JPS58162053A - 半導体用基板材料 - Google Patents

半導体用基板材料

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JPS58162053A
JPS58162053A JP57046586A JP4658682A JPS58162053A JP S58162053 A JPS58162053 A JP S58162053A JP 57046586 A JP57046586 A JP 57046586A JP 4658682 A JP4658682 A JP 4658682A JP S58162053 A JPS58162053 A JP S58162053A
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JP
Japan
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tape
alloy
forming
thickness
semiconductor
Prior art date
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Pending
Application number
JP57046586A
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Inventor
Nobuo Ogasa
小笠 伸夫
Akira Otsuka
昭 大塚
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は熱放散性を向上り九薄肉小型の半導体回路基
板として用いる半導体用基板材NK関するものである。
従来、モノリシックICの基板としては、一般にFe−
Ni合金?Cu合金を用い、これを打抜き法またはエツ
チング法によっていわゆるリードフレームに形成した導
電リードが用いられている。
しかしなから、近年IC機能の向上に伴ない半導体部品
の熱放散性の向上や基板そのものの薄肉小型化Kllす
る豊水が益々増大しつつある。
またその一方てFi導電リードビンの数も増加する傾向
がある。
こうした状況下で現在最も広く用いられているDIP型
樹脂モールドICについて考察すると、使用しているモ
ールド用ml&の熱伝導率が低いこと中り〒ド7レーム
のグイバット部の8転ビンの断面積が小さいことがら熱
放散性を向上させることFi難かしい。また薄肉化につ
いては、モールド樹脂の耐透水性を維持する目的からし
て樹脂厚みをうすくすることが難しく、従って基板全体
を薄肉小型化することは困難である。
これらの点から熱伝導性良好でかつ耐透水性もよくて厚
みを薄くすることのできる檎−の開発も進められている
が、未だ十分な結果を有するものは得られていない。
またり一ドフレームの吊りビンを利用しての熱放散につ
いても各tjicu合金の開発が行われているのである
が、リードフレームとしての機械的強度が不足すること
や、半導体素子であるSiチップとの熱膨張係数の差が
大きく、大型チップの搭載ができないなどの制約が多い
というのが現状である。
またリードビンの多ビン化に対しては、現在の精密金型
打抜き技術ではリードフレームの板厚以下のリードビン
を形成するのけ困難であり、さらに機械的強度や上述の
熱放散の由などからリードフレーム板厚を薄くすること
に4h限界があり、従って多ビンリードフレームは基板
の大型化につながり、近年重要視されつつある高密度実
装の要求に逆行することKなるのである。
この発明は上述したようなこれまでの半導体基板として
の問題点を解決すべく鋭意検討の結果、見出されたもの
であって、薄肉小型化が可能で且つ多ビンリードフレー
ムへの対処が可能な半導体基板を形成するための半導体
基板材料を提供せんとするものである。
以下回向を参照しつつこの発明について説明する。
第1図はこの発明の半導体基板材料を示す平面図であり
、第2図#−i第1図A−A線の断面図である。
同図において、lは金属、合金または複合合金よ幻々る
テープ(平板状でもよい。)である。そして該テープ1
0表aiK電気絶縁性の被覆輪2を形成し、この一方の
被覆膜2上にプリント回路技術によって半導体素子8塔
教部にグイ、/ミツト4および電極リード部に導電回路
5を形成すると同時に1この導電回路5のアクタ−リー
ド部6に相当する部分の金員または合金テープを予めプ
リント基板への装着が容易なように櫛歯状に酸形したテ
ープを用いたものである。
上記したこの発明において、基板としての平板状または
テープ状の金属、合金1などの表IjK施す電気絶縁性
の被覆層2としてBN%A4N、 A40.、y、o、
、、SiC,,5ilN4などのセラミックを用いるの
は、電気絶縁体とともに絶縁膜が熱放散性を妨ける熱抵
抗体とならないように餡意したことと1、PVD沃(物
g!1.蒸11法)やCVD法(化学蒸着&)Kjりこ
の種薄膜の1栗的な製造が比較的容易に行えることのた
めである。そしてとの薄鉄の厚みを0.2〜5.0μm
と限定したのは、それ以下では絶縁膜としての機能が十
分でなく、また5、0μm以上では被覆コストが高価と
なるばかりでなく、成膜時のM歪などによって膜にマイ
クロクラックが生じたりするためである。
次Kjll電回路5としては、kl、 Cu、 Ni、
 Ag。
Au々どの金w4またはそれらの多層化したものを用い
、グイボンディングやりイヤーボンディング9などの方
法やプリント基板への装着方法を適宜選択して取付けれ
ばよい。
またこの発明では第1図に示しているように基板材料を
多連化して得ることも口」能である。
即ち、予めベースメタルとしての金属や合金のテープ状
または平板状成形時に位誼決め用ガイド六8を各フレー
ム連結部7に設けることにより、従来のIC組立工程に
そのまま適用することができるのである。
さらにこの発明では半導体素子8塔aSの反対向にモー
ルド用11脂を必要としないことから&板そのものの薄
肉化が可能であると同時に1クタ一リード部を櫛歯状と
することによって従来のような段差成分を必要としない
のでフラットバンク型の基板に過用するのに極めて有利
である。
このほか導電回路パターンは従来のリードフレームのパ
ターンに比べて微細化しうることから多ビンリードフレ
ームの小型化も川船である。これらのことがらQU I
 P Q基板やチップキャリア型基板材料としても・適
用すゐことができるのである。
以下実施例によりこの発明を詳細にF6L明する。
実施例 0.25箇厚さに圧延加工した42*Ni−Fe合金テ
ープをプレス打抜き加工して第1図に示すような形状の
多連リードフレームとし、該フレームの全1111vc
連続巻取型イオンブレーティングVtmにて1.0μm
の厚さA t!O,被覆WI4を形成せしめたのち、2
6ビンDIP型のパターンにスクリーン印IIl法を用
いてCu、 Auの二層の導電回路を形成した。
次いでこのDIP型のパターンの櫛歯状のアナターリー
ド邸分6を曲は加工して半導体基板材料を作製した。
その後該材料のグイバット部にStチップを塔載し、A
u線による熱比詣りイヤーボンディングを行い、ボッテ
ィング法により檎脂モールドを施こし、多連フレームの
連結部を切断することKよ抄、檎1−モールドQICを
作製することができるのである。
以上詳述のようKこの発明による半導体用基板材料を用
いることにより、Siチップ塔叡部の反対匈のモールド
樹脂を必要としないので薄肉かつ熱放散性良好な半導体
索子を容易に製造する仁とが多様化する半導体部品とし
ての機能を十分発揮することが可能となるのである。
【図面の簡単な説明】
図面はこの発明の半導体用基板材料を示すものであり、
第1図はその平面図、第2図は第1図A−A4iwiT
曲図である。 l・・・金網または合金テープ 2・・・電気絶縁性被
覆層 3・・・半導体索子 5・・・導電回路6・・・
アクタ−リード部 特許出願人   住友電気工業株式会社代理人 弁理士
和1)昭

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  表向に電気絶縁性の被覆層を有する平板状ま
    たはテープ状の金属または合金あるーは複合合金からな
    る回路基板の一方備の表向に、導11I囲路を形成し九
    三層以上の複合基板において、前記尋電園路の1クタ一
    リード部に相当する部分を予め榔歯伏KiE形したテー
    プとすることを特徴とする半導体用基板材料。
  2. (2)電気絶縁性の被覆層−fiBN、 Atk4. 
    A40a、Y、0.、SiC,Si、N、のtitえは
    2誼以上からナル0.2〜5.0μm厚さのセラミック
    被覆層であることt−特徴とする特許請求の範囲第1積
    記載の半導体用基板材料。
  3. (3)  電気絶縁性の被覆層がPVD法またはCVD
    決で形成されたセラミック被覆層であることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載の半導体用基板材料。
JP57046586A 1982-03-23 1982-03-23 半導体用基板材料 Pending JPS58162053A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63244658A (ja) * 1987-03-30 1988-10-12 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63244658A (ja) * 1987-03-30 1988-10-12 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置

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