JPS5817262B2 - 腐蝕絵付方法 - Google Patents

腐蝕絵付方法

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JPS5817262B2
JPS5817262B2 JP16614080A JP16614080A JPS5817262B2 JP S5817262 B2 JPS5817262 B2 JP S5817262B2 JP 16614080 A JP16614080 A JP 16614080A JP 16614080 A JP16614080 A JP 16614080A JP S5817262 B2 JPS5817262 B2 JP S5817262B2
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JP
Japan
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film
patterns
corrosion
resist film
letters
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JP16614080A
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後藤啓
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は腐蝕される基板表面に文字、模様からなる絵柄
を腐蝕液による腐蝕によって絵付けする方法の改良に係
り、腐蝕を施す絵柄を抜いて腐蝕保護レジストを塗布乾
燥する従来の方法によることなく、機械的には強度が低
くて剥離され易いが化学的には腐蝕液により冒されない
通常の保護レジストを基板上に均一に塗布して保護レジ
スト膜を形成し、その、膜上に、文字、模様を抜いて形
成した機械的強度の大きい光硬化性樹脂膜を重ねて貼り
、サンドブラスト法により硬質粒子を吹付けて前記の光
硬化性樹脂膜の抜き部分に倣った文字、模様を腐蝕保護
レジスト膜の部分的除去により形成し、それから通常の
腐蝕液により基体表面の部分的腐蝕処理を施して明確な
腐蝕絵柄を現わすことを要旨とするものである。
最も原始的な腐蝕絵付方法は、腐蝕液に対する化学的耐
性が充分な腐蝕保護レジスト液により文字、模様からな
る絵柄を塗り残す膜状塗布を、腐蝕絵付を施す金属板な
どの基体上に施してから、腐蝕液中に浸漬し、又は腐蝕
液を塗布して腐蝕絵付を施し、しかるのちに水洗等で腐
蝕液の残留分を除去し、かつ腐蝕保護レジスト膜を除去
しているものであって、腐蝕保護レジスト膜をアスファ
ル液の印刷によって形成した転写紙により転写を施す等
の多くの改良が試みられている。
本発明方法はかかる従来法とは全く異なるものであって
、その一実施例を添付図面により説明する。
図中1は腐蝕絵付が施される金属板等の基体であって、
その表面に腐蝕保護レジスト膜2を均等の厚さで形成す
る。
前記のレジスト膜2は腐蝕液による化学的耐性は強力で
あるが、機械的強度が低い公知の保護レジスト液にカワ
液)を塗布して20〜100μの厚さに形成したもので
ある。
4は文字、模様を抜いた光硬化性合成樹脂膜であって、
暗所に2いて第2図に示すように300μ厚さの枠11
に未感光の光硬化性樹脂粘液を流し込んで膜層12を形
成し、その上に20〜30μ厚程度の透明合成樹脂フィ
ルム13を被覆して接着し、さらに文字、模様5を黒色
などの光不透過性材で現わした原画紙14を重ね、石英
灯16などで露光して焼付け、光硬化性樹脂膜層12の
露光部分を硬化して前記フィルム13に密着させたのち
、原画紙14を除去し、前記フィルム13と共に枠11
から外して水流により未感光の文字、模様を除去し、第
3図に示すように文字、模様5が抜けた光硬化性合成樹
脂膜4を形成したもので、これを透明合成樹脂フィルム
13に付着したままレジスト膜2に接着する。
その接着は必要に応じて稀アルコール溶液、薄い樹脂系
接着液等を光硬化合成樹脂膜4に塗って行うもので接着
力は充分である。
第1図のとおりに接合した光硬化合成樹脂膜4に対して
は第4図に示すように透明合成樹脂フィルム13の上か
らサンドブラスト法により1〜4kg/ffl程度の圧
力で硬質微粒子21を吹きつける。
前記フィルム13は脆弱であるからこれが吹き破れて除
かれ、光硬化合成樹脂膜4の抜き部分をなす文字、模様
5に通った硬質微粒子21により腐蝕保護レジスト膜2
にも前記の文字、模様5に倣った文字、模様5aを層の
破壊によって形成され、かつ吹きつけの圧力で外部に吹
きとばされて基体1の表面を露出する。
第4図のと旧りに処理を施した基体1を通常の腐蝕液に
浸すか又はその腐蝕液を塗布し、露出部分を充分に腐蝕
してから腐蝕液を中和し、又は水洗し、腐蝕レジスト膜
2の機械的強度が低い脆質により光硬化合成樹脂膜4と
ともに剥ぎ取る。
その剥ぎ取りの作業は従来の腐盲申保護レジスト膜の除
去と変らない。
本発明方法は腐蝕絵付を施す基体上に絵柄を塗り残した
腐蝕保護レジスト膜を形成するものでもなく、また光硬
化によって強力に接着する光硬化性樹脂の未感光被膜を
暗所で塗って露光により文字絵柄を水洗除去する直接形
成を施すものでもなく、前記基体上には機械的強度の低
い従来公知の腐蝕保護レジスト膜を所要部分に均一の厚
さで形成し、露光により文字、模様の未感光部分を抜い
た硬化ずみの感光性樹脂被膜を、保護レジスト膜上に貼
りつけ、サンドブラスト法により硬質粒子を感光性樹脂
被膜に吹きつけて該樹脂の硬さと弾力とにより吹付けら
れる硬質粒子をはね返し、抜き模様になっている文字、
模様内のみに硬質粒子を吹きつけて腐蝕保護レジスト膜
を部分的に除去し、それにより保護レジスト膜に文字、
模様を忠実に写して基体表面を露出させるものであって
、基体表面に形成した腐蝕保護レジスト膜に文字、模様
の絵柄を抜いて形成する作業を、サンドブラスト法の利
用により至極容易にすると共に、光硬化が施された光硬
化性樹脂によっては基体表面に腐蝕液保護を正確に生ず
るような密着を施し難いのを通常の腐蝕防護レジスト膜
に文字、模様を写すことで救済し、さらに前記レジスト
膜の基体からの易剥離性により光硬化性合成樹脂膜の剥
離を介助できるものであって、基体上に片面に忠実な腐
蝕絵付を明確に施し得る効果をもつ。
1図面の簡単な説明 第1図は基体上に施す腐蝕保護レジスト膜とその上に貼
った光硬化性樹脂膜の断面図、第2図は光硬化性樹脂膜
の形成及び露光を示した断面図、第3図は光硬化性合成
樹脂膜の平面図、第4図はサンドブラスト法による腐蝕
保護レジスト膜への文字、模様の写し込みを示した断面
図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 腐蝕絵付が施される基体上に機械的強度が低い腐蝕
    保護レジスト膜を塗着形成し、その乾燥後に文字、模様
    を抜き形成した光硬化性樹脂膜を貼付して、サンドブラ
    スト法により硬質粒子を吹付け、前記光硬化性樹脂膜の
    文字、模様の抜き形成部分を通る吹付粒子により腐蝕保
    護レジスト膜を部分的に除去して基体表面を部分的に露
    出させ、然る後に通常の腐蝕液により基体表面の前記露
    出部分を腐蝕処理により腐蝕することを特徴とする腐蝕
    絵付方法。
JP16614080A 1980-11-26 1980-11-26 腐蝕絵付方法 Expired JPS5817262B2 (ja)

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JPS5789478A JPS5789478A (en) 1982-06-03
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JPS62110061U (ja) * 1985-12-27 1987-07-14

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