浸漬塗布した。以上のプロセス
を経た磁気ディスクについて＊施例１と同様に浮動特性
を調べた。その結果、第１図に特性５で示す如く、従来
の磁気ディスクに比べ浮上特性は向上したが、加工後の
面粗さがＲａ ＝ ０．０１５μｍでありたため、実施
例１よりも浮動特性は低下した。
ば°そのまま継続させた状態でシクロへキサノン６ＫＦ
を除々に添加することによりニーダ−混練物を溶解させ
た。その間の積算消費電力は０．５ ｆｆ Ａであった
。その後のプロセスは実施例１と同様の方法により磁気
ディスクをつくった。塗膜焼付は後の面粗さはｌ（ａ
＝ ０．０５５μｍであった。塗膜厚が０．５〜α７μ
ｍ忙なるように塗膜加工後、パーフロロアルキルポリエ
ーテルのフレオン溶液に浸漬塗布した。以上のプロセス
を経た磁気ディスクについて＊施例１と同様に浮動特性
を調べた。その結果、第１図に特性５で示す如く、従来
の磁気ディスクに比べ浮上特性は向上したが、加工後の
面粗さがＲａ ＝ ０．０１５μｍでありたため、実施
例１よりも浮動特性は低下した。
第１図は磁気ディスクの浮動特性を示す図であり、０は
従来の磁気ディスク、Ｉ＠２＠５はそれぞれ本発明の実
施例１．２．５の磁気ディスクの浮動特性を示す。 代理人弁理士 薄 １）利７＜７甲ｈ
従来の磁気ディスク、Ｉ＠２＠５はそれぞれ本発明の実
施例１．２．５の磁気ディスクの浮動特性を示す。 代理人弁理士 薄 １）利７＜７甲ｈ
Claims (1)
- １ エポキシ樹脂、フェノール樹脂およびポリビニルブ
チラールからなるバインダーにて磁性−粉を分散させる
のに際し、積算消費電力が０．５〜＋ｔ３ＫＷｈ／磁性
粉２０Ｋｆの力をニーダ−を用いて加えることを特徴と
する磁性膜用塗料組成物製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5659682A JPS58174454A (ja) | 1982-04-07 | 1982-04-07 | 磁性膜用塗料組成物製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5659682A JPS58174454A (ja) | 1982-04-07 | 1982-04-07 | 磁性膜用塗料組成物製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58174454A true JPS58174454A (ja) | 1983-10-13 |
Family
ID=13031577
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5659682A Pending JPS58174454A (ja) | 1982-04-07 | 1982-04-07 | 磁性膜用塗料組成物製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58174454A (ja) |
-
1982
- 1982-04-07 JP JP5659682A patent/JPS58174454A/ja active Pending
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