JPS58160132A - 回転式処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、処理装置に関しており、さらに正確には、グ
ラスチックおよび重合体材料の処理に特に適している多
段式回転も理装置に関連している。

各種の回転式処理装置が当業者に知られている。

これら処理装置の詳細は、米＠特許 ＩＩ≠、ｌ弘λ、ｇｏｓ号、第弘、ｉｔ弘、を弘１号。

第≠、２０７　、００４４号、第≠−２／　３　ｅ　７
０９号。

ｒｓｌＡ、２２７．ｆ／ｌｐ号、、第１Ｉ−、Ｊｊｊ、
０３；’２号。

第≠、２１り、３／？号および第≠、ＪＯＯ，Ｉ４−号
に開示されており、これら各特許は本明細書中に引用さ
れている。・ 回転式多段電通装置の多くのものＴｏ鳴業ＩＫ知られて
おり、特に米国特許Ｊｌ≠、λコア、１１ｉｓ号は３部
分に分けられた２段を包含する回転式ｍｍｍ置に関して
ｉる。その米５１４１許による回転式処理装置は、多く
の処理チャンネルを有する回転部。

すなわち回転子、ならびに上記チャネルと協同して多く
の処理通路を包囲、形成する同軸ａ筒内面を有する固定
素子から成ってｉる。また、この固定素子には、各通路
に対する入口、出口および線断部材、ならびに上記固定
子の円筒内面に設けられて匹て、ｌり段の処理通路から
別の段の処理通路に材料を移送するようになっている材
料移送用通路すなわち移送用溝が設けられている。米国
特許第≠、−λ７．１１ｔ号に開示されているように、
７つの加工段は、２つの主即ち供給部分から成っており
、第１処理段の各主要または供給部は該回転子の各端部
に設けられていて、第一段の各部から材料を受容するよ
うＫなっている第２処環段によって、お互いから分離さ
れている。

また、米ａｉ％許第≠、λ／３，７０り号は、主要処理
通路と、これと相互に連絡している第コ処理通路とから
成る一つの処理段を有する回転式多段処理装置に関して
いる。これＫよる好適な処理装置は１回転子の各端にそ
れぞれ設けられたλつの主要処理通路を有していて、こ
の両生要処理通路は、この処理通路から材料を受容する
ようになっている一つの第２処理通路にによって分離さ
れている。

米国籍吃第≠、２／３．７０Ｙ号および第≠、コ２７．
１／４号に開示された処理装置では、他の工程の通路か
ら材料を受容するようになっている通路の形状。

寸法が、仁の材料を送出する通路の形状１寸法とは選択
的に異っている。この選択的形状１寸法によって、材料
受容通路は、材料が送入される速度より低い速度で、材
料を処理し排出することができる。さらＫまた。この形
状寸法によって、受容通路に材料を確実、十分に満たし
、従って、この通路で処理された材料を均一な圧力下で
均一な速ＲＬ／ｃよって排出することができる。

しかし、材料受容通路には他の工程の通路とは異った形
状１寸法を必要とするような回転式多段処理装置につい
ては重大な困難が伴ってｉる。例えば、あるＩリマー加
工では、処理通路が材料を受容する速度より高い速度で
、材料を処通し排出することのできるような通路形状１
寸法を必要とすることがあ５る。通路の材料受容速度と
、その材料処理および排出の最高速度どの間のこのよう
な相違すなわち不釣合いによって、特ＫＩＩ３ｉ転式処
理装置の排出時に当っては、圧力、流量および温度に非
常に大きな変動が起ることがある。

本発明は、その効率　ｍ品品質および全般的処理性能特
性の諸点ｔ４１に良好にし九新規な改東設計による回転
式多通路処理装置を提供するものである。

本発ｆｌｉ４による回転式処理装置は、コー以上の濃状
チャネルを有する回転子と、該チャネルに対して機能的
に配置されて処理通路を包囲形成する同軸円筒内面を備
え九固定素子とから成ってｉる。

各処理通路には、入口、出口および該固定素子と一体と
なったチャネル越断部材が設けられていて。

入口から供給された材料を回転するチャネルａに沿って
該−断部＠まで送って通路から排出するようになってい
る“。

７１１１九はそれ以上の通路は、平行的に作動する第７
の処理通路であって、この通路に割当てられ九処理機能
を効率よく遂行することができるような形状１寸法を備
えている。別の処理通路は第１の処理通路の外側に配置
されて−て、この通路に引続いて作動する。この第２の
処理通路の形状。

寸法は、この通路に材料が供給される速度より高い速度
で材料を処理し、排出することができるように選択され
ている。第１の処理通路の出口附近にあってこの出口と
連絡している材料移送用溝と。

第２の処理通路の入口とによって、第７処理通路から第
２処理通路に材料が移送される。調節することのできる
材料移送速度調整装置がｇ−の処理通路内に設けられて
いて、この通路の処理遠吠を選択的に調節して、この通
路先の材料供給速度に釣合わせることができるようにな
って−る。

本発明による新規な回転式多通路処理装置の詳細とこの
種の処理装置によって得られる剃点とは。

添付図面を参照した下記の好ましい実施態様の詳細説明
によってさらに十分に理解されることｋなるであろう。

先ず第１図において１本発明による新規な回転式多通路
処理装置は、駆動軸１４に敗付けられていて、−クノン
グ１６から成る固定素子中を回転する回転子１２、すな
わち回転機素を備えている。

回転子１２には多数の処理用チャネル２１，２３゜２５
．２７．２９および３３が刻まれており、各チャネルは
１回転子表面２０から内方に向って伸びている相対する
両側壁を備えている。回転子１２ｔ−回軸する装置は鯖
により示されており、この装置は押出機等の／９マー処
理装置ｔ＠転する丸め普通に使われている業界既知の形
式のものである。固定子のハウジング１６は１回転子１
２０表面２０と相対する同軸円筒内面３８を備えて匹て
、この円筒内面３８はチャネル２１，２３，２５２７．
２９および３３とともに、それぞれ処理通路２２，２４
．２６，２８．３０および３４ｔ−包囲形成している。

本発明の回転式多段処理装置は１色々に組合わせた処理
段（加工工程）ｔ−与えることができる。通常の場合、
ｌｉ／段（第７エ程）では、装置に送り込まれる材料の
＃ｌ鵬、軟化もしくＦｉ流動性の増大等を含む可塑化作
業を行う。第２段（第コニ１ｍ）では、第１工糧で処理
された材料の混合、均一化または不揮発性化、もしくは
この材料中えの成分の追加または除去等を包含する配合
作業を行う。第３段（第３工程）では、普通、第λ工１
で処理され光材料を本処理装置から排出する丸めの加圧
または放出作業を受持っている。説ｌ！を容品にするた
め、ここで説明する回転式多段処理装置では、第１工程
で／９−１−材料の溶融を九は部分的溶融作業を行い、
第λ工程では、嬉／工程で加工され九ポリマー材料の混
合作業を遂行し、第３工程では、第１および第２工程で
加工された材料の排出作業が行われることに・する。

再び図／を参照すると、図示の処理通路（加工通路）は
、いくつかの加工工程を行うようになって−る。すなわ
ち、加工通路２２，２４．２６および２８は第１工程を
行い、菖コニ程は、第２の加工通路３０で行われ、第３
工程は上記のｗ＆ｌおよび第２工程とは離れて設けられ
た加工通路３４で行われる。以下に詳述するように１円
筒白馬面３８に設けられて、いて、加工された材料をｌ
工程から次の工程に移送するよう忙なっている材料移送
用溝によって、上記の各工程は相互に連絡している。

次に図２と図３．を見ると、回層化または未０Ｔｆｆｉ
化材料は、ホラ／＋　４９から入口４２を通して回転式
多段処理装置中に適宜供給される。この両図で見られる
ようＫ、−・ウジング１６の同軸円筒内面３８は、その
ほぼ全長にわたって円筒状を成しているが、加工通路２
０，２４．２６および２８にわたる部分で、入口４２の
附近に切下げ４４が設けられている。この切下げの幅は
、その側壁４６が回転子１２の円筒状部分２０から張り
出して、第１工程の各加工通路にポリマー材料を供給し
易くするようになっている取入れ室を形成するに足るだ
けの長さになっている。

操業に当っては、材料が重力を走は押込み供給機によっ
て、入口４２を通して、この加工装置に供給され、各切
込みによって、各チャネル２１゜２３．２５および２７
に分配される。この状況は図２と図３に示されており１
図２は　ｌｌ／工程加工通路の各チャネル２１，２３，
２５および２７と、第１工程加工通路のチャネル２９と
ｔ備えている回転子部分１２を示してｉる。また図３に
は。

第１工程加工通路２２．２６および２８と同様な寸法と
構造を持つ第１工程加工通路２４が示されている。第７
エ程の各８１１通路は、各材料移送用＄５０の近くにチ
ャネル遮断部材４８を備えており、この移送用溝５０は
、他の第１工租加工通路に導通するようになっている。

この＃５０は１通常は入口４２から、この加工通路の環
状経絡全局に近い距離だけ離れて配置されてｉる。

また、図２と図３で見るように、第１工程の各加工通路
の遮断部Ｍ４８は材料を線断、＃導する端部壁面５２ｆ
ｔ備えている。従って作業中には。

ｆａ／工程の各加工通路に導入される材料本体の動きが
遮断されて、乙の遮断材料と、動いているチャネル壁と
の間には相対運動が起り、この相対運動によって、この
チャネル壁土と材料本体中とに摩擦熱が生じる。な２、
第１工程の各加工通路のチャネル壁（好ましくは、この
加工装置中の全チャネル壁）Ｆｉ、小室６（図／）中に
通常の方法によって供給される伝熱液体等によって加熱
されているのが普通である。なお、この加熱装置の適当
なものについては、米国特許第≠、　／１Ｉ−２，１０
３号と第≠、／９ＩＡ、ｔｊ１号中に述べられている。

各チャネル壁が材料を引すり進める作用によって、加工
通路周辺では次第に圧力が高くなるのが普通であり、第
１工程の各通路中の圧力は、通常は、遮断部材４８の誘
導面５２で最高に達する。

この誘導面５２の形状、寸法等は材料をこの加工通路か
ら誘導、排出することができるようなものになっている
。各図中に示されている第７エ８には、ｔｌぼ同様な形
状１寸法の矢本の加工通路があるが、この加工通路はこ
れより多くても、少くてもよく、またその形状、寸法、
配列等も相互間で相違していてもよい。

第１工程で加工された材料は、材料移送用溝５０（図２
と図３）を通って、各加工通路から排出される。この移
送用溝５０Ｉｆｉ、速断部材４８の誘導面５２の上流側
゛附近の同軸円曽内局面３８に設けられている。この移
送用＠ＳＯは回転子１２の軸に千行く延びていて、その
開口部は、各加工通路中の誘導面で集めた加工ずみ剃料
を受容して。

これを第１工程各加工通路上の円筒表面を越えて。

第一工程の加工通路３０に送付、排出するようになって
いる。図４で見るようＶＣ１移送用溝５０の最外側端部
は加工通路３０の入口になっている。

第一の加工工程は、図示された処理装置中で加工通路３
０として示されている少くとも７本の加工通路を包含し
ている。図４で示されるように。

第１工程の加工通路からの材料社、移送用溝５０を通し
て、第２工程の、第１加工通路３０に排出される。

前述したように、第２工程の加工通路は、第１工程で加
工された材料の配合作業を行うことになっている。図示
された処理装置では、ｇコニ橿は第１工程から供給され
る溶融、または半溶融材料を効率的に混合するようにな
っている。粘稠材料の効率的混合を行うことになってい
る加工通路の形状１寸法は、第１工程の／９マー溶融通
路の形状寸法とは異っている必要がある。適切な作業を
行うための混合通路はそのチャネルを広くして材料の逆
ａｔ行わせて、低い圧力と僅かな温度上昇Ｆで効率よく
混合を行うように作られる。例えば図１で見るように、
第２工程の加工通路３ｏの両側壁は平行になっていて１
通路は第１工程の加工通路より広くなっている。この形
状相違によって。

第１工橿で加工され丸材料が＃Ｉコニ程の加工通路に供
給される速度とｆｓコニ程の加工通路の容量との間に相
違が生じることになる。

この相違による彩響の大きさは、第１工程で加工した材
料の供給速度と、効率的混合を行えるような寸法、形状
を有する第２工程加工通路の加工／＃１′出能力との間
に生ずる相違を例示して説明することができる。すなわ
ち、上記した本発明の説明用回転式多段処理装置は、並
列して作動し、約≠、り１６ｃ１１の全加工量を生産す
る≠本の加工通路を持つ第１工程を包含している。この
種の加工装置ｆＵｊ　Ｏ乃至／　ｊ　Ｏｒｐｍの速度で
運転することができる。この場合、溶融し丸材料ｔ−第
２工程の加工通路に供給する速度は、チャネル壁の移動
速度と／　リマーの性状の相違に１って、約／　ｌｒ　
／、≠乃至約７．１ｔＯＫｔ／ｈｒ　となる。しかし、
第２工程で効率的な混合を行うためには、比較的広い混
合用通路を必要としており、このような第コニ鴨用混合
通路は、ｊＯ乃至／ｊＯ「−の運転速度で、約３、≠０
０乃至約９，１００に／ｈｒ　　の速度で材料を加工、
排出することができる。

ｆａ／工程で溶融材料を材料移送用＃ｌＫ供給する速度
と、第２工程の加工／排出能力との間のこの大きな相違
によって、第２工程の加工通路およびその後の工程の加
工通路の中で、溶融材料の流れが断続することにな９、
かつ全加工通路、特にこの加工装置の排出＆ｌＳＶこお
いて、流量、圧力および温度の烈しい変＠を引龜起すこ
とになる。

本発明Ｆｉ、上に述べたような相違を内包する加工通路
を包含する回転式処理装置の処理効率を効果的に改善す
ることのできる装置を持つ改良された新規な回転式処理
装置ｔ提供するものである。

すなわち、本発明によれば、新規な拐科移送装置調節装
置が、加工通路３ｏの入口部に設けられる（図２．＜１
．１および６を参照）。この装置は通路３ｏ中に横断的
に進入して、この通路の一部を−断するようになってい
る可調節部材１００から成っており、加工通路３０の加
工速度を選択的に調節して、材料移送用溝５０を通って
この通路に供給される材料の速度に合わせることができ
るようになっている。この調節の程度は、通路３０内の
処理状態を適切なものとし、かつ運転中を通してこの状
ｍを維持するため速度＠贅の程度とｉ［接Ｋｌｌ連して
いる。

可調節部材１００は、ハウジング１６中の開口部１０８
を通って１通路３０中に横断的に進入する絞りピンとし
て１図−、ｔＩｔ、ｔおよび乙の中で示されている。こ
の部＠１００の位置は、処理装置の運転前を九は運転中
に、この部材ｆｏｏｔ−遭路３０中のある適当な深さま
で進入させ、固定するようになっている調節用ねじ１０
２．締付はナツト１０６および位置決め装置１０４によ
って定められる。この絞りピンを調節して１通路３０の
底と絞りピン１００の底とＫよって定められる隙間の大
きさを運転中に調節する。この隙間は図り中でＨエ　と
して示されている。

第５図で見るように、ＩＩ！ｉ１節部材１００を下げて
、加工通路３０内での処理速度を低下させ、絞りピン１
００の背面１１０に溶融材料のたｔｖができるようｅＨ
１ｔｉｄ定する。これＫよって、この材料たまり中にＦ
ｉ溶融材料の烈しい逆流現象が起って、との粘稠材料を
強く剪断し、その溶融と混合とを効果的に促進する。こ
のように、ピン背面に溶融材料の乱流たまりができるこ
とが本発明の重要な特徴であり、これによって処理製品
の品質が向上される。例えば、第１工程で加工された材
料を完全に溶かすには、さらに高いａ１度が必要であり
、溶融中の材料の温度は、これに続く混合／加圧工程で
さらに高められる。このため、ある運転中には、回転式
処理装置で処理された材料の排出時の＠度が２６０℃程
度まで過［Ｋ高くなることがある。図ｊに示したような
、ｆＩＩＩ＠材料のたまりができると、溶融工程での作
業温Ｒｔ低下することができる。このため、ｇコニ糧の
加工通路に供給される材料の温度を低くして、未溶融材
料を含む不完全溶融状態にし、この材料の完全溶融をピ
ン背面１１Ｇの材料たまり中で行った後に１この材料を
隙間Ｈエ　中に通すようにする仁とができる。

この特徴によって、低い作業温度で効率的な加工を行い
、従って溶融物の分Ｓを防いで、その品質を向上するこ
とができる。

図６では可調節部材１００は長方形断面として示されて
いるが、この部材は円筒状、くさび状。

または適宜な補足的加工をも行える形状であってもよい
。

再び図１．コおよび＋ｙ参照すると、第１工程で加工さ
れた材料は移送用溝５ｏによって第２工程の第１加工通
路に移される。図／で見るように。

この第１加工通路の形状、寸法のため、前述のような速
度相違が引起こされる。第１工租で加工された材料は、
加工通路３０（図ｊ）の中で、絞りピン１００によって
遮断された材料と、この材料ｔｖ間Ｈ１を通して前方に
引する回転中のチャネル壁との間の相対運動と、１１断
部材５４によって遮断された材料と、この材料を材料線
断および収集用のｓｉｉ面まで引する回転チャネル壁と
の関の相対運動とによって効率的に混合される。図示さ
れた多段加工装置では、加工通路３ｏ中の遮断部材５４
（図″ｊ）は、第１工程の遮断部材４８（図３）の円周
上の位置から／１０ＩＩＩ離れた所に設けられて−る。

従って加工通路３０では、材料はこの通路中を約半周し
た後に遮断部材５４Ｋｌｌｌ達する。

図示説明された第λ工程は１本だけの加工通路を包含し
ているが、この態様を便更して、例えば。

一本またはそれ以上の並列または直列し九加工通路を包
含させ、かつそれぞれの形状、寸法を同様または相違す
るように設計することもできる。

図ｊおよび７で見るように１第−ニーで加工された材料
は、移送用溝５８ｔ−通して第３工程の加工通路に送ら
れる。この移送用溝５Ｂｔ；ｊ同軸円箇内局面３８上に
設けられており、ＩＩＩ断部材面５６の上流側の通路３
ｏの部分では回転子１２の軸に千行く伸びて、開口部を
持つ。溝５８はチャネル２９と３３との間の回転子表７
ｔＪ２０に相対する部分で回転子１２の軸に平行な線を
斜めに横切った後％速断部材面７８の下流側の通路３４
の部分では回転子１２の軸に平行に伸びている。

＃に参照した米国特許第≠、λ２７．ざ／を号で述べら
れているように、移送用溝を特定の加工通路に適用させ
るため、ノ〜ウジング１６中に設けた細長凹み（スロッ
ト）中に差し込めるような移動型流動規制器＾の形とし
た溝を使うこともできる。流動遮断用の部材、ビン等も
、この流動規制器具中に備見られて−る。

第３工程の加工通路１例えば通路３４（図１および図７
）は主として、第−工種の各加工通路から送られる材料
の加圧、放出工程を行うように表っている。従って、仁
の工種の加工通路の形状。

寸法は、装置運転の全期間を通して常に、少くともある
高さまでは、材料で満たされていて、高い排出圧力を発
生することができるようなものとされる。図７で見るよ
うに、第３工椙の加工通路に供給された材料は、チャネ
ル３４の壁面に引ずられて遮断部材７６に到り１部材面
７８に集った材料は出口管８０ｔ−通って加工装置から
排出される。

図中で、絞り弁８１として示される排出調節装置は、第
３工程通路３４での排出圧力や材料処理速度を調節す′
るために備えられて−る。

図７および７では、７本の加工通路を有する第３工程加
工部を示しているが、２本またはそれ以上の加工通路を
使ってもよく、また、いくつかの加工通路を並列または
直列に連結してもよい。例えば、多数の第３工程加工通
路を相互に連結して。

材料１に１つの加工通路から別の加工通路に送った後に
処理装置から排出してもよいし、または、多くの加工通
路を過当に連絡して、各通路に材料を供給して、この通
路を遡して、加工装置から排出してもよい。

本発明による多段処理装置は、その優れた運転上および
設計上の特徴のため、高−効率でポリマーｔ−加工する
ことができる。こ＼で例示し説明した多段処理装置は経
済的なサイズ、少なり動力消費、ならびに、効果的に溶
融、混合された均一的に高品質の溶融ポリマー製品を一
定の速度と圧力下で作り出す能力等の利点を持っている
。

実施例 図１乃至７によって説明した種類の回転式多段処理装置
を使って、低密度Ｊ　リ、−ｃチレンを加工した。この
処理装置の回転子は外径３５ｔ１であり。

材料移送用溝によって連絡された、図１に示すような／
連の加工通路を備えていた。この材料移送用溝は固定−
・ウノングの同軸円筒内周面に１図２゜≠、ｊおよび７
に示したものとはソ同様な配置に従って設けられていた
。

この処理装置のｆｓ／工程加工通路は１図／乃至≠に見
るようなμ本のくさび形チャネルから成っており、各チ
ャネルの最大中は２．５≠１．最小巾は／、　６　Ｊ”
　Ｌ：１１Ｌ、深さは６．２コ１であり、かつ各チャネ
ル間の回転子表面上の距離は、２．５弘１であった。

第２工程加工通路は断面が長方形の１本のチャネルであ
り、その巾はコ、ｊ≠１、深さは乙、２λ１であつ九。

この通路中の遮断部材５４は、第１工程の遮断部材４８
の円周上の位置から約ｌｒＯ直間れた位置にあった。第
３工程加工通路は、最大中０、　Ａ　ＩＡ　ｃｔｎ、最
小巾０．ＩＩ　／　ｃｍ、　ｆＲさｔ、２．２備のくさ
び形チャネルから成っていた。

低密度Ｉリエチレンの加工に鳴っては、第１工程の加工
速Ｗｔ−、回転子の回転速ｆ！Ｏｒｐｍにおいて／♂／
、≠９／ｈ「に定めた。加工通路内に圧力が発生しない
ものとすると、この回転子速度における第２工程加工通
路の最大加工速度は、次の式によって計算することがで
きる。

Ｑ、＝　ＮπＲＩ）（／−α２　）Ｈ・・・番―・・・
・・・・　（１）但し、ＱＤ−加工通路内の流速（ｃｄ
　／　ｓｅｃ　）Ｎ　＝回転子の１秒当り回転数（ｒｐ
ｓ）ＲＤ＝回転子の半径（１） α＝Ｒ８／ＲＤ Ｒ，＝チャネル底の半径距離（１） Ｈ＝チャネル巾（１） 本実施例の第２工程加工通路についての上記の各数値は
下記の通りであった。

Ｎ　＝　ｊ　Ｏｒｐｍ　＝　０．♂３３　ｒｐｓＲＤ−
２直径のイ＝／Ｚ７♂１ Ｒ，＝　ＲＤ−チャネル深さ−／　／、　ｊ　ｉｓ　ｃ
ｙｔα＝ｏ、ｔｚ Ｈ＝２．ｊ　≠１ 上記の式（１）から、流速Ｑ、は／、２／３．１ＩＡｃ
ｄ／ｓ・Ｃと計算される。溶融材料の密度を０．♂０／
１１／ｃｄとすると、第２工程加工通路の最大加工速度
は３、≠タタ砂／ｈｒとなる。

この結果から見るように、！／工程からの溶融材料供給
速ｆ（／Ｊ’　／、４’４４Ｋｙ／ｈｒ　）と、第２工
程加工通路の最大処理速度Ｃ３，’Ｉ？り１ｉ／／ｈｒ
）との相違は非常に大きなものであった。このような大
きな相違は、第２工程加工通路およびこの加工通路から
材料を受容する以後の通路の中に、当然溶融材料流下の
中断を起すことになる。さらＫこの中断によって流速が
不均一、不安定となり、その結果、特にこの処理装置出
口における処理済み材料の温度、圧力および品質の烈し
い変動を引き起すことになる。

はぼ同様な運転条件下で動かした処理装置の実際の運転
データを記録した第♂図のグラフを見ると、この出口に
おける温ｍｅ、圧力の変動がはっきりわかる。この実施
例の多段処理装置の第１工程に、低密度ＩリエチＶ７ｔ
−，ＪＯｒｐｒｎの回転子速度で／　Ｉ　／、１１−４
／Ｌｈｐ　／　ｈｒ　（１）割合で供にシタ、ＩＩＩｔ
ｌＩｉＡＩ）グラフの右半分は、本発明による可調節移
送速度調整装置を備えずに加工装置ｔ−ｉｚ分間運転し
た場合の温度（上の線）と圧力（下の＠）’ｔｌｅ録し
たものである。この運転に当っては、排出弁ｔ−調節し
て、排出圧力を平均約ハコｊＯｐｓｌ　（Ｉ　１．７１
ｐ／ｃＩｉ）とし、平均排出速度は／Ｊ’　／、４ＡＩ
Ａ）ｑ／　ｈｒであった。このグラフで見るように、排
出圧力は／　、　０００９＠Ｉ　（７０Ｋｌ／ｃｄ　）
以下から／　、　６（７０ｐｓｌ（／／Ｊ？／ｃｄ）以
上までの範囲で変動し、＃出温度は約ａＪｊ’ＦＣ１０
７℃）から約λ４４ｏ下（７７６℃）ｔで変動している
。

図１の右半分の記録を示した処理装置ｔ、不尭明に従っ
て改造し、図２．ＩＩ−，１およびｊＫ示すように、＃
Ｉ２工Ｓ混合加工通路の入口附近でチャネルに横断的に
進入してその７部を閉塞するｅ９ピンを装備した。この
絞りピンを調節して威関ＨよをＯ１♂／（！Ｉｍとした
。ビンは断面が長刀形であり。

チャネル側壁との間の隙間Ｈ，＃１０．０／ａｍであり
た。供給材料、供給速度および回転子連ＷＬは前の運転
時と同様であった。また、排出弁の調整ＶＣよる平均排
出圧力（約ｔｔ、７１／ａｌ＞および平均排出速度（／
　Ｉ　／、弘≠９／ｈｒ）も前運転時と同じでであった
。図ｔグラフの左側は、上記のよう忙改造、運転した処
３１装置による圧力（下のｍｌ）と温［（上の線）を記
録し喪ものである。グラフで見るよう罠、排出圧力は約
１２００ｐｓｌ　（Ｉ弘り／ｄ）乃至／　、１Ｉ００ｐ
ｓＩ（９１Ｋｆ／ｄ　）であり、排出温度は約２弘Ｏ〒
（１／１ｊＣ）乃至約２弘ｊ〒（／／♂、３℃）であつ
九。

上に述べた実施例から１本発明による新規な回転式多段
処理装置は１本発明以前に当業者で知られていた回転式
処理装置に勝る明確かつ驚異的な利点を持つことを了解
することができる。基本的には、本発明による方法は、
圧力、１Ｌ加工能力等を変動させる運転条件の相違を起
すような形状寸法を持つ各種の加工通路を効果的ＫＮ用
するものである。従って１本発明にぶって１回転式多段
処理装萱による処理動作の効率と適用範囲が大幅に拡大
されるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は１本発明による回転式多段処理装置中の各加工
通路の配置を示す断面図である。 第２図は、本発明の回転式処理装置の一部を塩９外して
断面を示す透視図である。 第３図は、第１図の処理装置の纂ｌ加工通路の３−３線
による断面図の概略を示すものである。 第≠図は、ｆｓＪ図に示した回転式処理装置の≠−≠線
による断面図の概略を示すものである。 第ｊａｇＩは、第１図に示す処理装置の第λの加工通路
のｊ−ｊ線による断面の概略を示す図である。 第６図は、第２図に示す回転式処理装置の一部を取り外
して断面を示した部分の上面図である。 第７図は、４７図に示す処！１装置の最終加工通路の７
−７線による断面図の概略を示すものである。そして。 第１図は１本発明により改良された回転式処理ｆｌｌＩ
ｌの実際試験−一部をグラフ用紙上に記入した記録を示
すものである。 ｌ２・・・回転子、１４・・―駆動軸。 １６・・・ハウシング。 ２１．２３．２５，２７，２９．３３・・・処理用チャ
ネル、 ２２．２４，２６，２８，３０．３４・・・処理通路。 ４８・・・遮断部材、５０・・・移送用溝。 手続補正書（方式）　ｓａ　４２８ 昭和　　年　　月　　日 特許庁長官　殿 １、事件の表示　　昭和２１　　年　轡許願　　第　　
／７０　　　　号２、発、１ｉ０４称　　　■転式４６
１１装置３、補正をする者 事件との関係　　出願人 名称　　　　為−ニスエム　暑−４レージ璽ン４、代理
人 ５、補正命令の日付　　ＩＩＩＩＩｊ１年ＪＲ２Ｐ日６
、補正の対象　願書　＠制置 ／

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. （１）　　複数の逃場用チャネルを有する回転子と、装
   置の運転に鳴って該チャネルと協力して多くの処理通路
   を包囲、形成する同軸円筒内面を有する固定素子とから
   成り、この各処理通路は出口。 入口および上記固定素子と一体となつ九通路遮断部材を
   有し、かつ鋏入口に供給され喪材料をチャネル壁に沿っ
   て該１断部材に送って該出口から送出するようになって
   ｉる回転式処理装置であって、かつ、１本以上の処理通
   路から、材料を第コの処理通路に移送し、また上記の７
   本以上の処理通路と上記第２の処理通路との形状、寸法
   の相違によって、該第２の処理通路が材料を受容し処理
   する速度より、該１本以上の処理通路が材料を処理し送
   出する速度が小さくなっている回転式処理装置におｉて
   、上記第１の処理通路の入口附近に、そのチャ／ネルの
   ・ψに進入して、該チャネルの一部を遮断する調節装置
   を設けて、これによって、該＄２の処理通路の材料受容
   および処理速度を選択的に調節して該処還通路先の材料
   供給速度に合せ、かくして該第２処理通路の選択的処理
   条件を定め、力１つ。 この選択的処理条件を処理作業中を通して維持するよう
   に改良し九回転式処理装置。
2. （２）　　前記円筒内周面に材料移送用溝を形成して。 上記の１本以上の処理通路から、第２の処理通路に材料
   を移送するようＫなっている前記第（１）項による処理
   装置。
3. （３）前記の調節装置が絞り部材を備えている前記第（
   １）項による処理装置。
4. （４）　　前記調節装置が、上記第２の処理通Ｗ＆を横
   断的に調節する絞り部材を備えていて、運転の開始前？
   丸は運転中に、該処理通路中の材料処理速度を正確に調
   節するよう罠なっている前記第（１）項による処理装置
   。
5. （５）　　前記絞り部材が、 （ａ）　　上記ＪＩＩコの処理通路中に横断的に進入し
   て。 該通路を完全に、またはほとんど完全Ｋｊｌ断する大き
   さを持ち、かつ他の必要な処理を行える形になっている
   絞りビン。 （ｂ）　　上記固定素子の円筒内面に連接する位置決め
   装置であり、かつ上記絞りビンを上記第一の処理通路か
   ら、はぼ完全に引上げられるだけの内部長さ、該絞りピ
   ／の形状と相まって、該ビンの前記回転子の回転方向え
   の偏位ｔ−随ぐことのできる形状、および本位置決め装
   置の外側表面内に中ぐ９孔を有する定置装置。 および （Ｃ）　　上記の絞りビンと中ぐ９孔とによって、該絞
   りビンを上記第一の処理通路内圧横断的に進入させたり
   引上げたりして、酸ビンの位置を定めて、該通路内での
   材料の受容および処理速Ｒを適宜に調節す、６ようにな
   っている調ｉｉ用ねじ。 から成っていることｔ−特徴とする前記＃Ｅ　（４）項
   による処理装置。
6. （６）　（ａ）　　材料の受容装置と遮断部材とを含む
   少くと正、もｌ＠の通路と、上記遮断部材によって遮断
   された材料を受けて第２処理段に送るようになされてい
   る第７段材料移送用溝とを含む第１処理１段と。 （ｂ）７つの遮断部材、およびこの遮断部＠によって遮
   断された材料を受容して、これｔ第３処理段に移送する
   ようＫなって−る第２段材料移送用溝を包含していて、
   かつ上記の第１段材料移送用溝から材料を受容するよう
   罠なっている少くともｌｌｌの通路を有する第２処理段
   、および （Ｃ）　　上記の第一処理段で処理された材料を受容す
   るようになっている装置、および本回転式処通装置から
   の材料排出口附近に設けられた遮断部材を備えてｉて、
   材料排出用圧力を発生することのできる少くともｌｌｌ
   の通路を包含し、かつ、上記の第２処理段の外部に隣接
   している第３処理１段、 を包含する相互接続された複数の処理段を上記処理通路
   が有する前記第（１）、第（２）、第（３）または第（
   ４）項による処理装置。
7. （７）少くとも、上記の第１処３１段の通路だけにでも
   加熱装置を備えた前記第（６）項による処理装置。
8. （８）　　上記ＩＩ／処理段の処理通路が、くさび形チ
   ャネルによって形成されて−ることｔ−特徴とする前記
   １１１（６）項による処理装置。
9. （９）　　上記第一処理段の処理通路内の遮断部材が。 上記第７処理段の処理通路内の線断部材の上記回転子の
   円筒周囲上の位置から約／１０直間れて配置されて−る
   ことを特徴とする前記１１（６）項による処理装置。