JPS58162053A - 半導体用基板材料 - Google Patents
半導体用基板材料Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は熱放散性を向上り九薄肉小型の半導体回路基
板として用いる半導体用基板材NK関するものである。
板として用いる半導体用基板材NK関するものである。
従来、モノリシックICの基板としては、一般にFe−
Ni合金?Cu合金を用い、これを打抜き法またはエツ
チング法によっていわゆるリードフレームに形成した導
電リードが用いられている。
Ni合金?Cu合金を用い、これを打抜き法またはエツ
チング法によっていわゆるリードフレームに形成した導
電リードが用いられている。
しかしなから、近年IC機能の向上に伴ない半導体部品
の熱放散性の向上や基板そのものの薄肉小型化Kllす
る豊水が益々増大しつつある。
の熱放散性の向上や基板そのものの薄肉小型化Kllす
る豊水が益々増大しつつある。
またその一方てFi導電リードビンの数も増加する傾向
がある。
がある。
こうした状況下で現在最も広く用いられているDIP型
樹脂モールドICについて考察すると、使用しているモ
ールド用ml&の熱伝導率が低いこと中り〒ド7レーム
のグイバット部の8転ビンの断面積が小さいことがら熱
放散性を向上させることFi難かしい。また薄肉化につ
いては、モールド樹脂の耐透水性を維持する目的からし
て樹脂厚みをうすくすることが難しく、従って基板全体
を薄肉小型化することは困難である。
樹脂モールドICについて考察すると、使用しているモ
ールド用ml&の熱伝導率が低いこと中り〒ド7レーム
のグイバット部の8転ビンの断面積が小さいことがら熱
放散性を向上させることFi難かしい。また薄肉化につ
いては、モールド樹脂の耐透水性を維持する目的からし
て樹脂厚みをうすくすることが難しく、従って基板全体
を薄肉小型化することは困難である。
これらの点から熱伝導性良好でかつ耐透水性もよくて厚
みを薄くすることのできる檎−の開発も進められている
が、未だ十分な結果を有するものは得られていない。
みを薄くすることのできる檎−の開発も進められている
が、未だ十分な結果を有するものは得られていない。
またり一ドフレームの吊りビンを利用しての熱放散につ
いても各tjicu合金の開発が行われているのである
が、リードフレームとしての機械的強度が不足すること
や、半導体素子であるSiチップとの熱膨張係数の差が
大きく、大型チップの搭載ができないなどの制約が多い
というのが現状である。
いても各tjicu合金の開発が行われているのである
が、リードフレームとしての機械的強度が不足すること
や、半導体素子であるSiチップとの熱膨張係数の差が
大きく、大型チップの搭載ができないなどの制約が多い
というのが現状である。
またリードビンの多ビン化に対しては、現在の精密金型
打抜き技術ではリードフレームの板厚以下のリードビン
を形成するのけ困難であり、さらに機械的強度や上述の
熱放散の由などからリードフレーム板厚を薄くすること
に4h限界があり、従って多ビンリードフレームは基板
の大型化につながり、近年重要視されつつある高密度実
装の要求に逆行することKなるのである。
打抜き技術ではリードフレームの板厚以下のリードビン
を形成するのけ困難であり、さらに機械的強度や上述の
熱放散の由などからリードフレーム板厚を薄くすること
に4h限界があり、従って多ビンリードフレームは基板
の大型化につながり、近年重要視されつつある高密度実
装の要求に逆行することKなるのである。
この発明は上述したようなこれまでの半導体基板として
の問題点を解決すべく鋭意検討の結果、見出されたもの
であって、薄肉小型化が可能で且つ多ビンリードフレー
ムへの対処が可能な半導体基板を形成するための半導体
基板材料を提供せんとするものである。
の問題点を解決すべく鋭意検討の結果、見出されたもの
であって、薄肉小型化が可能で且つ多ビンリードフレー
ムへの対処が可能な半導体基板を形成するための半導体
基板材料を提供せんとするものである。
以下回向を参照しつつこの発明について説明する。
第1図はこの発明の半導体基板材料を示す平面図であり
、第2図#−i第1図A−A線の断面図である。
、第2図#−i第1図A−A線の断面図である。
同図において、lは金属、合金または複合合金よ幻々る
テープ(平板状でもよい。)である。そして該テープ1
0表aiK電気絶縁性の被覆輪2を形成し、この一方の
被覆膜2上にプリント回路技術によって半導体素子8塔
教部にグイ、/ミツト4および電極リード部に導電回路
5を形成すると同時に1この導電回路5のアクタ−リー
ド部6に相当する部分の金員または合金テープを予めプ
リント基板への装着が容易なように櫛歯状に酸形したテ
ープを用いたものである。
テープ(平板状でもよい。)である。そして該テープ1
0表aiK電気絶縁性の被覆輪2を形成し、この一方の
被覆膜2上にプリント回路技術によって半導体素子8塔
教部にグイ、/ミツト4および電極リード部に導電回路
5を形成すると同時に1この導電回路5のアクタ−リー
ド部6に相当する部分の金員または合金テープを予めプ
リント基板への装着が容易なように櫛歯状に酸形したテ
ープを用いたものである。
上記したこの発明において、基板としての平板状または
テープ状の金属、合金1などの表IjK施す電気絶縁性
の被覆層2としてBN%A4N、 A40.、y、o、
、、SiC,,5ilN4などのセラミックを用いるの
は、電気絶縁体とともに絶縁膜が熱放散性を妨ける熱抵
抗体とならないように餡意したことと1、PVD沃(物
g!1.蒸11法)やCVD法(化学蒸着&)Kjりこ
の種薄膜の1栗的な製造が比較的容易に行えることのた
めである。そしてとの薄鉄の厚みを0.2〜5.0μm
と限定したのは、それ以下では絶縁膜としての機能が十
分でなく、また5、0μm以上では被覆コストが高価と
なるばかりでなく、成膜時のM歪などによって膜にマイ
クロクラックが生じたりするためである。
テープ状の金属、合金1などの表IjK施す電気絶縁性
の被覆層2としてBN%A4N、 A40.、y、o、
、、SiC,,5ilN4などのセラミックを用いるの
は、電気絶縁体とともに絶縁膜が熱放散性を妨ける熱抵
抗体とならないように餡意したことと1、PVD沃(物
g!1.蒸11法)やCVD法(化学蒸着&)Kjりこ
の種薄膜の1栗的な製造が比較的容易に行えることのた
めである。そしてとの薄鉄の厚みを0.2〜5.0μm
と限定したのは、それ以下では絶縁膜としての機能が十
分でなく、また5、0μm以上では被覆コストが高価と
なるばかりでなく、成膜時のM歪などによって膜にマイ
クロクラックが生じたりするためである。
次Kjll電回路5としては、kl、 Cu、 Ni、
Ag。
Ag。
Au々どの金w4またはそれらの多層化したものを用い
、グイボンディングやりイヤーボンディング9などの方
法やプリント基板への装着方法を適宜選択して取付けれ
ばよい。
、グイボンディングやりイヤーボンディング9などの方
法やプリント基板への装着方法を適宜選択して取付けれ
ばよい。
またこの発明では第1図に示しているように基板材料を
多連化して得ることも口」能である。
多連化して得ることも口」能である。
即ち、予めベースメタルとしての金属や合金のテープ状
または平板状成形時に位誼決め用ガイド六8を各フレー
ム連結部7に設けることにより、従来のIC組立工程に
そのまま適用することができるのである。
または平板状成形時に位誼決め用ガイド六8を各フレー
ム連結部7に設けることにより、従来のIC組立工程に
そのまま適用することができるのである。
さらにこの発明では半導体素子8塔aSの反対向にモー
ルド用11脂を必要としないことから&板そのものの薄
肉化が可能であると同時に1クタ一リード部を櫛歯状と
することによって従来のような段差成分を必要としない
のでフラットバンク型の基板に過用するのに極めて有利
である。
ルド用11脂を必要としないことから&板そのものの薄
肉化が可能であると同時に1クタ一リード部を櫛歯状と
することによって従来のような段差成分を必要としない
のでフラットバンク型の基板に過用するのに極めて有利
である。
このほか導電回路パターンは従来のリードフレームのパ
ターンに比べて微細化しうることから多ビンリードフレ
ームの小型化も川船である。これらのことがらQU I
P Q基板やチップキャリア型基板材料としても・適
用すゐことができるのである。
ターンに比べて微細化しうることから多ビンリードフレ
ームの小型化も川船である。これらのことがらQU I
P Q基板やチップキャリア型基板材料としても・適
用すゐことができるのである。
以下実施例によりこの発明を詳細にF6L明する。
実施例
0.25箇厚さに圧延加工した42*Ni−Fe合金テ
ープをプレス打抜き加工して第1図に示すような形状の
多連リードフレームとし、該フレームの全1111vc
連続巻取型イオンブレーティングVtmにて1.0μm
の厚さA t!O,被覆WI4を形成せしめたのち、2
6ビンDIP型のパターンにスクリーン印IIl法を用
いてCu、 Auの二層の導電回路を形成した。
ープをプレス打抜き加工して第1図に示すような形状の
多連リードフレームとし、該フレームの全1111vc
連続巻取型イオンブレーティングVtmにて1.0μm
の厚さA t!O,被覆WI4を形成せしめたのち、2
6ビンDIP型のパターンにスクリーン印IIl法を用
いてCu、 Auの二層の導電回路を形成した。
次いでこのDIP型のパターンの櫛歯状のアナターリー
ド邸分6を曲は加工して半導体基板材料を作製した。
ド邸分6を曲は加工して半導体基板材料を作製した。
その後該材料のグイバット部にStチップを塔載し、A
u線による熱比詣りイヤーボンディングを行い、ボッテ
ィング法により檎脂モールドを施こし、多連フレームの
連結部を切断することKよ抄、檎1−モールドQICを
作製することができるのである。
u線による熱比詣りイヤーボンディングを行い、ボッテ
ィング法により檎脂モールドを施こし、多連フレームの
連結部を切断することKよ抄、檎1−モールドQICを
作製することができるのである。
以上詳述のようKこの発明による半導体用基板材料を用
いることにより、Siチップ塔叡部の反対匈のモールド
樹脂を必要としないので薄肉かつ熱放散性良好な半導体
索子を容易に製造する仁とが多様化する半導体部品とし
ての機能を十分発揮することが可能となるのである。
いることにより、Siチップ塔叡部の反対匈のモールド
樹脂を必要としないので薄肉かつ熱放散性良好な半導体
索子を容易に製造する仁とが多様化する半導体部品とし
ての機能を十分発揮することが可能となるのである。
図面はこの発明の半導体用基板材料を示すものであり、
第1図はその平面図、第2図は第1図A−A4iwiT
曲図である。 l・・・金網または合金テープ 2・・・電気絶縁性被
覆層 3・・・半導体索子 5・・・導電回路6・・・
アクタ−リード部 特許出願人 住友電気工業株式会社代理人 弁理士
和1)昭
第1図はその平面図、第2図は第1図A−A4iwiT
曲図である。 l・・・金網または合金テープ 2・・・電気絶縁性被
覆層 3・・・半導体索子 5・・・導電回路6・・・
アクタ−リード部 特許出願人 住友電気工業株式会社代理人 弁理士
和1)昭
Claims (3)
- (1) 表向に電気絶縁性の被覆層を有する平板状ま
たはテープ状の金属または合金あるーは複合合金からな
る回路基板の一方備の表向に、導11I囲路を形成し九
三層以上の複合基板において、前記尋電園路の1クタ一
リード部に相当する部分を予め榔歯伏KiE形したテー
プとすることを特徴とする半導体用基板材料。 - (2)電気絶縁性の被覆層−fiBN、 Atk4.
A40a、Y、0.、SiC,Si、N、のtitえは
2誼以上からナル0.2〜5.0μm厚さのセラミック
被覆層であることt−特徴とする特許請求の範囲第1積
記載の半導体用基板材料。 - (3) 電気絶縁性の被覆層がPVD法またはCVD
決で形成されたセラミック被覆層であることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の半導体用基板材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57046586A JPS58162053A (ja) | 1982-03-23 | 1982-03-23 | 半導体用基板材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57046586A JPS58162053A (ja) | 1982-03-23 | 1982-03-23 | 半導体用基板材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58162053A true JPS58162053A (ja) | 1983-09-26 |
Family
ID=12751398
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57046586A Pending JPS58162053A (ja) | 1982-03-23 | 1982-03-23 | 半導体用基板材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58162053A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63244658A (ja) * | 1987-03-30 | 1988-10-12 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
-
1982
- 1982-03-23 JP JP57046586A patent/JPS58162053A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63244658A (ja) * | 1987-03-30 | 1988-10-12 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
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