JPS5815947B2 - ジヨウホウデンソウヨウ ハツコウダイオ−ド - Google Patents

ジヨウホウデンソウヨウ ハツコウダイオ−ド

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JPS5815947B2
JPS5815947B2 JP50024754A JP2475475A JPS5815947B2 JP S5815947 B2 JPS5815947 B2 JP S5815947B2 JP 50024754 A JP50024754 A JP 50024754A JP 2475475 A JP2475475 A JP 2475475A JP S5815947 B2 JPS5815947 B2 JP S5815947B2
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JP
Japan
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emitting diode
light emitting
light
optical fiber
diode element
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JP50024754A
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安部正幸
山岡豊
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、同一ウェハ上に複数の発光ダイオード素子を
形成し、且つ各発光ダイオード素子の発光波長を異なる
ようにして、光ファイバと結合させた情報伝送用発光ダ
イオードに関するものである。
光信号により情報を伝送する光信号伝送方式が既に実用
化されており、その光源とし発光ダイオードが使用され
ているが、発光ダイオードは、半導体レーザに比較して
構成が簡単であるから安価であり、又注入電流を直接変
調して変調光信号を出力することができるもので、比較
的効率が良く、短距離通信用として多く使用されている
又光信号を伝送する光ヅアイバは直径が100μm程度
の細いものであるから、発光ダイオードとの結合の問題
が生じる。
又伝送情報量が多い場合や、情報の種類が多い場合等に
於ては、複数個の発光ダイオードを設けて、それぞれに
光ファイバを結合して、同時に多数の情報を伝送するこ
とが考えられる。
しかし、発光ダイオードとの光ファイバの結合は高精度
が要求される為、コネクタ部分が高価になり、多数の発
光ダイオード及び光ファイバを設けた場合には、非常に
高価になる欠点があった。
又電気信号の処理回路としては、集積回路(IC)、大
規模集積回路(LSI)等が用いられて小型化されてい
るが、多数の発光ダイオードに対してそれぞれ光コネク
タにより光ファイバと結合したとき、大型になる欠点が
ある。
本発明は、同一のウェハ上に複数の発光ダイオード素子
を形成し、且つそれぞれの発光波長を異なるようにして
、波長多重による情報伝送も可能となるようにすること
を目的とするものである。
以下実施例について詳細に説明する。
第1図は本発明の一実施例の説明図であり、1は発光ダ
イオードの駆動部、2は発光ダイオード、2−1は電極
、2−2は発光ダイオード素子、3は光ファイバ、4は
光伝送結合部である。
発光ダイオード2は、同一ウェハ上に複数個の発光ダイ
オード素子2−2をアレイ状に形成したものであり、各
発光ダイオード素子2−2に対応して光ファイバ3を結
合した場合を示している。
又斉発光ダイオード素子2−2は発光波長が相違するよ
うに構吸されているものである。
又駆動部1は各発光ダイオード素子2−2対応に駆動す
ることができる構成を有するものである。
同一ウェハ上に複数個の発光ダイオード素子をアレイ状
に形成して、それぞれに対応して光ファイバ3を結合し
たことにより、光ファイバ3の直径を例えば100μm
とし、発光ダイオード素子2−2を並べた長さを1cm
とすると、100本の光ファイバを設けることができる
又1.5V110mAで駆動し、ioμWの出力で情報
伝送を行うことも可能となる。
第2図aは本発明の実施例の要部断面図であり、bは組
成比の一例を示すものであって、半導体基板としてn型
のGaAsを用い、その上に液相成長等によりn型のG
a、イAA、−Asを成長させ、Znの選択拡散により
p型頭域を形成した場合を示すものである。
同図に於て、5a〜5cは電極、6はメサエッチングす
る前のGaAsの基板、6a〜6cは基板部分、7はメ
サエッチングする前のGa1−xAlxAsの成長層、
7a〜7cは成長層部分、8はp型又はn型のGaA7
Asの成長層、9,9a〜9cはZn等のp型不純物の
拡散領域、10は電極、2A〜2Cは発光ダイオド素子
である。
成長層7は基板6上に液相成長により形成したとき、A
lの組成比Xは、成長に伴って基板6側から次第に小さ
くなるものであり、例えば基板6側でx=0.2以上か
ら成長に伴って次第に小さくなり、x=0.1以下とな
る。
なおこの成長層7は液相成長以外で形成する場合も、第
2図すに示すような組成比が厚さ方向に変化する層とす
るものであり、このような組成比の分布を得ることは技
術的に容易である。
又成長層8は新たに成長させるものであるから、例オば
x=0.3となる。
即ち第2図すに示す組成分布とすることができる。
なおこの成長層8も液相成長以外の手段で形成すること
も可能であり、又省略することも可能である。
前述のように、基板6上に成長層7,8を成長させた後
、成長層8側からp型不純物の選択拡散を行うもので、
その選択拡散の深さをそれぞれの発光ダイオード素子対
応に異なるようにするものである。
即ち発光ダイオード素子2Aに於ては、A7の組成比X
が、X二0.1となる深さにZn等の不純物を選択拡散
して拡散領域9aを形成し、発光ダイオード2Bに於て
は、x=0.15となる深さに拡散領域9bを形成し、
発光ダイオード2Cに於ては、x=0.2となる深さに
拡散領域9cを形成する。
又拡散領域9は電極10とのコンタクト抵抗を低減する
為のもので、省略することも可能である。
このような拡散処理が終了した後、電極10を形成し、
又基板6に電極5a〜5cを形成し、例えばこれらの電
極5a〜5cをマスクとして、基板6側からエツチング
を行い、成長層8に達するまでエツチングする。
それにより各発光ダイオード素子2A〜2Cが同一ウェ
ハ上に形成されることになる。
各発光ダイオード素子2A〜2で、は、n型の成長層部
分7a〜7cにそれぞれ拡散深さの異なる拡散領域9a
〜9cが形成されていることにより、pn接合面はAI
の組成比の異なる部分に形成されることにより、例えば
発光ダイオード素子2Aは8500A、発光ダイオード
素子2Bは8000人、発光ダイオード素子2Cは75
00Aの発光波長を中心とした発光スペクトルを有する
ものとなる。
なお基板6は最初数iooμm以上の厚さを有するもの
であり、拡散処理が終了し、電極10を形成した後に、
ラッピング等により300μm程度以下の厚さとし、そ
の後に電極5a〜5cを形成する為の金属を蒸着等によ
り全面に形成し、各電極に分離するパターニングを行う
ことが好適である。
ヌ基板6を薄くし、且つメサエッチングを行うことにな
るので5、電極10をメッキ等により比較的厚くして、
全体の機械的強度が得られるようにすることが望ましい
第3図は発光ダイオード素子対応に光ファイバを結合さ
せた実施例の説明図であり、発光ダイオード素子2A〜
2Fをウェハ上に形成し、それぞれの発光波長λ1〜λ
6が異なるように形成した場合に、各発光ダイオード素
子2A〜2F対応に光ファイバ11を結合させた構成を
示すものである。
各発光ダイオード素子の電極5は端子14a〜14fに
接続され、これらの端子を介して駆動部と接続される。
又12は光ファイバ11の位置合せに利用し得るように
形成した絶縁膜であり、各発光ダイオード素子間の光干
渉を防止し得るように形成することもできる。
又13は光フアイバ11間に設けた遮光膜であり、光フ
ァイバ11を密接して配置したときの光フアイバ11間
の干渉を防止する為のものである。
なお複数の発光ダイオード素子毎に発光波長を同じよう
にすることも可能である。
例えば発光ダイオード素子2Aの発光波長λ1と発光ダ
イオード素子2Dの発光波長λ4とを同じくし、発光ダ
イオード素子2Bの発光波長λ2と発光ダイオード素子
2Eの発光波長λ、とを同じくすることもできる。
第4図は複数個の発光ダイオード素子対応に光ファイバ
を結合させた実施例の説明図であり、第3図と同一符号
は同一部分を示す。
この実施例に於ては、3個の発光ダイオード素子対応に
1本の光ファイバ11a、11bを結合させた場合を示
し、波長λ1〜λ3の光信号が同一の光ファイバ11a
により伝送されることになる。
この場合、各発光ダイオード素子2A〜2Cからの発光
波長が異なるので、1本の光ファイバ11aで同時に各
発光ダイオード素子2A〜2Cからの出力光を伝送して
も、相互の干渉がなく、波長多重伝送と同様にして情報
を伝送することができる。
又他の3個の発光ダイオード素子2D〜2Fの発光波長
λ4〜λ、を発光ダイオード素子2A〜2Cの発光波長
λ1〜λ3と異なるようにすることは勿論であるが、同
一とすることもできる。
即ち複数の発光ダイオード素子を1本の光ファイバに結
合し、その複数の発光ダイオード素子を群として、群内
の発光ダイオード素子の発光波長を異なるようにし、各
群は同一の波長となるようにすることも可能である。
第5図は発光ダイオード素子と光ファイバとの結合部分
の説明図であり、発光ダイオード素子2Cを例として説
明する。
拡散領域9cと成長層部分7cとの結合面が発光面とな
るので、光ファイバ11の中心がその発光面と一致する
ように、発光ダイオード素子2Cに対して光ファイバ1
1を配置する。
又基板部分6cに接続された電極5cば、拡散領域9c
に対向する部分以外がSio2.等の絶縁膜15で被覆
されており、発光ダイオード素子2Cの駆動電流は、電
極5cと電極10との間を流れ、Alの組成比Xが0.
1となる深さの拡散領域9cと成長層部分7cとの接合
面にその駆動電流が流れて、効率良く発光させることが
できる。
第6図は光ファイバの伝送損失の一例の特性曲線図であ
り、7000A〜9000Aの波長範囲では10db/
km以下の損失であり、この波長範囲内では波長多重伝
送も充分可能である。
以上説明したように、本発明は、同一ウェハ上の厚さ方
向に順次組成比が変化している層7に、それぞれ不純物
拡散等による不純物導入部の深さを異なるように形成し
て、それぞれ発光波長が異なる発光ダイオード素子2A
〜2Fをアレイ状に構成し、各発光ダイオード素子或い
は複数の発光ダイオード素子に対応して光ファイバ11
を結合させたものであり、ウェハ上に複数の発光ダイオ
ード素子をアレイ状に形成し、発光波長が異なることに
より、隣接発光ダイオード素子の発光出力が相互に干渉
することが少なくなり、結合する光ファイバの直径に対
応して高密度に発光ダイオード素子を形成することがで
きる。
又発光波長が異なる複数の発光ダイオード素子に対して
1本の光ファイバを結合し、波長多重伝送を行うことも
容易となる利点がある。
又選択拡散等により不純物導入部の深さを異なるように
することは容易であるから、発光波長の異なる発光ダイ
オード素子を構成することは容易である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の説明図、第2図a。 bは本発明の実施例の要部断面図及びAlの組成比の説
明図、第3図及び第4図は本発明の実施例のアレイ状の
発光ダイオード素子と光ファイバとの結合の説明図、第
5図は本発明の実施例の発光ダイオード素子の発光面と
光ファイバとの位置合せの説明図、第6図は光ファイバ
の損失特性曲線図である。 2A〜2Fは発光ダイオード素子、5,5a〜5cは電
極、6は基板、6a〜6cは基板部分、7は成長層、7
a〜7cは成長層部分、8は成長層、9,9a〜9cは
拡散領域、10Iは電極である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 同一ウェハ上の厚さ方向に順次組成比が変化してい
    る層に、それぞれ不純物導入部の深さを異なるように形
    成して、それぞれ発光波長が異なる発光ダイオード素子
    を構成し、各発光ダイオード素子或いは複数の発光ダイ
    オード素子に対応して光ファイバを結合させたことを特
    徴とする情報伝送用発光ダイオード。
JP50024754A 1975-02-28 1975-02-28 ジヨウホウデンソウヨウ ハツコウダイオ−ド Expired JPS5815947B2 (ja)

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JPS4861781U (ja) * 1971-11-15 1973-08-06
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