JPS58168139U - 半導体ウエハの吸着保持装置 - Google Patents
半導体ウエハの吸着保持装置Info
- Publication number
- JPS58168139U JPS58168139U JP6472882U JP6472882U JPS58168139U JP S58168139 U JPS58168139 U JP S58168139U JP 6472882 U JP6472882 U JP 6472882U JP 6472882 U JP6472882 U JP 6472882U JP S58168139 U JPS58168139 U JP S58168139U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- holding device
- semiconductor wafer
- grooves
- suction
- wafer suction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図はこの考案の一実施例を示す平面図、第2図乃至
第5図は第1図のA−A線断面図で、第2図は最小径の
ウェハを吸着する場合、第3図、第4図は最小径ウェハ
より若干大きいウェハを吸着する場合、第5図は最大径
ウェハを吸着する場合をそれぞれ示す。 1・・・試料台、2. 3. 4. 5. 6. 7.
8・・・同心円状溝、9,10・・・吸引孔、11.
12・・・縦溝、13・・・ウェハ、14・・・真空圧
導路。 vh i 日 5 2− III&4 図 ′@ 5 口
第5図は第1図のA−A線断面図で、第2図は最小径の
ウェハを吸着する場合、第3図、第4図は最小径ウェハ
より若干大きいウェハを吸着する場合、第5図は最大径
ウェハを吸着する場合をそれぞれ示す。 1・・・試料台、2. 3. 4. 5. 6. 7.
8・・・同心円状溝、9,10・・・吸引孔、11.
12・・・縦溝、13・・・ウェハ、14・・・真空圧
導路。 vh i 日 5 2− III&4 図 ′@ 5 口
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 ■ 試料台1の表面に数条の同心円状溝2乃至8を穿設
し、最小径ウェハ13を吸着する面積内の同心円状溝5
乃至8内にはそれぞれ吸引孔9を設シ)、より大きい径
のウェハ23乃至43を吸着する面積内の同心円状溝2
乃至4の一つの溝には吸引孔10を設け、各回心円状溝
2乃至4を縦溝11及び12で連結することにより、予
め何等の作業、設定することなく試料台1にウェハを吸
着できるようにしたことを特徴と子る半導体ウェハの吸
着保持装置。 2 吸引孔9が、各間心円状溝5乃至8に複数個づつ形
成されてなる実用新案登録請求の範囲第1項記載の半導
体ウェハの吸着保持装置。 3 吸引孔10が、同心円状溝4内に1個所形成されて
なる実用新案登録請求の範囲第1項または第2項記載の
半導体ウェハの吸着保持装置。 4 縦溝」1及び12が、吸引孔10と同じ断面積に穿
設されてなる実用新案登録請求の範囲第1、項乃至第3
項のいずれかに記載の半導体ウェハの吸着保持装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6472882U JPS58168139U (ja) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | 半導体ウエハの吸着保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6472882U JPS58168139U (ja) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | 半導体ウエハの吸着保持装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58168139U true JPS58168139U (ja) | 1983-11-09 |
JPH0331082Y2 JPH0331082Y2 (ja) | 1991-07-01 |
Family
ID=30074742
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6472882U Granted JPS58168139U (ja) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | 半導体ウエハの吸着保持装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58168139U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1050810A (ja) * | 1997-04-07 | 1998-02-20 | Nikon Corp | 基板の吸着装置及び露光装置 |
JP2016096294A (ja) * | 2014-11-17 | 2016-05-26 | 株式会社ディスコ | 吸着パッド |
-
1982
- 1982-04-30 JP JP6472882U patent/JPS58168139U/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1050810A (ja) * | 1997-04-07 | 1998-02-20 | Nikon Corp | 基板の吸着装置及び露光装置 |
JP2016096294A (ja) * | 2014-11-17 | 2016-05-26 | 株式会社ディスコ | 吸着パッド |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0331082Y2 (ja) | 1991-07-01 |
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