JPS58168139U - 半導体ウエハの吸着保持装置 - Google Patents

半導体ウエハの吸着保持装置

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JPS58168139U
JPS58168139U JP6472882U JP6472882U JPS58168139U JP S58168139 U JPS58168139 U JP S58168139U JP 6472882 U JP6472882 U JP 6472882U JP 6472882 U JP6472882 U JP 6472882U JP S58168139 U JPS58168139 U JP S58168139U
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JP
Japan
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holding device
semiconductor wafer
grooves
suction
wafer suction
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JP6472882U
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JPH0331082Y2 (ja
Inventor
正行 伊藤
Original Assignee
東京エレクトロン株式会社
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図はこの考案の一実施例を示す平面図、第2図乃至
第5図は第1図のA−A線断面図で、第2図は最小径の
ウェハを吸着する場合、第3図、第4図は最小径ウェハ
より若干大きいウェハを吸着する場合、第5図は最大径
ウェハを吸着する場合をそれぞれ示す。 1・・・試料台、2. 3. 4. 5. 6. 7.
 8・・・同心円状溝、9,10・・・吸引孔、11.
12・・・縦溝、13・・・ウェハ、14・・・真空圧
導路。 vh i 日 5 2− III&4  図 ′@ 5 口

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 ■ 試料台1の表面に数条の同心円状溝2乃至8を穿設
    し、最小径ウェハ13を吸着する面積内の同心円状溝5
    乃至8内にはそれぞれ吸引孔9を設シ)、より大きい径
    のウェハ23乃至43を吸着する面積内の同心円状溝2
    乃至4の一つの溝には吸引孔10を設け、各回心円状溝
    2乃至4を縦溝11及び12で連結することにより、予
    め何等の作業、設定することなく試料台1にウェハを吸
    着できるようにしたことを特徴と子る半導体ウェハの吸
    着保持装置。 2 吸引孔9が、各間心円状溝5乃至8に複数個づつ形
    成されてなる実用新案登録請求の範囲第1項記載の半導
    体ウェハの吸着保持装置。 3 吸引孔10が、同心円状溝4内に1個所形成されて
    なる実用新案登録請求の範囲第1項または第2項記載の
    半導体ウェハの吸着保持装置。 4 縦溝」1及び12が、吸引孔10と同じ断面積に穿
    設されてなる実用新案登録請求の範囲第1、項乃至第3
    項のいずれかに記載の半導体ウェハの吸着保持装置。
JP6472882U 1982-04-30 1982-04-30 半導体ウエハの吸着保持装置 Granted JPS58168139U (ja)

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JP6472882U JPS58168139U (ja) 1982-04-30 1982-04-30 半導体ウエハの吸着保持装置

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JPS58168139U true JPS58168139U (ja) 1983-11-09
JPH0331082Y2 JPH0331082Y2 (ja) 1991-07-01

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ID=30074742

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JP (1) JPS58168139U (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1050810A (ja) * 1997-04-07 1998-02-20 Nikon Corp 基板の吸着装置及び露光装置
JP2016096294A (ja) * 2014-11-17 2016-05-26 株式会社ディスコ 吸着パッド

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1050810A (ja) * 1997-04-07 1998-02-20 Nikon Corp 基板の吸着装置及び露光装置
JP2016096294A (ja) * 2014-11-17 2016-05-26 株式会社ディスコ 吸着パッド

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