JPS58174354A - モノニトロフエニル−β−ヒドロキシエチルスルホンの製造方法 - Google Patents
モノニトロフエニル−β−ヒドロキシエチルスルホンの製造方法Info
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- JPS58174354A JPS58174354A JP5748682A JP5748682A JPS58174354A JP S58174354 A JPS58174354 A JP S58174354A JP 5748682 A JP5748682 A JP 5748682A JP 5748682 A JP5748682 A JP 5748682A JP S58174354 A JPS58174354 A JP S58174354A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、モノニトロフェニル−I−ヒドロキシエチル
スルホンの製造方法に関する。
スルホンの製造方法に関する。
更に詳しくは、本発明は、セルロース繊維材料の染色番
こ多用されているビニルスルホン型反応染料の重要な中
間体である下式(I)で示すれるアミノフェニル−β−
スルファトエチルスルホンの中間として有用なモノニト
ロフェニル−β−ヒドロキシエチルスルホンの新規な製
造方法に関する。
こ多用されているビニルスルホン型反応染料の重要な中
間体である下式(I)で示すれるアミノフェニル−β−
スルファトエチルスルホンの中間として有用なモノニト
ロフェニル−β−ヒドロキシエチルスルホンの新規な製
造方法に関する。
従来、式(■)で示されるアミノフェニル−β−スルフ
ァトエチルスルホンは、アニリンに無水酢酸を作用させ
てアセトアニリドとした後、大過剰のクロルスルホン酸
中でスルホニルクロライド化してアセチルアミノベンゼ
ンスルホニルクロライドを得、これを亜硫酸ナトリウム
で還元してスルフィン酸とし、次いでエチレンオキサイ
ドまたはエチレンクロルヒドリンを作用させてアセチル
アミノフェニル−β−ヒドロキシエチルスルホンを得、
これを硫酸中で加水分解すると共に硫酸エステル化する
ことにより製造されている。
ァトエチルスルホンは、アニリンに無水酢酸を作用させ
てアセトアニリドとした後、大過剰のクロルスルホン酸
中でスルホニルクロライド化してアセチルアミノベンゼ
ンスルホニルクロライドを得、これを亜硫酸ナトリウム
で還元してスルフィン酸とし、次いでエチレンオキサイ
ドまたはエチレンクロルヒドリンを作用させてアセチル
アミノフェニル−β−ヒドロキシエチルスルホンを得、
これを硫酸中で加水分解すると共に硫酸エステル化する
ことにより製造されている。
あるいは、ニトロベンゼンを大過剰のクロルスルホン酸
中でスルホニルクロライド化してm−二トロベンゼンス
ルホニルクロライトヲ得、これを亜硫酸ナトリウムで還
元して対応するスルフィン酸とし、次いでエチレンオキ
サイドまたはエチレンクロルヒドリンを作用させてm
−ニトロフェニル−β−ヒドロキシエチルスルホンを得
、これを鉄粉還元してm−アミノフェニル−β−ヒドロ
キシエチルスルホントシ、次いで硫酸エステル化するこ
とにより製造されている。
中でスルホニルクロライド化してm−二トロベンゼンス
ルホニルクロライトヲ得、これを亜硫酸ナトリウムで還
元して対応するスルフィン酸とし、次いでエチレンオキ
サイドまたはエチレンクロルヒドリンを作用させてm
−ニトロフェニル−β−ヒドロキシエチルスルホンを得
、これを鉄粉還元してm−アミノフェニル−β−ヒドロ
キシエチルスルホントシ、次いで硫酸エステル化するこ
とにより製造されている。
しかし上記のいずれの方法もこれを工業的に実施するに
は以下に列挙する種々の問題があり必ずしも工業的に有
利な方法とはいえない。
は以下に列挙する種々の問題があり必ずしも工業的に有
利な方法とはいえない。
■ クロルスルホン酸中でのスルホニルクロライド化は
本質的に平衡反応であり、アセチルアミノベンゼンスル
ホン酸の・1、副生を抑えるため大過剰のクロルスルホ
ン酸、が必要である。
本質的に平衡反応であり、アセチルアミノベンゼンスル
ホン酸の・1、副生を抑えるため大過剰のクロルスルホ
ン酸、が必要である。
■ 上述の過剰クロルスルホン酸の回収が困難で、最終
的には酸性廃液として処理することが必要となる。
的には酸性廃液として処理することが必要となる。
■ アセチルアミノベンゼンスルホニルクロライドは不
安定で、収率低下の一因となっている。
安定で、収率低下の一因となっている。
■ 亜硫酸ナトリウムによるスルフィン酸への還元は、
スルフィン酸の安定性が低く、従って反応収率が低い。
スルフィン酸の安定性が低く、従って反応収率が低い。
■ アニリンを出発原料とする場合、最終工程でのアセ
チル基の加水分解で脱離した酢酸とヒドロキシル基との
反応により酢酸エステル体が副生じ純度低下を招き、更
には系内に存在する脱離した酢酸が、反応器材の腐蝕あ
るいは廃水の問題等、大きな障害となる。
チル基の加水分解で脱離した酢酸とヒドロキシル基との
反応により酢酸エステル体が副生じ純度低下を招き、更
には系内に存在する脱離した酢酸が、反応器材の腐蝕あ
るいは廃水の問題等、大きな障害となる。
このような事情に鑑み、本発明者らは式(Ilで示され
る化合物の工業的有利な製造方法につ!検討シ、モノニ
トロフェニルーβ−ヒト0キシエチルスルフグドを酸化
して得られるモノニトロフェニ□ルβ−ヒドロキシエチ
ルスゝ1 ルホンを還元し、得られるアミノフェニル−β−ヒドロ
キシエチルスルホンを硫酸エステル化して、目的とする
式(I)の化合物とする新規な工程を経る製造方法を見
出し、この新規な製造方法における酸化工程を、より工
業的有利1こ行う方法について詳しく検討した。
る化合物の工業的有利な製造方法につ!検討シ、モノニ
トロフェニルーβ−ヒト0キシエチルスルフグドを酸化
して得られるモノニトロフェニ□ルβ−ヒドロキシエチ
ルスゝ1 ルホンを還元し、得られるアミノフェニル−β−ヒドロ
キシエチルスルホンを硫酸エステル化して、目的とする
式(I)の化合物とする新規な工程を経る製造方法を見
出し、この新規な製造方法における酸化工程を、より工
業的有利1こ行う方法について詳しく検討した。
従来この酸化方法として、比較的高温で過酸化水素を用
い氷酢酸中で行う方法(P roc 。
い氷酢酸中で行う方法(P roc 。
Indian 、 Acad 、 Sci 、38巻A
、23〜30(1953) )、過酸化水素を用い重炭
酸す) IJウム水溶液中で行う方法(特公昭43−2
4861号)、次亜塩素酸ナトリウムを用い水酸化ナト
リウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウムなどの無機
化合物の水溶液中で行う方法(ドイツ特許第94460
7号)などが知られている。
、23〜30(1953) )、過酸化水素を用い重炭
酸す) IJウム水溶液中で行う方法(特公昭43−2
4861号)、次亜塩素酸ナトリウムを用い水酸化ナト
リウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウムなどの無機
化合物の水溶液中で行う方法(ドイツ特許第94460
7号)などが知られている。
しかしながらこれらの方法は、それぞれ次のような欠点
を有している。すなわち、氷酢酸中で過酸化水素を用い
酸化させる製造法においては、アセタール化物が副生じ
、その結果モノニトロフェニル−β−ヒドロキシエチル
スルホンの純度および収率は低くなる。
を有している。すなわち、氷酢酸中で過酸化水素を用い
酸化させる製造法においては、アセタール化物が副生じ
、その結果モノニトロフェニル−β−ヒドロキシエチル
スルホンの純度および収率は低くなる。
しかも氷酢酸を蒸留により定量的に回収することも非常
に困難である。また反応温度が70〜80℃で、10時
間も要し、工業的・製造法としては有利ではない。
に困難である。また反応温度が70〜80℃で、10時
間も要し、工業的・製造法としては有利ではない。
重炭酸す) IJウム水溶液中で過酸化水素を用い酸化
させる方法においては、反応系が不均一なため酸化反応
は円滑に進行せず、保温時間10時間を経過してもかな
りの未反応物あるいは中間生成物であるモノニトロフェ
ニル−β−ヒドロキシエチルスルフオキシドが残存する
。また、45℃を超える反応温度では、過酸化水素の自
己分解が、酸化反応に優先し、生成する前記スルホンの
収率は低い。
させる方法においては、反応系が不均一なため酸化反応
は円滑に進行せず、保温時間10時間を経過してもかな
りの未反応物あるいは中間生成物であるモノニトロフェ
ニル−β−ヒドロキシエチルスルフオキシドが残存する
。また、45℃を超える反応温度では、過酸化水素の自
己分解が、酸化反応に優先し、生成する前記スルホンの
収率は低い。
さらにまた、系内の不均一性のため発泡管の現象が加わ
り反応を完結せしめる事は極めて困難である。
り反応を完結せしめる事は極めて困難である。
塩基性無機化合物の水溶液中で、次亜塩素酸を用い酸化
させる製造法においては、反応系が不均一のため25〜
30℃の反応温度では、酸化反応が円滑に進行せず、か
なりの未反応物が残存するので、生成する前記スルホン
の純度および収率は低くなる。これをまた30〜60℃
の反応温度とすれば、酸化反応は容易になるが、高融点
物が副生ずるので好ましくない。
させる製造法においては、反応系が不均一のため25〜
30℃の反応温度では、酸化反応が円滑に進行せず、か
なりの未反応物が残存するので、生成する前記スルホン
の純度および収率は低くなる。これをまた30〜60℃
の反応温度とすれば、酸化反応は容易になるが、高融点
物が副生ずるので好ましくない。
本発明者ラバ、モノニトロフェニル−!−ヒドロキシエ
チルスルフィドを酸化してモノニトロフェニルーβ−ヒ
ドロキシエチルスルホンを高純度、高収率で工業的有利
に製造する方法につき鋭意検討の結果、過酸化水素を用
い特定の反応媒体中で酸化を行うことにより目的が達成
されることを見出し、本発明を完成するに至った。
チルスルフィドを酸化してモノニトロフェニルーβ−ヒ
ドロキシエチルスルホンを高純度、高収率で工業的有利
に製造する方法につき鋭意検討の結果、過酸化水素を用
い特定の反応媒体中で酸化を行うことにより目的が達成
されることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、モノニトロフェニル−β−ヒドロキシ
エチルスルフィドヲ、過酸化水素を用いニトリル類の少
なくとも1種射よび塩基性化合物を含む水性媒体中で酸
化することを特徴とするモノニトロフェニル−β−ヒド
ロキシエチルスルホンの一造方法を提供する。
エチルスルフィドヲ、過酸化水素を用いニトリル類の少
なくとも1種射よび塩基性化合物を含む水性媒体中で酸
化することを特徴とするモノニトロフェニル−β−ヒド
ロキシエチルスルホンの一造方法を提供する。
以下に本発明方法を詳細く説明する。
本発明方法で出発原料として用いられるモノニトロフェ
ニル−β−ヒドロキシエチルスルフィドは如何なる方法
で製造されたものでもよいが、例えば、モノニトロハロ
ベンゼンにアルコール類、N−アルキル置換アミド類等
の有機溶媒中メルカプトエタノールを作用して得られる
、2−または4−ニトロフェニル−β−ヒドロキシエチ
ルスルフィドである。
ニル−β−ヒドロキシエチルスルフィドは如何なる方法
で製造されたものでもよいが、例えば、モノニトロハロ
ベンゼンにアルコール類、N−アルキル置換アミド類等
の有機溶媒中メルカプトエタノールを作用して得られる
、2−または4−ニトロフェニル−β−ヒドロキシエチ
ルスルフィドである。
本発明方法に詔いて用いられるニトリル類は、脂肪族詔
よび芳香族ニトリル類であり、具体的には脂肪族ニトリ
ルとしてアセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニ
トリル、アジポニトリル、ゲルタロニトリルおよび、2
−メチルゲルタロニトリルなどが、また、芳香族ニトリ
ルとしてはベンゾニトリルおよびトルニトリルなどが例
示される。もちろん2種以上の二) IJルの混合物も
使用できる。
よび芳香族ニトリル類であり、具体的には脂肪族ニトリ
ルとしてアセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニ
トリル、アジポニトリル、ゲルタロニトリルおよび、2
−メチルゲルタロニトリルなどが、また、芳香族ニトリ
ルとしてはベンゾニトリルおよびトルニトリルなどが例
示される。もちろん2種以上の二) IJルの混合物も
使用できる。
なかでもアセトニトリルが好ましく用いられる。
これらのニトリル類は、原料スルフィドの重量当り、0
.5〜10倍量を用いることができる。もちろん10倍
量以上を用いても何らさしつかえはないが、工業的規模
で製造する上で、非能率的であり、また時空効率も履く
なる。好ましい量は、0.5〜6倍量、より好ましい量
は1〜4倍量である。
.5〜10倍量を用いることができる。もちろん10倍
量以上を用いても何らさしつかえはないが、工業的規模
で製造する上で、非能率的であり、また時空効率も履く
なる。好ましい量は、0.5〜6倍量、より好ましい量
は1〜4倍量である。
また、塩基性化合物としては特に制@されるものではな
いが、例えば、水酸化ナトリウムのごときアルカリ金属
の水酸化物、たとえば炭酸ナトリウムのごときアルカリ
金属の炭酸塩、たとえば炭酸水素ナトリウムのとと會ア
ルカリ金属の炭酸水嵩塩、たとえばリン酸lナトリウム
、リン酸水lA2ナトリウムのとときアルカリ金属のリ
ン酸塩、たとえばトリエチルアiンのごとき第3級脂肪
族有機ア文ン、アンモニアなどが用いられ、これらの1
種または2種以上を使用することがで命る。
いが、例えば、水酸化ナトリウムのごときアルカリ金属
の水酸化物、たとえば炭酸ナトリウムのごときアルカリ
金属の炭酸塩、たとえば炭酸水素ナトリウムのとと會ア
ルカリ金属の炭酸水嵩塩、たとえばリン酸lナトリウム
、リン酸水lA2ナトリウムのとときアルカリ金属のリ
ン酸塩、たとえばトリエチルアiンのごとき第3級脂肪
族有機ア文ン、アンモニアなどが用いられ、これらの1
種または2種以上を使用することがで命る。
これらの塩基性化合物の使用量は原料スルフィドに対し
て0.01〜2モル倍、好ましくは0.1〜1モル倍で
ある。2モル倍を越える量は反応系のpHを異常に高ク
シ、原料スルワイドの分解あるいは過酸化水素の自己分
解の増加を招き好ましくない。
て0.01〜2モル倍、好ましくは0.1〜1モル倍で
ある。2モル倍を越える量は反応系のpHを異常に高ク
シ、原料スルワイドの分解あるいは過酸化水素の自己分
解の増加を招き好ましくない。
本発明方法における水性媒体は、上記したニトリル類、
塩基性化合物セよび水から調製され、その量は、原料ス
ルフィドの重量に対して2〜10倍量、好ましくは3〜
8倍量となるよう適宜混合比率をかえることができる。
塩基性化合物セよび水から調製され、その量は、原料ス
ルフィドの重量に対して2〜10倍量、好ましくは3〜
8倍量となるよう適宜混合比率をかえることができる。
10倍以上の量は生産性を低下させることになり効率的
でない。
でない。
か−る水性媒体中の塩基性化合物の水溶液の量は、原料
スルフィドの重量に対し0.5倍以上、好ましくは6倍
以下、更に好ましくは1〜4倍量である。
スルフィドの重量に対し0.5倍以上、好ましくは6倍
以下、更に好ましくは1〜4倍量である。
また、水性媒体のpHは7.5〜10.5の範囲が好ま
しく 、pH10,5以上における反応では原料の前記
スルフィドの加水分解が促進されニトロフェノール等が
副生ずる。
しく 、pH10,5以上における反応では原料の前記
スルフィドの加水分解が促進されニトロフェノール等が
副生ずる。
また過酸化水素の自己分解が酸化反応に優先0、過酸化
水素の利用効率の上からも好ましくない。またpH7,
5以下における反応では、酸化反応の進行がおそく、特
に中間生成物であるスルフオキシドより目的物であるス
ルホンへの反応が極めておそい。
水素の利用効率の上からも好ましくない。またpH7,
5以下における反応では、酸化反応の進行がおそく、特
に中間生成物であるスルフオキシドより目的物であるス
ルホンへの反応が極めておそい。
特に原料スルフィドが2−二トロフェニル−β−ヒドロ
キシエチルスルフィドのときはp)(7,5〜8.5が
、4−ニトロフェニル−!−ヒドロキシエチルスルフィ
ドのトキはpH8,5〜lOが好ましい。
キシエチルスルフィドのときはp)(7,5〜8.5が
、4−ニトロフェニル−!−ヒドロキシエチルスルフィ
ドのトキはpH8,5〜lOが好ましい。
また、この水性媒体中には、出発原料であるスルフィド
の製造時に用いられた有機溶剤が混入してもさしつかえ
ない。
の製造時に用いられた有機溶剤が混入してもさしつかえ
ない。
過酸化水素の使用量は、原料スルフィド1モルに対して
2.1〜3:5モル、より好ましくは2.1〜3.0モ
ルである。
2.1〜3:5モル、より好ましくは2.1〜3.0モ
ルである。
反応温度は30〜65℃、好ましくは35〜55℃の範
囲内である。そしてこの好ましい反応温度範囲における
過酸化水素水の滴下所要時間は0.5〜3時間であり、
滴下終了後0.5〜6時間の保温により反応は完結する
。
囲内である。そしてこの好ましい反応温度範囲における
過酸化水素水の滴下所要時間は0.5〜3時間であり、
滴下終了後0.5〜6時間の保温により反応は完結する
。
反応温度を必要以上番こ上げることは過酸化水素の自己
分解を引きおこすために必らずしも有利とはならない。
分解を引きおこすために必らずしも有利とはならない。
本発明の実施形態としては、たとえばニトリルと所定量
の塩基性無機化合物を含んだ水溶液の混合液を反応媒体
とし原料スルフィドを添加後、所望の温度で過酸化水素
液を所定量滴下後見に保温を行なう。
の塩基性無機化合物を含んだ水溶液の混合液を反応媒体
とし原料スルフィドを添加後、所望の温度で過酸化水素
液を所定量滴下後見に保温を行なう。
あるいは、原料スルフィドをニトリルに溶解後、所定量
の過酸化水素を添加し、所望の温度で更に所定量の塩基
性無機化合物の水溶液を滴下して反応する。
の過酸化水素を添加し、所望の温度で更に所定量の塩基
性無機化合物の水溶液を滴下して反応する。
あるいは、本発明の別の実施形態としては、たとえば上
記ニトリルの水溶液に原料スルフィドを添加後、所望の
温度で過酸化水素液を所定量滴下し、これに並行して系
内のpHを所定の値に保つよう、番こ塩基性化合物を添
加し□1へ 過酸化水素液滴下後も反応が完結するまでpHを所定の
値に保ちながら保温を行なう。
記ニトリルの水溶液に原料スルフィドを添加後、所望の
温度で過酸化水素液を所定量滴下し、これに並行して系
内のpHを所定の値に保つよう、番こ塩基性化合物を添
加し□1へ 過酸化水素液滴下後も反応が完結するまでpHを所定の
値に保ちながら保温を行なう。
この場合、塩基性化合物は水溶液として添加してもよい
。
。
あるいは、原料スルフィドをニトリル溶媒に添加後、所
望の温度で過酸化水素液を所定量滴下し、これに並行し
て系内のpHを所定の値に保つようにあらかじめ水にて
溶解した前記塩基性化合物を滴下し、反応が完結するま
で保温を行なう。
望の温度で過酸化水素液を所定量滴下し、これに並行し
て系内のpHを所定の値に保つようにあらかじめ水にて
溶解した前記塩基性化合物を滴下し、反応が完結するま
で保温を行なう。
また本発明の実施形態として連続形態をとることができ
る。
る。
本発明方法によれば、モノニトロフェニル−β−ヒドロ
キシエチルスルホンは高純度、高収率で得られるので工
業的に極めて有利に適用することができる。
キシエチルスルホンは高純度、高収率で得られるので工
業的に極めて有利に適用することができる。
以下本発明方法を実施例をもって詳細番ζ説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されるものではない。尚、
実施例中、部および−は夫々重量部、重量−を表わす。
本発明はこれら実施例に限定されるものではない。尚、
実施例中、部および−は夫々重量部、重量−を表わす。
実施例1
2−ニトロフェニル−β−ヒドロキシエチルスルフィド
40部をアセトニトリル120111.6−炭酸水素ナ
トリウム水溶液120部の混合液に添加した。40℃で
309g過酸化水素水57部(2,5モル倍)を1時間
かけて滴下した。滴下終了後、更にこの温度で保温しな
がら反応を追跡したところ、保温2時間で目的rDxル
* ンM 100 %生成し、原料のスルフィドおよび
中間生成物であるスルフオキシドは残存していなかった
。
40部をアセトニトリル120111.6−炭酸水素ナ
トリウム水溶液120部の混合液に添加した。40℃で
309g過酸化水素水57部(2,5モル倍)を1時間
かけて滴下した。滴下終了後、更にこの温度で保温しな
がら反応を追跡したところ、保温2時間で目的rDxル
* ンM 100 %生成し、原料のスルフィドおよび
中間生成物であるスルフオキシドは残存していなかった
。
反応液よりアセトニトリルを減圧留去した後、更に濃縮
し、冷却p過、乾燥した。
し、冷却p過、乾燥した。
2−ニトロフェニル−β−ヒドロキシエチルスルホンの
白色結晶45部を得た。
白色結晶45部を得た。
収率は961Gであった。
実施例2
2−ニトロフェニル−β−ヒドロキシエチルスルフィド
40部をアセトニトリル8(1,6%炭酸水素ナトIJ
ウム水溶液40部の混合液に添加した。50℃で30−
過酸化水素水57部(2,5モル倍)を1時間かけて滴
下した。滴下終了後見にこの温度で5時間保温した。目
的のスルホンが100 %生成し、原料のスルフィドお
よび中間生成物であるスルフオキシドは残存していなか
った。
40部をアセトニトリル8(1,6%炭酸水素ナトIJ
ウム水溶液40部の混合液に添加した。50℃で30−
過酸化水素水57部(2,5モル倍)を1時間かけて滴
下した。滴下終了後見にこの温度で5時間保温した。目
的のスルホンが100 %生成し、原料のスルフィドお
よび中間生成物であるスルフオキシドは残存していなか
った。
反応液よりアセトニトリルを減圧留去した後、更に濃縮
し、冷却−過、乾燥した。
し、冷却−過、乾燥した。
2−ニトロフェニル−!−ヒドロキシエチルスルホンの
白色結晶44部を得た。
白色結晶44部を得た。
収率は95−であった。
実施例3
4−ニトロフェニル−β−ヒドロキシエチルスルフィド
80部をアセトニトリル240m、水80部の混合液に
添加した。
80部をアセトニトリル240m、水80部の混合液に
添加した。
40℃で30嗟過酸化水素水114部(2,5モル倍)
を1時間かけて滴下した。
を1時間かけて滴下した。
その間系内のpHをe、o&c維持するため10−炭酸
ナトリウム水溶陣を添加した。
ナトリウム水溶陣を添加した。
滴下終了後、更に系内のpHを9.0に維持し、、!:
・ なから、同温度で3時間保温した。
・ なから、同温度で3時間保温した。
この間pHを維持するために要した1〇−炭酸ナトリウ
ム水溶液150部であった。
ム水溶液150部であった。
目的のスルホンが100 ’II生成し、原料のスルワ
イドおよび中間生成物であるスルフオキシドは残存して
いなかった。
イドおよび中間生成物であるスルフオキシドは残存して
いなかった。
反応液よりアセトニトリルを減圧留去した後、更に濃縮
し、冷却濾過、乾燥した。
し、冷却濾過、乾燥した。
4−ニトロフェニル−β−ヒドロキシエチルスルホンの
白色結晶88部を得た。
白色結晶88部を得た。
収率は95−であった。
実施例4
2−ニトロフェニル−β−ヒドロキシエチルスルフィド
40部をアセトニトリル120 m、水100部の混合
液に添加した。
40部をアセトニトリル120 m、水100部の混合
液に添加した。
40℃で301過酸化水素水57部(2,5モル倍)を
1時間かけて滴下した。
1時間かけて滴下した。
その間、系内のpHを8.3番こ維持するため炭酸ナト
リウムを添加した。
リウムを添加した。
滴下終了後、更に系内のpHを8.3に維持:1:11
: しながら同温度で2時間保温した。
: しながら同温度で2時間保温した。
この間pHを維持するために要した炭酸ナトリウムは約
7部であった。目的のスルホンが100 S生成し、原
料のスルフィドおよび中間生成物であるスルフオキシド
は残存していなかった。
7部であった。目的のスルホンが100 S生成し、原
料のスルフィドおよび中間生成物であるスルフオキシド
は残存していなかった。
反応液よりアセトニトリルを減圧留去した後、更に濃縮
し、冷却−過、乾燥した。
し、冷却−過、乾燥した。
2−ニトロフェニル−β−ヒドロキシエチルスルホンの
白色結晶45部を得た。
白色結晶45部を得た。
収率は96−であった。
実施例5
4−ニトロフェニル−β−ヒドロキシエチルスルフィド
20部をアセトニトリル80部に添加した。45℃で3
011過酸化水素水29部(2,5モル倍)を1時間か
けて滴下した。
20部をアセトニトリル80部に添加した。45℃で3
011過酸化水素水29部(2,5モル倍)を1時間か
けて滴下した。
その間、系内のpHを9.6番ζ維持するため6優炭酸
す) IJウム水溶液を添加した。
す) IJウム水溶液を添加した。
滴下終了後、更に系内のpHを9.6に維持しながら、
同温度で4時間保温した。
同温度で4時間保温した。
原料のスルフィドおよび中間生成物であるスルフオキシ
ドは残存していなかった。
ドは残存していなかった。
反応液よりアセトニトリルを留去した後、更に濃縮し、
冷却濾過、乾燥した。
冷却濾過、乾燥した。
4−ニトロフェニル−β−ヒドロキシエチルスルホンの
白色結晶21部を得た。
白色結晶21部を得た。
収率は93%であった。
実施例6
3−ニトロフェニル−β−ヒドロキシエチルスルフィド
20部をアセトニトリル801115.5慢炭酸す)
IJウム80部の翠合液に添加した。45℃で30−過
酸化水素水29部(2,5モル倍)を1時間かけて滴下
した。
20部をアセトニトリル801115.5慢炭酸す)
IJウム80部の翠合液に添加した。45℃で30−過
酸化水素水29部(2,5モル倍)を1時間かけて滴下
した。
滴下終了後、更にこの温度で4時間保温した。原料のス
ルフィドおよび中間生成物であるスルフオキシドは残存
していなかった。
ルフィドおよび中間生成物であるスルフオキシドは残存
していなかった。
反応液よりアセトニトリルを留去した後、更に濃縮し、
冷却−過、乾燥した。
冷却−過、乾燥した。
3−ニトロフェニル−β−ヒドロキシエチルスルホンの
白色結晶21部を得た。
白色結晶21部を得た。
収率は93チであった。
実施例7
実施例1に記した方法においてアセトニトリルの代わり
にベンゾニトリルを使用する。
にベンゾニトリルを使用する。
保温3時間で目的のスルホンが100−生成し原料のス
ルフィドおよび中間生成物であるスルフオキシドは残存
していなかった。
ルフィドおよび中間生成物であるスルフオキシドは残存
していなかった。
比較例1 にトリルが存在していない場合)2−二ト
ロフェニルーβ−ヒドロキシエチルスルフィド40部を
6−炭酸水素ナトリウム水溶液240部中に加え、かき
まぜながら40℃で30%の過酸化水素水68部(3モ
ル倍)を1時間かけて滴下した。滴下終了後見にこの温
度で10時間保温したが、原料のスルフィドが70チ残
存し、中間生成物である2−ニトロフェニル−β−ヒド
ロキシエチルスルフオキシドが30%生成しているのみ
で目的のスルホンの生成は見られなかった。
ロフェニルーβ−ヒドロキシエチルスルフィド40部を
6−炭酸水素ナトリウム水溶液240部中に加え、かき
まぜながら40℃で30%の過酸化水素水68部(3モ
ル倍)を1時間かけて滴下した。滴下終了後見にこの温
度で10時間保温したが、原料のスルフィドが70チ残
存し、中間生成物である2−ニトロフェニル−β−ヒド
ロキシエチルスルフオキシドが30%生成しているのみ
で目的のスルホンの生成は見られなかった。
比較例2 (アセトニトリルがない場合)2−ニトロ
フェニル−β−七)’o4ジエチルスルフィド40部を
水120部に加え、かきまぜながら40℃で30−過酸
化水素水68部(3モル倍)を1時間かけて滴下した。
フェニル−β−七)’o4ジエチルスルフィド40部を
水120部に加え、かきまぜながら40℃で30−過酸
化水素水68部(3モル倍)を1時間かけて滴下した。
その間、系内のpHを8.3に維持するため10’S炭
酸ナトリウム水溶液を添加した。
酸ナトリウム水溶液を添加した。
滴下終了後、更に系内のpHを8.3に維持しながら同
温度で10時間保温したが、原料のスルフィドが70q
&残存し、中間生成物である2−ニトロフェニル−β−
ヒドロキシエチルスルフオキシドがaOS生成している
のみで目的のスルホンの生成は見られなかった。
温度で10時間保温したが、原料のスルフィドが70q
&残存し、中間生成物である2−ニトロフェニル−β−
ヒドロキシエチルスルフオキシドがaOS生成している
のみで目的のスルホンの生成は見られなかった。
比較例2 (塩基性化合物が存在していない場合)4
−ニトロフェニル−β−ヒドロキシエチルスルフィド4
0部をアセトニトリル120部に加え、更に水80部を
添加した。
−ニトロフェニル−β−ヒドロキシエチルスルフィド4
0部をアセトニトリル120部に加え、更に水80部を
添加した。
50℃で30%過酸化水素水57部(2,5モル倍)を
1時間かけて滴下した。滴下終了後、更にこの温度で7
時間保温したが、原料のスルフィドが80チ残有し、目
的のスルホンの生成は全く見られ1なかった。
1時間かけて滴下した。滴下終了後、更にこの温度で7
時間保温したが、原料のスルフィドが80チ残有し、目
的のスルホンの生成は全く見られ1なかった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)モノニトロフェニル−β−ヒドロキシエチルスルフ
ィドを、過酸化水素を用い、ニトリル類の少なくとも1
種$よび塩基性化合物を含む水性媒体中で酸化すること
を特徴とするモノニトロフェニル−β−ヒドロキシエチ
ルスルホンの製造方法。 2)酸化をpH’r、s〜10.5の範囲で行うことを
特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5748682A JPS58174354A (ja) | 1982-04-06 | 1982-04-06 | モノニトロフエニル−β−ヒドロキシエチルスルホンの製造方法 |
US06/477,443 US4612394A (en) | 1982-04-06 | 1983-03-21 | Process for producing aminophenyl-β-hydroxyethylsulfone |
EP83301683A EP0092909B1 (en) | 1982-04-06 | 1983-03-25 | Process for producing aminophenyl-beta-hydroxyethylsulfone |
DE8383301683T DE3373093D1 (en) | 1982-04-06 | 1983-03-25 | Process for producing aminophenyl-beta-hydroxyethylsulfone |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5748682A JPS58174354A (ja) | 1982-04-06 | 1982-04-06 | モノニトロフエニル−β−ヒドロキシエチルスルホンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58174354A true JPS58174354A (ja) | 1983-10-13 |
JPH0310618B2 JPH0310618B2 (ja) | 1991-02-14 |
Family
ID=13057039
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5748682A Granted JPS58174354A (ja) | 1982-04-06 | 1982-04-06 | モノニトロフエニル−β−ヒドロキシエチルスルホンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58174354A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5757485A (en) * | 1980-09-25 | 1982-04-06 | Nippon Koei Co Ltd | Rail point freezing preventing device |
-
1982
- 1982-04-06 JP JP5748682A patent/JPS58174354A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5757485A (en) * | 1980-09-25 | 1982-04-06 | Nippon Koei Co Ltd | Rail point freezing preventing device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0310618B2 (ja) | 1991-02-14 |
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