JPS58172598A - 放射性廃液の処理方法 - Google Patents
放射性廃液の処理方法Info
- Publication number
- JPS58172598A JPS58172598A JP5528482A JP5528482A JPS58172598A JP S58172598 A JPS58172598 A JP S58172598A JP 5528482 A JP5528482 A JP 5528482A JP 5528482 A JP5528482 A JP 5528482A JP S58172598 A JPS58172598 A JP S58172598A
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- JP
- Japan
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- liquid
- radioactive
- concentrated
- organic polymer
- substances
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- Separation Of Suspended Particles By Flocculating Agents (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
設から発生する放射性廃液の処理方法に関する。
従来、当該廃水の処理法として凝集沈殿法、蒸発法など
がある。凝集沈殿法は低コストの方法ではあるが、除染
係数［ＤＦ＝（処理前の放射能濃度〕／（処理後の放射
能濃度〕〕が５０以下、減容比（ＣＦ＝（処理前の放射
性廃液量〕／（処理後の放射性廃液量）〕が５０以下で
あり、蒸発法は高コストの方法ではあるが、ＤＦが１０
〜１０ 、ＣＦが１００以下であり、いずれも一長一
短がある。
がある。凝集沈殿法は低コストの方法ではあるが、除染
係数［ＤＦ＝（処理前の放射能濃度〕／（処理後の放射
能濃度〕〕が５０以下、減容比（ＣＦ＝（処理前の放射
性廃液量〕／（処理後の放射性廃液量）〕が５０以下で
あり、蒸発法は高コストの方法ではあるが、ＤＦが１０
〜１０ 、ＣＦが１００以下であり、いずれも一長一
短がある。
本発明は、比較的低コストで、しかも高いＤＦおよびＣ
Ｆが得られるＲＩ施設から発生する放射性廃液の処理方
法を提供するものである。
Ｆが得られるＲＩ施設から発生する放射性廃液の処理方
法を提供するものである。
すなわち本発明は、放射性物質を含む廃液をｐＨ３以上
とし、そのままか、あるいは無機凝集剤又は有機高分子
凝集剤を添加して限外濾過半透膜で濃縮し、その濃縮液
に界面活性剤を添加して再度前記限外ｒ過半造膜と接触
させ、しがる後その濃縮液を起泡させて泡沫分離処理す
ることを特徴とする放射性廃液の処理方法に関するもの
である。
とし、そのままか、あるいは無機凝集剤又は有機高分子
凝集剤を添加して限外濾過半透膜で濃縮し、その濃縮液
に界面活性剤を添加して再度前記限外ｒ過半造膜と接触
させ、しがる後その濃縮液を起泡させて泡沫分離処理す
ることを特徴とする放射性廃液の処理方法に関するもの
である。
添付図面は本発明方法の一実施態様例を示す図である。
図において、まず、放射性廃液５はアルカリ剤６と混合
されながら循環液槽１に入る。アルカリ剤６は廃液の声
が６以上となるように注入する♂循環液槽１から供給ポ
ンプ４によって限外ｒ過装置２に圧力送液される（０．
５〜４にμ２〕。
されながら循環液槽１に入る。アルカリ剤６は廃液の声
が６以上となるように注入する♂循環液槽１から供給ポ
ンプ４によって限外ｒ過装置２に圧力送液される（０．
５〜４にμ２〕。
限外濾過装置２は溶液中の塩類、溶解した低分子物質を
透過させ、懸濁物質、コロイドおよび高分子物質は透過
させない半透膜にょるｒ過装置である。半透膜の穴の大
きさは１〜１０ｍμが好ましい。限外ｒ過装置２で一部
が透過した透過液８は除染された水として放流される。
透過させ、懸濁物質、コロイドおよび高分子物質は透過
させない半透膜にょるｒ過装置である。半透膜の穴の大
きさは１〜１０ｍμが好ましい。限外ｒ過装置２で一部
が透過した透過液８は除染された水として放流される。
一方、懸濁物質、コロイドなどは透過されず、循環液９
に含まれる。循環液９は、循環液槽１、供給ポンプ４、
限外濾過装置２の順に循環が続けられ、懸濁物質（放射
性物質を含む〕が濃縮される。この濃縮操作は透過液８
中の放射能濃度が所定値（すなわち、放流水の規準値１
×１０−６μＯｉ ／ＱＣ）を越えない程度まで続けら
れる。このとき減容比は通常５０〜ｉｏａである。濃縮
が進み、適当な減容比が得られると、（なお、ンスルホ
ン酸＝ＤＢＳなどうを循環液槽１に注入し、循環を続行
する。界面活性剤７の注入率は循環液槽１に保持されて
占・る濃縮液量に対して０．５〜１０ ｐｐｍとするこ
とが好ましい。循環を５〜１０回行った後、濃縮液１０
を泡沫分離装置３に送る。泡沫分離装置３は空気１３に
よって濃縮液１０を起泡させる装置である。濃縮液１０
はその中に含まれるＤＢＳと空気によって液面に多量の
泡沫、を発生する。その際、濃縮液１０に含まれる懸濁
物質（放射性物質を含む〕は気泡面に付着し、スカム１
１として濃縮液１０の水から分離される。分離された水
は脱離液１２として循環液槽１に戻される。この分離操
作の際、濃縮液１０のＤＢＳはほとんでがスカム１１に
移行し、脱離液１２には含まれていない。なお、界面活
性剤７を加えなげれば泡沫分離装置３で効果的な泡沫を
生じない。
に含まれる。循環液９は、循環液槽１、供給ポンプ４、
限外濾過装置２の順に循環が続けられ、懸濁物質（放射
性物質を含む〕が濃縮される。この濃縮操作は透過液８
中の放射能濃度が所定値（すなわち、放流水の規準値１
×１０−６μＯｉ ／ＱＣ）を越えない程度まで続けら
れる。このとき減容比は通常５０〜ｉｏａである。濃縮
が進み、適当な減容比が得られると、（なお、ンスルホ
ン酸＝ＤＢＳなどうを循環液槽１に注入し、循環を続行
する。界面活性剤７の注入率は循環液槽１に保持されて
占・る濃縮液量に対して０．５〜１０ ｐｐｍとするこ
とが好ましい。循環を５〜１０回行った後、濃縮液１０
を泡沫分離装置３に送る。泡沫分離装置３は空気１３に
よって濃縮液１０を起泡させる装置である。濃縮液１０
はその中に含まれるＤＢＳと空気によって液面に多量の
泡沫、を発生する。その際、濃縮液１０に含まれる懸濁
物質（放射性物質を含む〕は気泡面に付着し、スカム１
１として濃縮液１０の水から分離される。分離された水
は脱離液１２として循環液槽１に戻される。この分離操
作の際、濃縮液１０のＤＢＳはほとんでがスカム１１に
移行し、脱離液１２には含まれていない。なお、界面活
性剤７を加えなげれば泡沫分離装置３で効果的な泡沫を
生じない。
以上の操作により、次のような作用が生じる。
（１） アルカリ剤６を注入して廃液をｐＨ３以上に
することにより、放射性物質が不溶化する。
することにより、放射性物質が不溶化する。
たとえば、 Ｃｏ、 Ｆｅ の場合、次の反応に
より、水酸化物となって沈殿する。
より、水酸化物となって沈殿する。
６０Ｃｏ” ＋２０Ｈ−→６０ＣＯ（ＯＨ）２（沈殿物
）Ｆｅ ＋３ＤＨ、−＋ Ｆｅ（ＯＨ，）３Ｃ沈殿
物〕（２）穴の大きさ１〜１０ｍμの限外沢過半透膜を
使用することにより、廃液中の懸濁物質および上記不溶
化した放射性物質と液が分離する。
）Ｆｅ ＋３ＤＨ、−＋ Ｆｅ（ＯＨ，）３Ｃ沈殿
物〕（２）穴の大きさ１〜１０ｍμの限外沢過半透膜を
使用することにより、廃液中の懸濁物質および上記不溶
化した放射性物質と液が分離する。
（３） 界面活性剤７を濃縮液量に対し０．５〜１０
ｐｐｍを加えろことにより、半透膜面に付着した懸濁物
質を洗浄脱離させる作用、起泡作用および一部放射性物
質の吸着作用が生じる。
ｐｐｍを加えろことにより、半透膜面に付着した懸濁物
質を洗浄脱離させる作用、起泡作用および一部放射性物
質の吸着作用が生じる。
（４）空気の吹き込みにより、液が起泡され、該気泡表
面に懸濁物質が付着される。なお起泡させる方法は、空
気吹込みの他に、表面気曝なＶの方法がある。
面に懸濁物質が付着される。なお起泡させる方法は、空
気吹込みの他に、表面気曝なＶの方法がある。
（５）泡沫分離装置３は発生した気泡とその表面に付着
した懸濁物質などの混合物スカムな液から分離する。
した懸濁物質などの混合物スカムな液から分離する。
これらの作用により、次の効果を奏することができる。
■ 放射性物質を不溶化して半透膜で分離することによ
り高い除染効率が得られる。
り高い除染効率が得られる。
■ 界面活性剤を用いることにより分離した放射性物質
を半透膜面から大部分を脱離させ、半透膜の寿命を延ば
すことができる。また半透膜のくり返し使用ができろ。
を半透膜面から大部分を脱離させ、半透膜の寿命を延ば
すことができる。また半透膜のくり返し使用ができろ。
■ 界面活性剤が一部放射性物質を吸着することにより
除染効率を高める。
除染効率を高める。
■ 泡沫分離することにより液中の放射性物質濃度を著
しく高める。
しく高める。
また本発明方法において、アルカリ剤の添加と共に、無
機凝集剤（例えば、Ａｅ塩、Ｆｅ塩など）又は有機高分
子凝集剤（例えば、アクリルアミド化合物など）を添加
することもできる。
機凝集剤（例えば、Ａｅ塩、Ｆｅ塩など）又は有機高分
子凝集剤（例えば、アクリルアミド化合物など）を添加
することもできる。
この場合、アルカリ剤はｐＨｒｓ以上になるように注入
率を決定し、無機凝集剤は凝集剤溶液として５０〜２０
０ ＋）ｐｍ 、有機高分子凝集剤は凝集剤（粉末）と
して０．５〜５ｐｐｍ添加することが好ましい。
率を決定し、無機凝集剤は凝集剤溶液として５０〜２０
０ ＋）ｐｍ 、有機高分子凝集剤は凝集剤（粉末）と
して０．５〜５ｐｐｍ添加することが好ましい。
この操作により、次のような作用が生じる。
（１）アルカリ剤の注入により不溶化した放射性物質が
、無機凝集剤又は有機高分子凝集剤により凝集する。例
えば、無機凝集剤（ｉｔ塩〕の場合、ＰＨ５以上で、次
の反応が生じる。
、無機凝集剤又は有機高分子凝集剤により凝集する。例
えば、無機凝集剤（ｉｔ塩〕の場合、ＰＨ５以上で、次
の反応が生じる。
ＡＩ！” ＋３０Ｈ−→Ａ７（ＯＨ）３（沈殿物〕上式
で生じたＡ／（ＯＨ）うけ不溶化した放射性物質を核と
して凝集し、粒径が大きくなる。
で生じたＡ／（ＯＨ）うけ不溶化した放射性物質を核と
して凝集し、粒径が大きくなる。
また、有機高分子凝集剤の場合は、不溶化した放射性物
質同志が凝集して粒径が大きくなる。
質同志が凝集して粒径が大きくなる。
０１） その他の作用は前記した（１）〜（５）と同
じ。
じ。
そして、これらの作用により、次のような効果を奏する
ことができる。
ことができる。
■ 無機凝集剤又は有機高分子凝集剤により、不溶化し
た放射性物質を半透膜を透過しない程度の粒径まで太き
（することができ除染効率を一層高めることができる（
この効果を得るために、前記した割合で無機又は有機高
分子凝集剤を添加するこりが好ましいのである）。
た放射性物質を半透膜を透過しない程度の粒径まで太き
（することができ除染効率を一層高めることができる（
この効果を得るために、前記した割合で無機又は有機高
分子凝集剤を添加するこりが好ましいのである）。
■ その他の効果は前記した■〜■と同じ。
なお、以上説明した本発明方法によれば、除染係数ＤＦ
が１００〜２００となり、前記した従来の凝集沈殿法よ
りも高く、蒸発法よりも低く、また減容比ＯＦは１００
〜２００となり、凝集沈殿法および蒸発法よりも高く、
更に処理コストは凝集沈殿法の２〜６倍、蒸発法の１／
１０〜１／２０である。
が１００〜２００となり、前記した従来の凝集沈殿法よ
りも高く、蒸発法よりも低く、また減容比ＯＦは１００
〜２００となり、凝集沈殿法および蒸発法よりも高く、
更に処理コストは凝集沈殿法の２〜６倍、蒸発法の１／
１０〜１／２０である。
また、本発明方法においては、前記した界面活性剤の他
に、水溶性界面活性剤、陰イオン性界面活性剤（ＤＢＳ
等）、陽イオン性界面活性剤（アルキルベンゼンスルホ
ン酸二ＡＢＳ等〕、両性界面活性剤（エチレンジアミン
ラウリル酸等λ非イオン性界面活性剤（ポリオキンエチ
レンラウリル酸エステル等〕の種々のものが使用でき、
無機又は有機高分子凝集剤としても上記したものの他、
通常の無機、有機高分子凝集剤（前記したアクリルアミ
ド化合物の他、アルギン酸ナトリウム、ポリアクリル酸
ナトリウム、マレイン酸共重合物等の陰イオン性ポリマ
ー、水浴性アニリン樹脂、ポリチオ尿素、ポリエチレン
イミン、第４級アンモニウム塩、ポリビニルピリジン類
等の陽イオン性ポリマー、ポリアクリルアミド、ポリオ
キシエチレン、苛性化デンプン等の非イオン性ポリマー
等〕が使用できる。
に、水溶性界面活性剤、陰イオン性界面活性剤（ＤＢＳ
等）、陽イオン性界面活性剤（アルキルベンゼンスルホ
ン酸二ＡＢＳ等〕、両性界面活性剤（エチレンジアミン
ラウリル酸等λ非イオン性界面活性剤（ポリオキンエチ
レンラウリル酸エステル等〕の種々のものが使用でき、
無機又は有機高分子凝集剤としても上記したものの他、
通常の無機、有機高分子凝集剤（前記したアクリルアミ
ド化合物の他、アルギン酸ナトリウム、ポリアクリル酸
ナトリウム、マレイン酸共重合物等の陰イオン性ポリマ
ー、水浴性アニリン樹脂、ポリチオ尿素、ポリエチレン
イミン、第４級アンモニウム塩、ポリビニルピリジン類
等の陽イオン性ポリマー、ポリアクリルアミド、ポリオ
キシエチレン、苛性化デンプン等の非イオン性ポリマー
等〕が使用できる。
添付図面は本発明方法の一実施態様例を示す図である。
復代理人 内 １） 明
復代理人 萩 原 亮 −
手続補正書
昭和５７年 ９ 月）−１日
特許庁長官 若杉和夫 殿
１、事件の表示
昭和５７年特許願第５５２８４号
３、抽圧をする考
事件との関係 特許出願人
１ｉ： ＋’Ｊｉ 東京都千代田区丸の内二丁目
５番１号４腹代 刊１ 人 イ（−所 東京都（巷区虎〕門−丁目２４番１１号明細
書の［発明の詳細な説明−１の項 ａ補正の内容 明細書の第１頁１２行〜１３行の「逆浸透処理（以下Ｒ
１と配す）施設から発生する」を「放射性同位元素取扱
施設ｃ以下１（Ｉ）Ａ設と記す。つから発生する」と訂
正する。
５番１号４腹代 刊１ 人 イ（−所 東京都（巷区虎〕門−丁目２４番１１号明細
書の［発明の詳細な説明−１の項 ａ補正の内容 明細書の第１頁１２行〜１３行の「逆浸透処理（以下Ｒ
１と配す）施設から発生する」を「放射性同位元素取扱
施設ｃ以下１（Ｉ）Ａ設と記す。つから発生する」と訂
正する。
Claims (1)
- 放射性物質を含む廃液をＰＨ６以上とし、そのままか、
あるいは無機凝集剤又は有機高分子凝集剤を添加して限
外ｒ過半造膜で濃縮し、その濃縮液に界面活性剤を添加
して再度前記限外ｒ過半造膜と接触させ、しかる後その
濃縮液を起泡させて泡沫分離処理することを特徴とする
放射性廃液の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5528482A JPS58172598A (ja) | 1982-04-05 | 1982-04-05 | 放射性廃液の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5528482A JPS58172598A (ja) | 1982-04-05 | 1982-04-05 | 放射性廃液の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58172598A true JPS58172598A (ja) | 1983-10-11 |
| JPS6367877B2 JPS6367877B2 (ja) | 1988-12-27 |
Family
ID=12994283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5528482A Granted JPS58172598A (ja) | 1982-04-05 | 1982-04-05 | 放射性廃液の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58172598A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4755328A (en) * | 1984-04-03 | 1988-07-05 | Compagnie Generale Des Matieres Nucleaires | Process for treating uraniferous solutions by the addition of an aluminum salt |
| JP2013064690A (ja) * | 2011-09-20 | 2013-04-11 | Shonan Suri Kenkyukai Co Ltd | 汚染土の除染方法 |
-
1982
- 1982-04-05 JP JP5528482A patent/JPS58172598A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4755328A (en) * | 1984-04-03 | 1988-07-05 | Compagnie Generale Des Matieres Nucleaires | Process for treating uraniferous solutions by the addition of an aluminum salt |
| JP2013064690A (ja) * | 2011-09-20 | 2013-04-11 | Shonan Suri Kenkyukai Co Ltd | 汚染土の除染方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6367877B2 (ja) | 1988-12-27 |
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