JPS58171023A - 有機薄膜の形成方法 - Google Patents
有機薄膜の形成方法Info
- Publication number
- JPS58171023A JPS58171023A JP57054064A JP5406482A JPS58171023A JP S58171023 A JPS58171023 A JP S58171023A JP 57054064 A JP57054064 A JP 57054064A JP 5406482 A JP5406482 A JP 5406482A JP S58171023 A JPS58171023 A JP S58171023A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ink
- roll
- plate
- roller
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133345—Insulating layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Inking, Control Or Cleaning Of Printing Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はＴＮ−ＦＥＭ 液晶表示素子の配向制御膜等に
用いられる有機薄膜の形成方法に関する。
用いられる有機薄膜の形成方法に関する。
一般にＴＮ−ＦＥＭ液晶セルの基板構成はガラス板上に
透明導電膜（１，Ｔ、Ｏ）の電極か形成されその上に液
晶の配向膜となる絶縁膜が形成されてなる。
透明導電膜（１，Ｔ、Ｏ）の電極か形成されその上に液
晶の配向膜となる絶縁膜が形成されてなる。
そして液晶の配向規制は上記絶縁膜を布によっである特
定方向にラビングすることによりなされた。
定方向にラビングすることによりなされた。
このラビング溝の方向は上下基板の絶縁膜において互い
に直交しているのか一般的である。ここで問題となるの
は、液晶表示素子に印加される外部駆動電圧か絶縁膜膜
厚に応じて降圧することである。従って液晶表示素子の
絶縁膜の膜厚か不均一であれば表示コントラストのムラ
を生じ品質上問題を生ずる。上記絶縁膜の膜厚の均一性
か厳しく要求されるのはこのためで、この膜厚の均一性
は±ｌθ％以内であることか望ましい。膜厚に関しては
一般的に１００〜２０００λ範囲内の薄膜が用いられる
。
に直交しているのか一般的である。ここで問題となるの
は、液晶表示素子に印加される外部駆動電圧か絶縁膜膜
厚に応じて降圧することである。従って液晶表示素子の
絶縁膜の膜厚か不均一であれば表示コントラストのムラ
を生じ品質上問題を生ずる。上記絶縁膜の膜厚の均一性
か厳しく要求されるのはこのためで、この膜厚の均一性
は±ｌθ％以内であることか望ましい。膜厚に関しては
一般的に１００〜２０００λ範囲内の薄膜が用いられる
。
一方ＴＮ−ＦＥＭ液晶表示素子の配向絶縁膜としてＳ
ｉ０２ 、ＭｇＦ２ 、 Ｐ Ｖ Ａ等無機膜及び有機
膜双方に多数種あるが、これらの中で有機ポリイミド膜
を用いた場合液晶の配向安定性か非常Ｖこ優れているこ
とか知られている。
ｉ０２ 、ＭｇＦ２ 、 Ｐ Ｖ Ａ等無機膜及び有機
膜双方に多数種あるが、これらの中で有機ポリイミド膜
を用いた場合液晶の配向安定性か非常Ｖこ優れているこ
とか知られている。
本発明は上記有機ボリイξド膜を透明導電膜か形成され
るガラス基板の上に形成するに好適な有機薄膜の形成方
法に関するものである。
るガラス基板の上に形成するに好適な有機薄膜の形成方
法に関するものである。
上記配向絶縁膜を基板上に均一に塗布する方法として従
来平板オフセント印刷方式が提案される（例えば特開昭
５５−３７３１４）。この平板オフセット印刷方式の概
略を説明すると、第１図の説明図に示す如く、インキン
グローラーｌにポリイミド溶液を供給しブラシ胴２．イ
ンキングローラーｌを回転・前進させ版定盤３上のガラ
ス板４上にインキングローラーｌでポリイミド膜をコー
ティングする。次にインキングローラーｌか戻ってくる
時ブラシ胴２は版定盤３上のガラス板４に接する位置ま
で下降する。従ってその時ブラシ胴２の表面に貼布され
たゴム凸版５に上記ガラス板４上にコーティングされた
ポリイミド膜が転写される。
来平板オフセント印刷方式が提案される（例えば特開昭
５５−３７３１４）。この平板オフセット印刷方式の概
略を説明すると、第１図の説明図に示す如く、インキン
グローラーｌにポリイミド溶液を供給しブラシ胴２．イ
ンキングローラーｌを回転・前進させ版定盤３上のガラ
ス板４上にインキングローラーｌでポリイミド膜をコー
ティングする。次にインキングローラーｌか戻ってくる
時ブラシ胴２は版定盤３上のガラス板４に接する位置ま
で下降する。従ってその時ブラシ胴２の表面に貼布され
たゴム凸版５に上記ガラス板４上にコーティングされた
ポリイミド膜が転写される。
次に上記ブラ、シ胴２の表面に貼布されたゴム凸版５に
転写されたポリイミド膜が今度は印刷定盤６上にセット
されるガラス基板７に転写されて塗布か完了する。
転写されたポリイミド膜が今度は印刷定盤６上にセット
されるガラス基板７に転写されて塗布か完了する。
以上の従来の平板オフセット印刷方式によって有機ボリ
イばド膜の均一な膜厚を得るためには次の２点か重要で
ある。
イばド膜の均一な膜厚を得るためには次の２点か重要で
ある。
（１）版定盤３とインキングローラー１間のクリアラン
ス（あるいは転写圧）かいたるところ均一であること。
ス（あるいは転写圧）かいたるところ均一であること。
これは版定盤３上のインク塗布厚みか均一になる為に必
要である。
要である。
（２） ゴム凸版５の表面形状ｆ ０．２ ｒａｎピ
ッチ、深さ０１咽のＶ形ミゾを縦横に切る、あるいは上
記ゴム凸版５０代わ９に感光性樹脂凸版を用いその表面
に深さ２０〜４０μの２００メツシユ・アミ点ミゾをつ
けること。これはインク転写量の偏りを分散させる為に
かされる。但し上記ゴム凸版５においてはゴムの成形加
工上パターン形状に制約かあり細かなパターンの成形加
工か難しいという加工上の問題かあり、父上配光感光性
樹脂凸版においてはアミ点深度の管理か大切である。
ッチ、深さ０１咽のＶ形ミゾを縦横に切る、あるいは上
記ゴム凸版５０代わ９に感光性樹脂凸版を用いその表面
に深さ２０〜４０μの２００メツシユ・アミ点ミゾをつ
けること。これはインク転写量の偏りを分散させる為に
かされる。但し上記ゴム凸版５においてはゴムの成形加
工上パターン形状に制約かあり細かなパターンの成形加
工か難しいという加工上の問題かあり、父上配光感光性
樹脂凸版においてはアミ点深度の管理か大切である。
以上２点の平板オフセット印刷方式における管理は相当
繁雑である。又この平板オフセット印刷方式は上記運転
説明で分るように塗布に要する所要時間が長い。又ガラ
ス基板７に転写されるポリイミド膜は一旦版定盤３上に
塗布展開されるため粘度変化か激しく膜厚の一定化か難
しいという欠点かあり量産効率が充分でなかった。
繁雑である。又この平板オフセット印刷方式は上記運転
説明で分るように塗布に要する所要時間が長い。又ガラ
ス基板７に転写されるポリイミド膜は一旦版定盤３上に
塗布展開されるため粘度変化か激しく膜厚の一定化か難
しいという欠点かあり量産効率が充分でなかった。
本発明は上記従来問題点を解決するためになされたもの
であり、有機薄膜の膜厚制御が容易でしかも量産性に適
する有機薄膜の形成方法を提供することを目的とする。
であり、有機薄膜の膜厚制御が容易でしかも量産性に適
する有機薄膜の形成方法を提供することを目的とする。
以下、本発明に係る一実施例を図面を用いて詳細に説明
する。
する。
第２図は本発明に係る一実施例の有機膜印刷機の概要を
示す側面図、第３図はその外観斜視図である。同図で８
．９はインク練りローラーで材質は硬度７０°以上のＥ
ＰＴゴムから構成され、１０は着肉ローラーで材質は硬
度６０°以上のＥＰＴゴムから構成され、１１は版胴ロ
ーラーでステンレスから構成され、１２は揺動ローラー
でステンレスから構成される。上記８乃至１２のローラ
ーは全て各ローラー間で楼内されており運転中は常時回
転している。１３はインク供給及び排出部であり、ここ
からインクをインク練りローラー１．２の間に供給する
と着肉ローラーｌＯを介して版胴ローラー１１上に貼布
されている樹脂凸版（感光性樹脂凸版）１４にインクか
転写、転送されていく。揺動ローラー１２の目的はイン
ク転写量をローラー全体に均一に転送させることと、イ
ンク練りローラー９に転送したインク量の制御を行なう
ことである。上記インク練りローラー８，９に供給され
る′インクはポリイミド溶液であり、使用時における粘
度範囲か８０ｃｐｓ〜２０００ｃｐｓ （２５℃）であ
ることか望ましい。
示す側面図、第３図はその外観斜視図である。同図で８
．９はインク練りローラーで材質は硬度７０°以上のＥ
ＰＴゴムから構成され、１０は着肉ローラーで材質は硬
度６０°以上のＥＰＴゴムから構成され、１１は版胴ロ
ーラーでステンレスから構成され、１２は揺動ローラー
でステンレスから構成される。上記８乃至１２のローラ
ーは全て各ローラー間で楼内されており運転中は常時回
転している。１３はインク供給及び排出部であり、ここ
からインクをインク練りローラー１．２の間に供給する
と着肉ローラーｌＯを介して版胴ローラー１１上に貼布
されている樹脂凸版（感光性樹脂凸版）１４にインクか
転写、転送されていく。揺動ローラー１２の目的はイン
ク転写量をローラー全体に均一に転送させることと、イ
ンク練りローラー９に転送したインク量の制御を行なう
ことである。上記インク練りローラー８，９に供給され
る′インクはポリイミド溶液であり、使用時における粘
度範囲か８０ｃｐｓ〜２０００ｃｐｓ （２５℃）であ
ることか望ましい。
印刷ステージ１５上に１．Ｔ、０を有するガラス基板１
６をセットし、印刷ステージ１５の搬送速度を版胴ロー
ラー１１の回転速度と同期させる。すると樹脂凸版１４
上のインクパターンかガラス基板１６の所定の位置に転
写される。上記樹脂凸版１４はゴム硬度６０°以上のも
のか望ましい。
６をセットし、印刷ステージ１５の搬送速度を版胴ロー
ラー１１の回転速度と同期させる。すると樹脂凸版１４
上のインクパターンかガラス基板１６の所定の位置に転
写される。上記樹脂凸版１４はゴム硬度６０°以上のも
のか望ましい。
次に−Ｆ記印刷機の特性について詳述する。インク練り
ローラー８２着肉ローラー１０．揺動ローラー１２はロ
ーラー間のクリアランス調節かできるように第２図に示
される如く矢印方向に動調節できる。インク練りローラ
ー９１版胴ローラー１１は回転軸に固定される。各ロー
ラー間のクリアランスと転写圧（接触圧）の関係は次の
第１表に示す通りであ一〕だ。但し１５は印刷ステージ
である。
ローラー８２着肉ローラー１０．揺動ローラー１２はロ
ーラー間のクリアランス調節かできるように第２図に示
される如く矢印方向に動調節できる。インク練りローラ
ー９１版胴ローラー１１は回転軸に固定される。各ロー
ラー間のクリアランスと転写圧（接触圧）の関係は次の
第１表に示す通りであ一〕だ。但し１５は印刷ステージ
である。
第１表
同表でマイナスのクリアランス値はローラーか圧接して
いることを意味している。同表に示される如く岨−シー
９→ローラーｌＯ１及びローラー１０→ローラー１１の
転写圧はローラー間のクリアランスにはほとんど無関係
である。即ちこの場合釜ローラー間のクリアランス調節
を厳密に行わなくともその転写圧は一定であり、一般に
インクの転写率は転写圧と関係し転写圧か高くなると転
写率か低下すると言われていることからすると、上記ク
リアランス調節を厳密に行わなくとも常に一定の転写率
を得るという著しく便利な特性を有していることになる
。
いることを意味している。同表に示される如く岨−シー
９→ローラーｌＯ１及びローラー１０→ローラー１１の
転写圧はローラー間のクリアランスにはほとんど無関係
である。即ちこの場合釜ローラー間のクリアランス調節
を厳密に行わなくともその転写圧は一定であり、一般に
インクの転写率は転写圧と関係し転写圧か高くなると転
写率か低下すると言われていることからすると、上記ク
リアランス調節を厳密に行わなくとも常に一定の転写率
を得るという著しく便利な特性を有していることになる
。
、実際に各ローラーへインクか転写されていく様子を調
べてみると次の第２表の如くであった。
べてみると次の第２表の如くであった。
第２表で揺動ローラーＯＮではガラス基板上での膜厚均
一性が十ｌＯ％、ＯＦＦでは印刷方向に沿ってすじむら
か多く膜厚均一性が±３０％であった。
一性が十ｌＯ％、ＯＦＦでは印刷方向に沿ってすじむら
か多く膜厚均一性が±３０％であった。
第２表よりローラー間のクリアランスに関係なくインク
の転写量はＩｌｌの割合で転写されていることかわかる
。又揺動ローラーは膜厚の値と膜厚の均一性に大きく関
係していることがわかる。
の転写量はＩｌｌの割合で転写されていることかわかる
。又揺動ローラーは膜厚の値と膜厚の均一性に大きく関
係していることがわかる。
以上の本発明に係る有機膜印刷機と従来の平板オフセッ
ト印刷方式とを比較すると次の様である。
ト印刷方式とを比較すると次の様である。
即ち平板オフセット印刷方式の場合、第１図の版定盤３
にインキングローラー１からインクが転写されそのイン
クの乾燥時の膜厚を２５００スとするとガラス基板７に
インクか転写されるまでのプロセスにおいてインクの膜
厚は次の様に変化する。
にインキングローラー１からインクが転写されそのイン
クの乾燥時の膜厚を２５００スとするとガラス基板７に
インクか転写されるまでのプロセスにおいてインクの膜
厚は次の様に変化する。
インキングローラー■→版定盤３で２５００λ、版定盤
３→樹脂凸版５で１０００″Ａ、樹脂凸版５→ガラス基
板７で８０ＯＡである。つまり平板オフセット印刷の場
合ガラス基板７に８０ＯＡの有機薄膜を形成する為には
版定盤３上にその約３倍の厚みのインクを塗布する必要
がある。更に樹脂凸版５に版定盤３上からインクが転写
される場合、版定盤３上のインクか厚く塗布された面に
樹脂凸版５か圧接されるので、その際、樹脂凸版５の周
辺にもインクか付着し、最終的に樹脂凸版５からガラス
基板７にインクを転写する時転写パターンの端部にイン
クか溜まり、にじみか生ずるとい、う結果になる。第４
図（はそのにじみか生じたガラス基板７を示す。１７か
印刷面、１８がエツジのインク溜りである。矢印は印刷
方向を示す。この様なインク溜りは転写パターンの寸法
精度を著しく損う原因となる。
３→樹脂凸版５で１０００″Ａ、樹脂凸版５→ガラス基
板７で８０ＯＡである。つまり平板オフセット印刷の場
合ガラス基板７に８０ＯＡの有機薄膜を形成する為には
版定盤３上にその約３倍の厚みのインクを塗布する必要
がある。更に樹脂凸版５に版定盤３上からインクが転写
される場合、版定盤３上のインクか厚く塗布された面に
樹脂凸版５か圧接されるので、その際、樹脂凸版５の周
辺にもインクか付着し、最終的に樹脂凸版５からガラス
基板７にインクを転写する時転写パターンの端部にイン
クか溜まり、にじみか生ずるとい、う結果になる。第４
図（はそのにじみか生じたガラス基板７を示す。１７か
印刷面、１８がエツジのインク溜りである。矢印は印刷
方向を示す。この様なインク溜りは転写パターンの寸法
精度を著しく損う原因となる。
しかし本発明の方式に従えばインクの転写率かｌ：１で
ローラーを転移していく為初期段階で大量にインクを塗
布する必要が無く、パターン端部のインク溜まり、にじ
みは著しく少なくなり、寸法精度±３０μの精度安定性
は著しく良好である。
ローラーを転移していく為初期段階で大量にインクを塗
布する必要が無く、パターン端部のインク溜まり、にじ
みは著しく少なくなり、寸法精度±３０μの精度安定性
は著しく良好である。
又印刷面の膜均一性は平板オフセット印刷では表面形状
加工（例えばアミ点加工、■溝加工）した凸版を用いた
場合印刷条件によってアミ点状ある喰輌５イノ目状の膜
厚不均一を生じ易かったが、本発明の方式に従えば平滑
樹脂凸版を用いることができるのでその場合膜厚の均一
性か著しく良くなる０膜厚の均一性は繰り返し種々の印
刷条件下で検討した結果全て上１０％の範囲内に入る事
を確認した。
加工（例えばアミ点加工、■溝加工）した凸版を用いた
場合印刷条件によってアミ点状ある喰輌５イノ目状の膜
厚不均一を生じ易かったが、本発明の方式に従えば平滑
樹脂凸版を用いることができるのでその場合膜厚の均一
性か著しく良くなる０膜厚の均一性は繰り返し種々の印
刷条件下で検討した結果全て上１０％の範囲内に入る事
を確認した。
次に本発明に係る有機膜印刷機の連続運転時におけるイ
ンク粘度の経時変化を調べた結果を第５図、第６図に示
す（膜厚、粘度とも任意単位で表記した）。第５図は初
期にインクを供給しその後インクを供給しなかったもの
、第６図は５分毎にインクを適量追加したものである。
ンク粘度の経時変化を調べた結果を第５図、第６図に示
す（膜厚、粘度とも任意単位で表記した）。第５図は初
期にインクを供給しその後インクを供給しなかったもの
、第６図は５分毎にインクを適量追加したものである。
第６図によればインクを適時追加していくと粘度変化は
ほぼ一定に保たれることが判る。その場合膜厚の変化は
著しく小さくなっている。
ほぼ一定に保たれることが判る。その場合膜厚の変化は
著しく小さくなっている。
又、第３図に示すインク排出ディスペンサー１９によっ
て１時間毎にインク練りローラー８，９間に溜捷ってい
るインク（インク流出防止用の側板２０かインク練りロ
ーラ−８端部に設けられている）を吸引、吐出しフレッ
シュインクをインク供給ディスペンサー２１で追加供給
するという方法を併用すれば８時間の連続運転を行なっ
ても膜厚の均一性、膜厚の変動かほとんど無い事を確認
している。
て１時間毎にインク練りローラー８，９間に溜捷ってい
るインク（インク流出防止用の側板２０かインク練りロ
ーラ−８端部に設けられている）を吸引、吐出しフレッ
シュインクをインク供給ディスペンサー２１で追加供給
するという方法を併用すれば８時間の連続運転を行なっ
ても膜厚の均一性、膜厚の変動かほとんど無い事を確認
している。
以上説明した本発明の方式による有機膜印刷機を用いた
場合、版胴の樹脂凸版に平滑平面を有するゴム硬度６０
°以上の感光性樹脂板を用いることによりインク粘度８
０ｃｐｓ〜２０００ ｃｐｓの広い粘度範囲のポリイミ
ド溶液を用いても寸法精度上３０μの範囲内で膜厚３０
０〜３０００λの範囲内の薄膜を±１０％の精度で形成
できた。
場合、版胴の樹脂凸版に平滑平面を有するゴム硬度６０
°以上の感光性樹脂板を用いることによりインク粘度８
０ｃｐｓ〜２０００ ｃｐｓの広い粘度範囲のポリイミ
ド溶液を用いても寸法精度上３０μの範囲内で膜厚３０
０〜３０００λの範囲内の薄膜を±１０％の精度で形成
できた。
以上説明した本発明によれば膜厚制御が容易で量産性に
適する有機薄膜の形成方法を得るものである。
適する有機薄膜の形成方法を得るものである。
第１図は従来の平板オフセット印刷機の説明図、第２図
は本発明に係る有機膜印刷機の側面図、第３図はその外
観斜視図、第４図はにじみか生じたガラス基板の平面図
、第５図、第６図はグラフ図を示す。 輪、８：インク練りローラー、９：インク練シローラー
、ｌＯ二着肉ローラー、１１：版胴ローラー、１２：揺
動ローラー、１３：インク供給・排出部、１４：樹脂凸
版、１５：印刷ステージ、１６：ガラス基板。
は本発明に係る有機膜印刷機の側面図、第３図はその外
観斜視図、第４図はにじみか生じたガラス基板の平面図
、第５図、第６図はグラフ図を示す。 輪、８：インク練りローラー、９：インク練シローラー
、ｌＯ二着肉ローラー、１１：版胴ローラー、１２：揺
動ローラー、１３：インク供給・排出部、１４：樹脂凸
版、１５：印刷ステージ、１６：ガラス基板。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 第１のローラーに有機物質のインクを塗布し、前記
第１のローラー上のインクを、表面に樹脂凸版が形成さ
れる第２のローラーに転写し、前記第２のローラーの樹
脂凸版上のインクを基板上に加圧することを特徴とする
有機薄膜の形成方法。 ２ 前記樹脂凸版か表面か平坦な感光性樹脂からなるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の有機薄膜の
形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57054064A JPS58171023A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | 有機薄膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57054064A JPS58171023A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | 有機薄膜の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58171023A true JPS58171023A (ja) | 1983-10-07 |
| JPH0447291B2 JPH0447291B2 (ja) | 1992-08-03 |
Family
ID=12960182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57054064A Granted JPS58171023A (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | 有機薄膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58171023A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63165820A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-09 | Nissha Printing Co Ltd | 薄膜形成装置 |
| EP0410387A2 (en) * | 1989-07-25 | 1991-01-30 | Casio Computer Company Limited | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same |
| JPH0583725U (ja) * | 1992-04-14 | 1993-11-12 | シャープ株式会社 | 液晶表示素子の印刷膜転写装置 |
| KR100806804B1 (ko) * | 2001-05-15 | 2008-02-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 배향막 인쇄장치 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55105223A (en) * | 1979-02-07 | 1980-08-12 | Hitachi Ltd | Forming method for inorganic oxide film |
-
1982
- 1982-03-31 JP JP57054064A patent/JPS58171023A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55105223A (en) * | 1979-02-07 | 1980-08-12 | Hitachi Ltd | Forming method for inorganic oxide film |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63165820A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-09 | Nissha Printing Co Ltd | 薄膜形成装置 |
| EP0410387A2 (en) * | 1989-07-25 | 1991-01-30 | Casio Computer Company Limited | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same |
| US5194976A (en) * | 1989-07-25 | 1993-03-16 | Casio Computer Co., Ltd. | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same |
| JPH0583725U (ja) * | 1992-04-14 | 1993-11-12 | シャープ株式会社 | 液晶表示素子の印刷膜転写装置 |
| KR100806804B1 (ko) * | 2001-05-15 | 2008-02-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 배향막 인쇄장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0447291B2 (ja) | 1992-08-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2002293049A (ja) | 薄膜形成用樹脂凸版 | |
| JPH03268945A (ja) | インキ装置 | |
| US3902417A (en) | Wetting system for rotary offset printing presses | |
| JPS5845955A (ja) | 輪転印刷機用のインキ装置 | |
| JPS58171023A (ja) | 有機薄膜の形成方法 | |
| JPH05337413A (ja) | ロールコータによる基板表面への塗液塗布方法 | |
| JPS6258310B2 (ja) | ||
| JP2019155652A (ja) | 印刷基板の製造方法 | |
| JP4826181B2 (ja) | パターン形成方法およびパターン形成装置 | |
| JPH0460831B2 (ja) | ||
| JP5499822B2 (ja) | 機能性薄膜の製造方法 | |
| JPS5853479A (ja) | 薄膜の製造方法 | |
| JP2525797B2 (ja) | 薄膜の印刷方法 | |
| WO2019119537A1 (zh) | 一种配向膜涂布方法及装置 | |
| JP2759570B2 (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JPH08295006A (ja) | 薄膜印刷装置 | |
| JPH0216228B2 (ja) | ||
| JP2000187222A (ja) | 液晶配向膜の形成方法 | |
| JPH01265204A (ja) | カラーフィルタ製造方法 | |
| JP2844142B2 (ja) | 薄膜形成装置および方法ならびに液晶表示素子の製造方法 | |
| JPH06296914A (ja) | ロールコータ | |
| JPH05111996A (ja) | 薄膜パターン形成装置 | |
| JPS61106254A (ja) | キ−レス・インキング装置 | |
| KR830000992B1 (ko) | 박막의 형성방법 | |
| KR950007563Y1 (ko) | 액정표시소자 제조용 롤코팅기 |