JPS5816075A - ステンレススチ−ル用電解剥離液 - Google Patents
ステンレススチ−ル用電解剥離液Info
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- JPS5816075A JPS5816075A JP11430281A JP11430281A JPS5816075A JP S5816075 A JPS5816075 A JP S5816075A JP 11430281 A JP11430281 A JP 11430281A JP 11430281 A JP11430281 A JP 11430281A JP S5816075 A JPS5816075 A JP S5816075A
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- stainless steel
- electrolytic
- electrolytic stripping
- stripping
- salts
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属の電解剥離液、特にステンレススチール上
の銅、ニッケル、り四ム、！鉛等の金属管素材（ステン
レススチール）を侵蝕することなく溶解、剥離させるこ
とができゐ電解剥離１［Ｋ関する。
の銅、ニッケル、り四ム、！鉛等の金属管素材（ステン
レススチール）を侵蝕することなく溶解、剥離させるこ
とができゐ電解剥離１［Ｋ関する。
従来、ステンレススチール表面に電着した鋼、ニッケル
、りμム勢の金属を電解によって溶解、ｇ４１１さ破る
電解剥離液としては、種膚のものが知られて−る（特公
昭５２−１６６９４号、同５２−２１１１７４号、特開
昭５１−２００３２号、同５４−２６２４２号、同５６
−６２９９９号、’ｌ’ｍｎ５ａｃｔｉｏｎｓｏｆ ｔ
ｈｅ １ｎｓｔｉｔｕｔｅ ｏｆ Ｍｅｔａｌ Ｆｉｎ
ｉｓｈｌｎｇ、 １９７Ｂ 、 Ｖｏｌ ５３゜Ｐ １
８４−１８７ ）。
、りμム勢の金属を電解によって溶解、ｇ４１１さ破る
電解剥離液としては、種膚のものが知られて−る（特公
昭５２−１６６９４号、同５２−２１１１７４号、特開
昭５１−２００３２号、同５４−２６２４２号、同５６
−６２９９９号、’ｌ’ｍｎ５ａｃｔｉｏｎｓｏｆ ｔ
ｈｅ １ｎｓｔｉｔｕｔｅ ｏｆ Ｍｅｔａｌ Ｆｉｎ
ｉｓｈｌｎｇ、 １９７Ｂ 、 Ｖｏｌ ５３゜Ｐ １
８４−１８７ ）。
これらの剥離液は、−ずれも硝酸イオン、過塩素酸イオ
ン、或−は過酸化水素等の酸化剤が添加されて−るもの
で、これら酸化剛線ステンレススチールを不動態化し、
その侵蝕を防止するものであって酸化剤の使用社電解剥
離液の必須成分と考えられていた〇 しかし、これらの酸化剤、特に過塩素酸イオンを含む電
解剥離液は１本発明者らの検討の結果ではかなり効果の
あるものであったが、過塩素−社取扱い及び使用に際し
非常に危険を伴うものであるため、その使用を避けるこ
とが望まれて−え◎また、実際に市販されて−る電解剥
離ｉｌ韓、ＤＡ ４０Ａ／ｄ＋／以上の高電流密度で作
業したり、液が老化してくると、ステンレススチールを
かなり溶解、侵蝕させる場合があり、更に液が老化する
と槽内に沈殿が多くなる場合もあって、これらの解決−
ａｔすれていた。
ン、或−は過酸化水素等の酸化剤が添加されて−るもの
で、これら酸化剛線ステンレススチールを不動態化し、
その侵蝕を防止するものであって酸化剤の使用社電解剥
離液の必須成分と考えられていた〇 しかし、これらの酸化剤、特に過塩素酸イオンを含む電
解剥離液は１本発明者らの検討の結果ではかなり効果の
あるものであったが、過塩素−社取扱い及び使用に際し
非常に危険を伴うものであるため、その使用を避けるこ
とが望まれて−え◎また、実際に市販されて−る電解剥
離ｉｌ韓、ＤＡ ４０Ａ／ｄ＋／以上の高電流密度で作
業したり、液が老化してくると、ステンレススチールを
かなり溶解、侵蝕させる場合があり、更に液が老化する
と槽内に沈殿が多くなる場合もあって、これらの解決−
ａｔすれていた。
本発明者ら社上記事情に鑑み、過塩素酸イオンを含まず
、しかも従来の電解剥離液と同等以上の効果を有する電
解剥離液につき鋭意研究を行なった結果、ハロゲンイオ
ンを０．０１〜１モル／ｌ。
、しかも従来の電解剥離液と同等以上の効果を有する電
解剥離液につき鋭意研究を行なった結果、ハロゲンイオ
ンを０．０１〜１モル／ｌ。
非酸化性の窒素含有化合物を０．０５５モル／以上。
及びカルがンー化合物を１モル／！以上含み、かつ−が
６〜８の範１！にあるものを使用すると、過塩素酸イオ
ンを含まないｋもかかわらず、また硝酸イオンや過酸化
物の如き従来必須成分と考えられていた酸化剤を必ずし
も添加しなくと４、意外にもステンレススチールを殆ん
ど侵蝕することがなく、ステンレススチール上の銅、ニ
ッケル、クロム、コバルト、亜鉛等の金属のみを良好に
溶解、剥離し得ることを知見した。更に、上記の電解剥
離液は、高電流密度で電解を行なってもステンレススチ
ールの溶解、侵蝕が殆んどなく、このため高電流密度で
の作業が可能で、めっき用ラックのステンレススチール
製枝骨先端ＩＩＫ析出した金属の電解剥離等の作業を短
時間で非常に能率よく行ない得ると共に、液が老化して
もステンレススチールを殆んど溶解、侵蝕することがな
く、かつ液中の金属イオンは陰極に電析して槽内に沈殿
物が生じることが少なく、従って上記電解剥離液は液管
理、廃液処理等の点でも有利であることを知見し、本発
明をなすに至ったものである。
６〜８の範１！にあるものを使用すると、過塩素酸イオ
ンを含まないｋもかかわらず、また硝酸イオンや過酸化
物の如き従来必須成分と考えられていた酸化剤を必ずし
も添加しなくと４、意外にもステンレススチールを殆ん
ど侵蝕することがなく、ステンレススチール上の銅、ニ
ッケル、クロム、コバルト、亜鉛等の金属のみを良好に
溶解、剥離し得ることを知見した。更に、上記の電解剥
離液は、高電流密度で電解を行なってもステンレススチ
ールの溶解、侵蝕が殆んどなく、このため高電流密度で
の作業が可能で、めっき用ラックのステンレススチール
製枝骨先端ＩＩＫ析出した金属の電解剥離等の作業を短
時間で非常に能率よく行ない得ると共に、液が老化して
もステンレススチールを殆んど溶解、侵蝕することがな
く、かつ液中の金属イオンは陰極に電析して槽内に沈殿
物が生じることが少なく、従って上記電解剥離液は液管
理、廃液処理等の点でも有利であることを知見し、本発
明をなすに至ったものである。
以下１本発明につき詳しく説明する。
本発明に係る電解剥離液ｒ１％ハロゲンイオン０．０１
〜１モルフｔ、非酸化性の窒素含有化合物０．０５モル
／Ｌ以上、カルがン酸化合物１モル／を以上を含有し、
ｐＨが６〜８の範囲にあるものである。
〜１モルフｔ、非酸化性の窒素含有化合物０．０５モル
／Ｌ以上、カルがン酸化合物１モル／を以上を含有し、
ｐＨが６〜８の範囲にあるものである。
この場合、ハロ、ｆ、ａｙイオン源としては、ＮａＣＡ
、ＮａＢｒ。
、ＮａＢｒ。
ＮａＩ 、 Ｎａｌ’ 、 ｘｇｚ 、 ＫＢｒ 、
ＫＩ 、 ＫＦ 、 Ｍ（４ＣＬ 、 Ｎｋｌａ Ｂｒ
＃ＮＨ４Ｉ 、 ＮＨ４Ｆ 、 ＣｕＣ４、ＮｉＣ４
等の１種又は２種以上が使用し得る。その含有量は上述
したように０．０１〜１モル／ｌであ！！）、０．０１
モル／ｌよりも少ないと銅、ニッケル等の金属の溶解速
度が遅く、また１モル／Ｌより多いと素材、特にステン
レススチールの溶解が多くな夛１本発明の目的が達成さ
れない。好ましくは、ハロゲンイオンの含有量は０．０
５〜Ｏ６Ｓモルである。
ＫＩ 、 ＫＦ 、 Ｍ（４ＣＬ 、 Ｎｋｌａ Ｂｒ
＃ＮＨ４Ｉ 、 ＮＨ４Ｆ 、 ＣｕＣ４、ＮｉＣ４
等の１種又は２種以上が使用し得る。その含有量は上述
したように０．０１〜１モル／ｌであ！！）、０．０１
モル／ｌよりも少ないと銅、ニッケル等の金属の溶解速
度が遅く、また１モル／Ｌより多いと素材、特にステン
レススチールの溶解が多くな夛１本発明の目的が達成さ
れない。好ましくは、ハロゲンイオンの含有量は０．０
５〜Ｏ６Ｓモルである。
また、非酸化性の窒素含有化合物としては、従来よシミ
屏剥離液の成分として知られているア建ン、アイノ酸、
その他の非酸化性窒素含有化合物のいずれのもＯｔ％使
用でき、具体的には尿素、エチレンジアミン、抱水ヒド
ラジｙ、ピリジン、トリエタノ−ルアξン、グリシン、
キノリン、４ンゾトリアゾール、ニトリロ三酢酸、トル
イジン、スルファニル駿等が例示できる。なお、これら
窒素含有化合物はその１糧食単独で用いても２種以上を
併用するようにしてもよい、なおまた、仁こで「非酸化
性」とは、電解剥離液において酸化剤とならないという
ことで、具体的には硝酸類、ニド四化合物を含まない意
味で使用される。
屏剥離液の成分として知られているア建ン、アイノ酸、
その他の非酸化性窒素含有化合物のいずれのもＯｔ％使
用でき、具体的には尿素、エチレンジアミン、抱水ヒド
ラジｙ、ピリジン、トリエタノ−ルアξン、グリシン、
キノリン、４ンゾトリアゾール、ニトリロ三酢酸、トル
イジン、スルファニル駿等が例示できる。なお、これら
窒素含有化合物はその１糧食単独で用いても２種以上を
併用するようにしてもよい、なおまた、仁こで「非酸化
性」とは、電解剥離液において酸化剤とならないという
ことで、具体的には硝酸類、ニド四化合物を含まない意
味で使用される。
非酸化性窒素含有化合物の使用量は０．０５モル／を以
上で′Ｉり夛、その使用量が０．０５モル／Ｌより少な
いと素材、＠にステンレススチールの侵錬抑制効果が悪
く、好ましくな−。その上限は特に限定亭れないが、コ
スト面から２モル／ｌ以下とする・ことが好ましい。な
お、非酸化性窒素含有化合物の好適な使用量範囲Ｉｆｉ
０．２〜２モル／ｊである。
上で′Ｉり夛、その使用量が０．０５モル／Ｌより少な
いと素材、＠にステンレススチールの侵錬抑制効果が悪
く、好ましくな−。その上限は特に限定亭れないが、コ
スト面から２モル／ｌ以下とする・ことが好ましい。な
お、非酸化性窒素含有化合物の好適な使用量範囲Ｉｆｉ
０．２〜２モル／ｊである。
更に、カルがン酸化合物吃、従来から電解１ｌｌＩ液の
成分として知られている脂肪族低級カルがン醸類、オキ
シカルダンＷＩ類等のものが使用できるが、特忙ギ酸、
酢酸などやこれらのナトリウム塩、カリウム塩、アンモ
ニウム塩等の脂肪族低級カル♂ン畿及びその塩が好適に
用いられる。なお、脂肪族低級カルデン酸類を使用する
場合、必要によリオキシカルゲン酸類を併用することが
できる〇これらカルがン醗化合物の使用量は１モル／ｊ
以上で、これより使用量が少ないと通電性が悪くなる。
成分として知られている脂肪族低級カルがン醸類、オキ
シカルダンＷＩ類等のものが使用できるが、特忙ギ酸、
酢酸などやこれらのナトリウム塩、カリウム塩、アンモ
ニウム塩等の脂肪族低級カル♂ン畿及びその塩が好適に
用いられる。なお、脂肪族低級カルデン酸類を使用する
場合、必要によリオキシカルゲン酸類を併用することが
できる〇これらカルがン醗化合物の使用量は１モル／ｊ
以上で、これより使用量が少ないと通電性が悪くなる。
その上限は経済性の面より１０モル／ｌ撰渾であること
が好ましい。
が好ましい。
本発明の電解剥離液は、−が６〜８の範ＩＫあるもので
あり、特に７〜７．７の範囲に維持されるように一調整
を行なうことが好まし一〇この場合、−調整は塩酸、カ
ルビン■、苛性アルカリ、アミン、カルーン酸塩等によ
ることができるが、−を下げる場合はギ酸、酢酸等の脂
肪族低級カルボン酸、−を上ける場合はアンモニア水を
用いることが好まし−。
あり、特に７〜７．７の範囲に維持されるように一調整
を行なうことが好まし一〇この場合、−調整は塩酸、カ
ルビン■、苛性アルカリ、アミン、カルーン酸塩等によ
ることができるが、−を下げる場合はギ酸、酢酸等の脂
肪族低級カルボン酸、−を上ける場合はアンモニア水を
用いることが好まし−。
本発明に係る電解剥離液は、特にステンレススチール上
の鋼、ニッケル、りｐム、コバルト、亜鉛等の金属の溶
解、剥離除去に好適に使用でき１、酸化剤を含まなくと
もステンレススチールを殆んど溶解、侵蝕することなく
ステンレススチール上の金属を除去できる。従って、め
っき用ラックの枝骨先端に析出した金属の除去などの用
途に効果的である。この場合、本発明電解員離液の作業
温度は特に制限されず、加温しても差支えないが室温に
おいても十分使用し得、温度の管理幅が広いので、加熱
冷却等の付帯設備を必ずしも必要としない。更Ｋｍの撹
拌４必ずしも必要としな一〇また、陽極電流密度（Ｄ
Ａ）は通常ｌＯ〜１００Ａ／ｄｗｌであシ、本発明にお
いてａ４０Ａ／ｄゼ以上、特に８０Ａ／ｄぜ程度の高電
流密度で電解できるので、剥離時間を短縮することがで
き、非常に能率的である。この点につき更に詳述すると
、市販のあ゛る種の電解剥離液状せいぜ−ＤＡ４ＯＡ／
ｄｊ程度までしか採用し得す、また後述するように過塩
素酸を含む電解剥離液中ＤＡ８０Ａ／ｄ＠Ｉでステンレ
ススチールがかなりの程度溶解し、これに対し鋼の溶解
の少ないものであったが、本発明電解剥離液はＤＡ８０
Ａ／ｄ−でも良好に使用し得るものである。
の鋼、ニッケル、りｐム、コバルト、亜鉛等の金属の溶
解、剥離除去に好適に使用でき１、酸化剤を含まなくと
もステンレススチールを殆んど溶解、侵蝕することなく
ステンレススチール上の金属を除去できる。従って、め
っき用ラックの枝骨先端に析出した金属の除去などの用
途に効果的である。この場合、本発明電解員離液の作業
温度は特に制限されず、加温しても差支えないが室温に
おいても十分使用し得、温度の管理幅が広いので、加熱
冷却等の付帯設備を必ずしも必要としない。更Ｋｍの撹
拌４必ずしも必要としな一〇また、陽極電流密度（Ｄ
Ａ）は通常ｌＯ〜１００Ａ／ｄｗｌであシ、本発明にお
いてａ４０Ａ／ｄゼ以上、特に８０Ａ／ｄぜ程度の高電
流密度で電解できるので、剥離時間を短縮することがで
き、非常に能率的である。この点につき更に詳述すると
、市販のあ゛る種の電解剥離液状せいぜ−ＤＡ４ＯＡ／
ｄｊ程度までしか採用し得す、また後述するように過塩
素酸を含む電解剥離液中ＤＡ８０Ａ／ｄ＠Ｉでステンレ
ススチールがかなりの程度溶解し、これに対し鋼の溶解
の少ないものであったが、本発明電解剥離液はＤＡ８０
Ａ／ｄ−でも良好に使用し得るものである。
また、本発明の電解剥離液は、液中の金属イオンが陰極
に析出して液中に沈殿を多く生成させず、また金属イオ
ンが増加してきても素材が溶解、侵蝕されないので、非
常に管理し易く、また廃液処理の点からも有利である。
に析出して液中に沈殿を多く生成させず、また金属イオ
ンが増加してきても素材が溶解、侵蝕されないので、非
常に管理し易く、また廃液処理の点からも有利である。
以下、実施例と比較例を示し、本発明を更に具体的説明
する。
する。
〔実施例１、比較例〕
下記組成の電解剥離液を作成した。
実施例１ 比較例
過塩素酸 ６７１／１塩化アン
モニウム ５１／Ｉ ５＃尿素
４０ ＃ ４０ ＃ギ酸
１００ ＃ Ｚｏｏ １１次に１テストピー
ス（素材）として１０Ｘ５０Ｘ１■の圧延＃ｊ！板と電
解ニッケル板及び直径３諺、長さ５０ｍの８ＵＳ３０４
のステンレススチール棒とを用い、銅［又ａニッケル板
とステンレススチール棒とを並列に接続し、これらを陽
極とし、また５ＵＢ３０４のステンレススチール板を陰
極として上記電解剥離液中で下記条件において電解を行
ない、鋼板、ニッケル板、ステンレススチール棒の溶解
性を調べた。結果を第１表に示す。
モニウム ５１／Ｉ ５＃尿素
４０ ＃ ４０ ＃ギ酸
１００ ＃ Ｚｏｏ １１次に１テストピー
ス（素材）として１０Ｘ５０Ｘ１■の圧延＃ｊ！板と電
解ニッケル板及び直径３諺、長さ５０ｍの８ＵＳ３０４
のステンレススチール棒とを用い、銅［又ａニッケル板
とステンレススチール棒とを並列に接続し、これらを陽
極とし、また５ＵＢ３０４のステンレススチール板を陰
極として上記電解剥離液中で下記条件において電解を行
ない、鋼板、ニッケル板、ステンレススチール棒の溶解
性を調べた。結果を第１表に示す。
電解条件
温度 ２０’Ｃ（水浴にて定温に保持）撹拌
なし 極間距離 ２ａｍ 槽 ５００−アクリル檜 陽極電流密度 表に示す通り 電解時間 ２０分 第１表の結果よシ、本発明電解剥離被検、過塩素酸を含
まなくともステンレススチールを殆んど溶解させず、銅
、ニッケルを優先的に溶解すること、また特に、鋼とス
テンレススチールを高電流密度（８０Ａ／ｄｍ”）で電
解した場合、過塩素−を含も比較例の剥離液は銅の溶解
量が少なくてステンレススチールをかなり溶解させるも
のであった（−４）が、過塩素−を含まない本発明１ｌ
ｌＩｌ液はステンレススチールを殆んｒ溶解させること
なく銅を溶解させるものであり（Ｆ＆Ｌ８）、従って本
発明剥離液は高電流密度でも良好に使用し得て作業範囲
も広く、電解剥離液として優れた特性を有していること
が知見された。
なし 極間距離 ２ａｍ 槽 ５００−アクリル檜 陽極電流密度 表に示す通り 電解時間 ２０分 第１表の結果よシ、本発明電解剥離被検、過塩素酸を含
まなくともステンレススチールを殆んど溶解させず、銅
、ニッケルを優先的に溶解すること、また特に、鋼とス
テンレススチールを高電流密度（８０Ａ／ｄｍ”）で電
解した場合、過塩素−を含も比較例の剥離液は銅の溶解
量が少なくてステンレススチールをかなり溶解させるも
のであった（−４）が、過塩素−を含まない本発明１ｌ
ｌＩｌ液はステンレススチールを殆んｒ溶解させること
なく銅を溶解させるものであり（Ｆ＆Ｌ８）、従って本
発明剥離液は高電流密度でも良好に使用し得て作業範囲
も広く、電解剥離液として優れた特性を有していること
が知見された。
〔実施例２〕
実施例１と同じ電解剥離液を使用し、この剥離液中に鋼
イオンが増加した状態において実施例と同様の電解試験
を行なった。但し、電解時間はい１山 ずれも２０分間とした。結果を第２表に示す。
イオンが増加した状態において実施例と同様の電解試験
を行なった。但し、電解時間はい１山 ずれも２０分間とした。結果を第２表に示す。
第 ２ 表
７．２
４．３
０ 纜
１１２表の結果から明らかなように、市販の電解剥離Ｗ
が老化するとステンレススチールの溶解が多くなる場合
があるが、本発明電解剥離液検液が老化しても（金属イ
オンが増加しても）ステンレススチールを港解さ破るこ
となく銅のみを優先的ＫＩＮ鱗さ破ることが知見された
。
が老化するとステンレススチールの溶解が多くなる場合
があるが、本発明電解剥離液検液が老化しても（金属イ
オンが増加しても）ステンレススチールを港解さ破るこ
となく銅のみを優先的ＫＩＮ鱗さ破ることが知見された
。
また、上記の実験から、剥離液中に金属イオン（この場
合社鋼イオン）が増加した場合、市販の電解剥離液で祉
槽内に沈殿物が多≦なる場合があるが、本発明剥離液で
検液中の金属イオン社対極（陰極）に電析し、槽内には
沈殿すると七が少な−ｉ なお、塩化アンモニウムの
代りに塩化ナトリウ；ムを用いたもの、尿素の代りにエ
チレンジアミン、□抱水ヒドラジン、ピリジン、トリエ
タノ−ルアミーン、グリシン、キノリン、ベンゾトリア
ゾール１出 願 人 上村工業株式会社 代理人弁理士 小 島 隆 司代理人弁理士
高 畑 端 世
合社鋼イオン）が増加した場合、市販の電解剥離液で祉
槽内に沈殿物が多≦なる場合があるが、本発明剥離液で
検液中の金属イオン社対極（陰極）に電析し、槽内には
沈殿すると七が少な−ｉ なお、塩化アンモニウムの
代りに塩化ナトリウ；ムを用いたもの、尿素の代りにエ
チレンジアミン、□抱水ヒドラジン、ピリジン、トリエ
タノ−ルアミーン、グリシン、キノリン、ベンゾトリア
ゾール１出 願 人 上村工業株式会社 代理人弁理士 小 島 隆 司代理人弁理士
高 畑 端 世
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 ／％ Ｉｔ ４１’ フイオｙｏ、（Ｈ〜ｘ＊
ｍ／Ｉｓ非酸化性の窒素含有化合物Ｑ 、ＯＳ ！ Ａ
Ｉ／）以上、及びカルｍｙ酸化会物１モル／ノ以上を含
有し、ｐＨが６〜８であゐことを特徴とすゐ金属の電解
剥離液。 ２ カルーン駿化合物が脂肪族低級力Ｊｋ−ン駿又はそ
の塩である特許請求の範Ｓ第１項記載の電解剥離液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11430281A JPS5816075A (ja) | 1981-07-21 | 1981-07-21 | ステンレススチ−ル用電解剥離液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11430281A JPS5816075A (ja) | 1981-07-21 | 1981-07-21 | ステンレススチ−ル用電解剥離液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5816075A true JPS5816075A (ja) | 1983-01-29 |
| JPS636640B2 JPS636640B2 (ja) | 1988-02-10 |
Family
ID=14634461
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11430281A Granted JPS5816075A (ja) | 1981-07-21 | 1981-07-21 | ステンレススチ−ル用電解剥離液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5816075A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6245885A (ja) * | 1985-08-21 | 1987-02-27 | 立川ブラインド工業株式会社 | ブラインド組立装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02140726U (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-26 | ||
| JPH02140725U (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-26 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS502859A (ja) * | 1973-05-09 | 1975-01-13 | ||
| JPS5479131A (en) * | 1977-12-07 | 1979-06-23 | Okuno Chem Ind Co | Electrolytic bath for removing electrodeposited metal on stainless steel substrate |
-
1981
- 1981-07-21 JP JP11430281A patent/JPS5816075A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS502859A (ja) * | 1973-05-09 | 1975-01-13 | ||
| JPS5479131A (en) * | 1977-12-07 | 1979-06-23 | Okuno Chem Ind Co | Electrolytic bath for removing electrodeposited metal on stainless steel substrate |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6245885A (ja) * | 1985-08-21 | 1987-02-27 | 立川ブラインド工業株式会社 | ブラインド組立装置 |
| JPH0372797B2 (ja) * | 1985-08-21 | 1991-11-19 | Tachikawa Blind Mfg |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS636640B2 (ja) | 1988-02-10 |
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