JPS58155778A - 光センサ - Google Patents

光センサ

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JPS58155778A
JPS58155778A JP57038403A JP3840382A JPS58155778A JP S58155778 A JPS58155778 A JP S58155778A JP 57038403 A JP57038403 A JP 57038403A JP 3840382 A JP3840382 A JP 3840382A JP S58155778 A JPS58155778 A JP S58155778A
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JP
Japan
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light
receiving element
emitting element
wavelength
detected
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JP57038403A
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JPS6259912B2 (ja
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Toshimi Okubo
大久保 利美
Takashi Kubo
久保 敬司
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS58155778A publication Critical patent/JPS58155778A/ja
Publication of JPS6259912B2 publication Critical patent/JPS6259912B2/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/12Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto
    • H01L31/16Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto the semiconductor device sensitive to radiation being controlled by the light source or sources
    • H01L31/167Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto the semiconductor device sensitive to radiation being controlled by the light source or sources the light sources and the devices sensitive to radiation all being semiconductor devices characterised by potential barriers

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は発光素子と受光素子とを備えた光センサに関す
る。
一般に光センサは光により物体の通過あるいは存在を検
出するものであって、第1図に示されるような発光素子
1と受光素子2とが対向して配置されたホトインタラプ
タ型と、第2図に示されるような受光素子2が発光素子
1の物体3による反射光を受光するように配置された反
射型とが知られている。第1図のホトインタラプタ型に
あっては、光路中に物体が存在しなければ発光素子1か
らの光が受光素子2に入射するが、光路中に物体が存在
するときその物体により光が遮断されて受光素子2に入
射しなくなることを利用して、光路中の物体の有無を検
出することができる。また第2図の反射型にあっては、
所定の位置に反射係数の大きい物体3が存在するとき受
光素子2に発光素子1からの物体3による反射光が入射
するが、所定位置に反射係数の大きい物体3が存在しな
いときは受光素子2に反射光が入射しないことを利用し
て、所定位置の物体の有無を検出することができる。伺
、図において4は外部リードである。
一般の反射型光センサでは、発光素子1が発光する光の
波長と受光素子2が検知する光の波長とは原則として一
致する。したがって受光素子2の感光範囲は発光素子1
の発光領域をカバーし、あるいは少なくとも一部は重な
っていなければならない。以上の従来の光セ/すは、例
えば検知すべき物体が発光状態の螢光物質のように入射
光と発光とで波長が異なる物体の場合には、受光素子2
に入射する光の波長が従来の受光素子2では感光範囲を
逸脱し、光センサとしては機能し得なくなる。
本発明は螢光物質のような波長変換物の有無を検出する
ことができる光センサを得ることを目的としてなされた
ものであって、第3図に示されるように、所定の波長変
換物質10に対し、その物質を励起させうる波長の光を
発光する発光素子11と、その物質により変換された波
長に感度を有する受光素子12とを上記反射型センサの
ように相互に配置してなる光センサである。すなわち本
発明の光センサは、発光素子11の発光波長と受光素子
12が検知する光の波長領域とが分離されていることを
特徴とする。
本発明が被検知物体とする波長変換物質の代表的なもの
は螢光物質で、発光素子と受光素子の波長領域に関連し
て適当な既知材料を選択することができる。発光素子と
してはGaAs、GaA4As。
GaP又はGaAs 1−x Pxを半導体材料とする
発光ダイオードが好適である。また受光素子としては、
GaAsPホトダイオードが好適であるが、ホトトラン
ジスタ、光導電素子又は太陽電池なども使用することが
できる。使用される発光素子の発光波長領域と受光素子
の感光波長領域とが重なり合っていないことが必要であ
り、もし重なり合う場合には受光素子にフィルターを設
けて発光素子からの光を遮蔽すればよい。
次に本発明の一実施例を第3図を参照して説明する。
〜970muの光を吸収して励起され、5oo〜600
nmの光を発光する。発光素子11としてGa As 
 系赤外発光ダイオードを使用し、受光素子12として
GaA s Pホトダイオードを使用する。
G a A 1発光ダイオードは959 nm近辺にピ
ーク発光波長を有するが、Si を不純物としてドープ
することによりピーク発光波長を970 nm近辺まで
シフトさせてもよい。GaA s Pホトダイオードは
400〜700 nmに感光範囲を有するので、発光ダ
イオード11の発光波長の光を検知しない。
GaAs 発光ダイオードからなる発光素子11と、G
aAsPホトダイオードまたはホトトランジスタからな
る受光素子12とを第3図の位置関係に配置し、発光、
素子11を発光させる。i、13は発光素子11の駆動
回路につながる端子、14は受光素子12の検知信号出
力端子である。いま螢光物質YF3 : Yb 、 E
rを例えば紙に塗布した被検知物体10が所定の位置に
存在すれば、その物体10は発光素子10からの960
〜9700mの光を吸吸し励起されて500〜600 
nmの光を発光する。受光素子12はその光を検知して
物体lOの存在を検出する。次に物体10の位置に螢光
物質が塗布されていない白い紙あるいは反射係数の大き
い物体が来たとき、その物体は発光素子11からの赤外
線をそのままの波長で反射するが、その波長は受光素子
12には検知領域外波長なので反射光は受光素子12を
刺激しない。また物体10の位置に何の物体も存在しな
いとき、又は反射係数の小さい物体若しくは光吸収体が
存在して受光素子に光が到達しても、受光素子12から
検知信号は出力されない。
本発明の用途は種々考えられる。例えば複写機にこの光
センサを装備し、コピーの原稿に螢光物質を塗布し、そ
の光センサがその螢光物質を検出したときは複写機を動
作させないように構成しておけば、機密書類などの複写
防止手段とすることができる。あるいは製品の自動化工
程において不良品など特定のものに螢光物質でマークを
付し、本発明の光センサがそのマークを検出するように
構成することもできる。
また、螢光物質塗布物体が透明の場合は第1図のような
配置も可能である。
以上のように本発明は発光素子の発光波長と受光素子の
検知波長とが異なるように構成されてぃるので、螢光物
質のような波長変換物質の存在を検出することのできる
光センサを実現することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は   ホトインタラプタ型光センサを示す概略
断面図、第2図は   、反射型光センサを示す概略断
面図、第3図は本発明の一実施例を示す回路図である。 1.11・・・発光素子、2.12・・・受光素子、l
O・・・被検知物としての波長変換物質。 特許出願人 株式会社リ コー 代理人升理士青山 葆外2名 第111)        等2図 第3図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 +l)発光素子からの光による被検知物からの光を受光
    素子が受光するように発光素子と受光素子とを配置して
    なる光センサにおいて、発光素子が発光する波長と受光
    素子が検知する波長とが異なることを特徴とする光セン
    サ。 (2)被検知物が螢光物質YF3:Yb、Erである場
    合において、発光素子がGaAsやGaAtAsなどの
    赤外発光ダイオードであり、受光素子がGaAsPホト
    ダイオードや、赤外フィルターを備えたシリコンホトト
    ランジスタである特許請求の範囲第1項に記載の光セン
    サ。
JP57038403A 1982-03-10 1982-03-10 光センサ Granted JPS58155778A (ja)

Priority Applications (1)

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JP57038403A JPS58155778A (ja) 1982-03-10 1982-03-10 光センサ

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JP57038403A JPS58155778A (ja) 1982-03-10 1982-03-10 光センサ

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JPS58155778A true JPS58155778A (ja) 1983-09-16
JPS6259912B2 JPS6259912B2 (ja) 1987-12-14

Family

ID=12524324

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60262435A (ja) * 1984-06-08 1985-12-25 Nec Kyushu Ltd 半導体組立装置におけるボンデイングワイヤ−供給装置
EP0244394A2 (de) * 1986-04-23 1987-11-04 AVL Medical Instruments AG Sensorelement zur Bestimmung von Stoffkonzentrationen
WO2011016908A1 (en) * 2009-08-03 2011-02-10 Illinois Tool Works Inc. Optical interruption sensor with opposed light emitting diodes

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60262435A (ja) * 1984-06-08 1985-12-25 Nec Kyushu Ltd 半導体組立装置におけるボンデイングワイヤ−供給装置
EP0244394A2 (de) * 1986-04-23 1987-11-04 AVL Medical Instruments AG Sensorelement zur Bestimmung von Stoffkonzentrationen
WO2011016908A1 (en) * 2009-08-03 2011-02-10 Illinois Tool Works Inc. Optical interruption sensor with opposed light emitting diodes
US8981280B2 (en) 2009-08-03 2015-03-17 Illinois Tool Works Inc. Optical interruption sensor with opposed light emitting diodes

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JPS6259912B2 (ja) 1987-12-14

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