JPS5816823A - 白濁した高分子薄膜の製造方法 - Google Patents

白濁した高分子薄膜の製造方法

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Publication number
JPS5816823A
JPS5816823A JP56114486A JP11448681A JPS5816823A JP S5816823 A JPS5816823 A JP S5816823A JP 56114486 A JP56114486 A JP 56114486A JP 11448681 A JP11448681 A JP 11448681A JP S5816823 A JPS5816823 A JP S5816823A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polymer
solvent
film
thin film
opaque
Prior art date
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Pending
Application number
JP56114486A
Other languages
English (en)
Inventor
Koji Sato
弘次 佐藤
Takeshi Sukegawa
助川 健
Shungo Sugawara
菅原 駿吾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP56114486A priority Critical patent/JPS5816823A/ja
Publication of JPS5816823A publication Critical patent/JPS5816823A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は高分子薄膜の製造方法に関し、より詳しくは不
透明ガラス及び種々の光学部品への応用可能な不透明な
高分子薄膜の製造方法に関するものである。
高分子薄膜を得る手法は、従来より高分子溶液を基材上
にキャストして乾燥することKよるキャスティング法、
基材上にワイヤーバー等を用いて塗工する塗工法、およ
び回転装置(スピナー)を用いるスピンコード法等が知
られている。現在こうした方法によシ種々の々3分子薄
膜が薄膜年独の形態で、あるいは適当な基材と一体化し
た形態で製造されている。まfc、被雑な形態をした部
品等を高分子溶液中に浸しくディッピング)、これを乾
燥して部品表面に均一な尚分子薄膜全作成して部品に保
護膜を形成することもよく知られた技術であってキャス
ティング法の範噴に含めることができる。これらの技術
では通常速りjな高分子薄膜が得られる。
一方遮光ガラス等への応用會目的として不透明な高分子
薄膜に対するweも近年増大している。
従来の方法で不透明な高分子薄膜を得るためには、キャ
スティングに用いる同分子醒液中に微粒の無機顔料等を
分散させることによって行われてきた。
しかしながらこの様な方法では分散液の調整に非常に多
くの労力を必要とするのが常であり、また塗工溶液の分
散状態が慾いと得られる高分子薄膜の不透明性がむらV
cなり易い問題点があった。
本発明はキャスティングあるいは塗工するために用いる
高分子浴液の溶媒の沸点が35〜90℃以上であること
を特徴とし、その目的は無機顔料等の分散剤を用いるこ
となしに白濁した不透明な高分子薄膜を得ることにある
本発明では無機顔料等全添加することなく不透明な高分
子薄膜が得られるが、これはキャスティングあるいは塗
工するために用いる高分子溶液の溶媒の沸点、訃よひキ
ャスティングあるいは塗工した後の乾燥雰囲気の温度と
湿度を適宜選択することにより、製造される高分子薄膜
中に微小な水滴が多数形成される知見にもとづいている
。すなわち乾燥過程で溶媒が蒸発する際、多量の蒸発潜
熱をうはい、このため試料温度が試料が設置された雰囲
気の温度より低下し、試料中に水分が微小な球体状にな
って凝結する。こうした水滴の生成条件を独々調べた結
果、溶媒の洲点かあ〜(資)℃、乾燥雰囲気が10〜5
0’C1相対湿度30チ以上の峰件で再現性良く微小な
水滴を形成せしめ得ることがわかった。高分子薄膜中に
こうした水滴が多数形成されると入射光が散乱されるた
め試料の外観は白濁化し不透明になる。以上の知見は白
濁化した高分子薄膜を顕微鏡観察することにより容易に
得られる。−たん形成された水滴は高分子薄膜に取り囲
まれているため室温付近の温度ではその′!まの状態で
長期間保持さむ、る0″!Ifc、長時間加熱して水分
が蒸発したとしても高分子薄膜中に空孔が残るため白濁
状態は変化しない。
以上の様に本発明は水滴の生成現象を利用しているため
、分散剤等を使用−することなく不透明な高分子薄膜を
製造することができ、丑だ白濁化する条件も通常の室内
雰囲気であり実際上浴媒の沸点を選択するたけで良く、
本発明は従来の方法に比べて極めて容易な方法であると
百える。
使用する溶媒として0、用いるM+分子物質を溶解し、
かつ沸点が35〜90℃のものであれはいずれも使用す
ることができる0具体的p(Xに1.第1表に示す溶媒
が適当であった0また溶媒全2神以上混合した混合溶媒
でもその沸点が35〜1)0℃の範囲にあれば同様に使
用できる。
第1表  ()内は沸点を示す また使用可能な高分子物質としては第1表に示す溶媒に
可溶なものであれば良く特に限定されない。
具体的には以下のものが適当であった。ポリスチレン、
ポリメチルメタクリレ−1・、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、線状飽和ポリエステル、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルアルコール、ヒドロキシグロビルセルロ
・−ス、エチルセルロース。
ゼラチン、アラビアゴム、ポリブタジェン、エポキシ樹
脂。またこれらの高分子物質は二種以上混合して用いて
も良い。
なお沸点が35℃未満の溶媒は、室温でも気化するため
に溶媒して使用することは適当でない。ま7’c90℃
を超過したものについては、常温常湿で乾燥した場合、
気化速度がきわめて低いために、白濁現象がみられない
以下実施例に従って具体的に説明する。
(実施例1) tix4cc二Ll!/I’醗ピニノし叛セ寺−共重合
体(電気化学工業テンカビニル1# 1000 AS)
のlθ%塩化メチレン(沸点40.0℃)溶液を調整し
た。この溶液をガラス基板上にキャストして30℃、相
対湿度30%雰囲気で1o分間風乾した。乾燥に従って
薄膜(膜厚20 Prn)は白濁した。
この薄膜を60℃1時間熱処理しても不透明性は変化し
なかった。
(実施例2〜4) キャストした後それぞれ第2表に示す条件で加分間乾燥
した。いずれの場合も白濁化した薄膜が得られた。
第2表 実施例1〜4において蝮蕃飾曙共重合体を用いるかわり
に線状飽和ポリエステル(東洋紡バイロン200)を用
いる他は同様にして高分子薄iIを製造した。実施例1
〜4と同様に白濁化した不透明な高分子薄膜が得られた
(比較例1) 実施例1において塩化メチレンのかわりにメチルイソブ
チルケトン(b、p 115.9℃)を用いる他は同様
にして高分子薄膜′fc製造した。透明な薄膜しか得ら
れなかつfc。
(比較例2) 実施例1において塩化メチレンのかわりに酢酸ブチル(
b、p 126.1℃)?l−用いる他は同様にして高
分子薄膜を製造した。透明な薄膜しか得られなかった。
以上説明した様に、本発明によれば微小な水滴を高分子
薄膜中に形成せしめることにより白濁化した高分子薄膜
を製造すると、分散剤を必要とせずに不透明な高分子薄
膜を得ることができ、製造工程の簡易化、製造コストの
経街化が実現でき、不透明ガラス相当品としであるいは
神々の光学部品としても応用できる利点がある。
特許出願人 日本電佃%話釡蔽

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 高分子物fX′?f:これを溶解する溶媒に溶解させる
    ことによって得られる高分子溶液を基材状にキャストあ
    るいは塗工した後これを乾燥して溶媒を除去せしめるこ
    とによって上記高分子物質の薄膜を得る高分子薄膜の製
    造方法において、溶媒として沸点がお〜匍℃のものを用
    いることを特徴とする白濁した高分子薄膜の製造方法。
JP56114486A 1981-07-23 1981-07-23 白濁した高分子薄膜の製造方法 Pending JPS5816823A (ja)

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JP56114486A JPS5816823A (ja) 1981-07-23 1981-07-23 白濁した高分子薄膜の製造方法

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1989008679A1 (en) * 1988-03-07 1989-09-21 Rikagaku Kenkyusho Process for producing porous polymer membrane and composite polymer membrane
US5238636A (en) * 1988-03-07 1993-08-24 Rikagaku Kenkyusho Processes for producing porous polymer films and composite films
JP2562973B2 (ja) * 1988-03-07 1996-12-11 理化学研究所 多孔質高分子膜及び高分子複合膜の製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1989008679A1 (en) * 1988-03-07 1989-09-21 Rikagaku Kenkyusho Process for producing porous polymer membrane and composite polymer membrane
US5238636A (en) * 1988-03-07 1993-08-24 Rikagaku Kenkyusho Processes for producing porous polymer films and composite films
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