JPS58153548A - 磁性体混在液の磁性体分離装置 - Google Patents

磁性体混在液の磁性体分離装置

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JPS58153548A
JPS58153548A JP57034648A JP3464882A JPS58153548A JP S58153548 A JPS58153548 A JP S58153548A JP 57034648 A JP57034648 A JP 57034648A JP 3464882 A JP3464882 A JP 3464882A JP S58153548 A JPS58153548 A JP S58153548A
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magnetic
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magnet
magnetic material
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BUNRI KOGYO KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本尭明嬬磁性体混在液中の磁性体を分離除去してこの液
を浄化する装置に関する。
切削機械、研摩機械等の工作機械は、その作業に切削液
中研摩液が使用されてお)、この使用済の液中には切削
屑や研摩屑が、糸状、粉状に混入される。このような使
用済切削液、研摩液は、省資源、経済性の観点から再使
用する仁とが望まれてsP如、したがって液中に混在し
ている切削屑や研摩液を除去して浄化する必要がある。
従来におけるこの種磁性体分離装置は、クリーンタンク
内において重力を利用して磁性体を沈澱させる方式が採
用されているが、該沈澱方式は磁一体の沈澱に時間が掛
、)、粉粒体では沈澱しないこともあって処理効率がき
わめて愚く、クリーンタンクの容積を送液ポンプ容量の
10〜20倍もの大形にしなければならず、通常クリー
ンタンク容積は送液Iンデ容量の3〜4倍でよいとされ
る理論容積に比べてをわめて大きなりリーンタンクとな
夛、工場内におけるクリーンタンクの占める面積が大き
くなる欠点があった。また工場内に大きなスペースがな
い場合にはクリーンタンクの容積が小さく、タンク内の
掃除511mが高いえめ、保守管理が面倒であっ九。
本発明はこのような事情にもとづきなされたもので、そ
の目的とするところは、液中の磁性体管効率よく分離排
除できて掃除等の手間を要さず、クリーンタンク容積も
小さくてすみ、かつ磁性体混在液をクリーンタンクに戻
すための通路に設置で龜る磁性体混在液の磁性体公庫装
置’t*供しようとするものである。
本発明は磁性体混在液を一方から他方に向って流す分離
ケースを1区割壁によシ流れ方向に沿って複数の分11
iWIK区分し、この区割壁にはaaのための開口を設
け、かつ各分離槽の底;にはそれぞれのマグネット盤を
敷設し、これらマグネット盤には轟該マグネット盤と極
性の異なるマグネット突起會突設して、該突起にょって
引き起される乱れ流れによ)Wji、中の磁性体をおど
らせてマグネット盤に効果的に吸着させ、また液中に浮
遊している微細な磁性粉体や粒体は区割壁によシ流れを
阻止し、この滞留する粉体や粒体およびマグネット盤に
吸着されている磁性切屑などを流れ方向と直交する方向
に走行されるスクレー・母によル外部へ排出するように
したことt−特徴とする。
以下本発明の一実施例を図面にもとづき説明する。
図中1は磁性体分層装置であシ、クリーンタンク2の上
面に載置されている。3は切削機械や研摩機械から導ひ
かれ九混在液戻し管であル、磁性切屑や研雄屑が混在さ
れた使用済液會上紀クリーンタンク2に帰趨させるもの
である。上記磁性体分離装置1は上記戻し管3とクリー
ンタンク2との遅過途中に介装されている。
磁性体分離装置IKついて詳細に説明すると、図中5は
分離装置本体となるケースである。ケース6内には第1
図および第2図に・おける図示左W<予備処m*−が形
成されておシ、中央部には本発@に係る主処理室1が構
成され、かつ図示右端には脱水装置1が設けられている
。まえ図示右−の下方には処理が完了した液をクリーン
タンク2に案内するための排出部9が構成されている。
予備処理i[−は前記混在液戻し管71に導入する導入
010を有し、この導入口10に挿入され良上記戻し管
1から、骸予備処理室6に、混在液、つまり未処理液が
注入される。予備処理室6においては、混在液が第1図
の矢印で示すように、ケース50幅方向に沿って流れる
ようになっている。予備処理室6の上記流れ方向途中、
には、複数の予備マグネット盤11mm1lb+1.1
 、cが敷設されている。これら予備マグネット911
m 、Ilb 、11etl’im2図に示されるよう
に、断面はぼU字状をなしておシ、流れ方向に対してあ
たかも樋のごとき形状をなして流れを案内している。を
九これら予備マグネット盤11*+11balleは、
#接するもの同志は、その表面の磁極が互に異なるよう
にして配置されているものである。予備処理室6におけ
る幅方向両11にはフレーム11m、11bが設けられ
てお)、これらフレーム12h、11b関には従動軸1
3が回転自在に横架されている。
従動軸JJKは従動スプロケット14h、14bが取)
付けられている。これら従動スデaケット14h、14
bKついてFi後述する。
上記予備処理116は、第1図の下向に示され九通路1
5を介して主処理室7に連通している。
したがって液は、予備処理室6を矢印のごとく841図
の下向きに流れ、通路15を右ljK向)て流れたのち
主処理室7へm1図の上向き方向へ流れ込むようになっ
ている。
主処理室1においては、液が第1図の下向から上翻に向
りて流れるようになってお9、第3図および第4図にお
いては左欄から右@に向って流れるように示されてい、
る。
この主処理室7には、上記液の流れ方向に沿って離間し
て、区割壁10.*、20bが立設されている0区割壁
10*、JObは、第1図および第2図の左右方向に延
びてお夛、上記主処理室1を液の流れ方向に石って複数
の(第1、ag2および第3の)分離槽21%ml1b
a21@に区分している。各区割@so*、zobKは
、所定高さの位置に温液のための開口22a。
zzbが形成されてお)、シ九がって各々上流−に位置
され九分離櫂の液面が、これら温液開口21m、11b
のレベル以上に達すると、液はオーバーフローして下R
冑の分離槽に向って流れるようになっている。
上記各分離槽11m、21b、21cの底面にはそれぞ
れ主マグネツト盤jJalJjb121eが敷設されて
偽る。これら各マグネット盤21m、2:lb・2Re
は、隣接する分離槽11*z21b、21e相互間では
その表面の極性が互に異なるよう和して配置されている
なお、前述の予備処理室6の予備マグネット@11a、
Jlb、J1@と、主処理i11における上記主マグネ
ツト盤11hallbmlaeは、第1図の左右方向に
沿って瓦に分離して構成されていてもよいが、左右方向
に一体に構成してもよい、つt、a、iとえば予備マグ
ネット盤111と主マグネツト盤JJaとを連続し九一
体のマグネット盤で構成してもよいという意味である。
上記主マグネツト盤11*+2Jbm23cの各上面に
は、流れ方向の途中に、流れ方向と直交してマグネット
突起j4msj4b*J4eが突設されている。これら
マグネット突起241゜J4b、j4@は当該マグネッ
ト突起が位置される分離槽j J & e j i b
 −j J eの液面よりも低い高さで設置され、かつ
当該マグネット突起が桶立され九マグネット盤zs*a
zsba23億の極性とは異なる極性をなしている。具
体的に述べると、マグネット盤23aはその表面が8極
であるのに対し、マグネット突起241の上端はN極と
なる′:′1ように構成しである。
上流−に位置され要路1の分@*11&は、前述の通路
15に対して流入口25を介して遅通し、また下流−に
位置され要路3の分離槽JJeFi流出口26を介して
他の過#s27に通じている。この通路21は111図
の上側に示された位置に設けられてお)、蚊通路2rは
落下孔2aを介して鍵記排出部#に過じている。tた上
記流出口2dには、纂1図と第3図に示されるように1
水位調整r −) j 9が設けられてお)、このr 
−) j #會手動4しくは動力によシ図示しないが、
上下に位置調整する゛ことKよって主処理室1金体OS
面高さを調整することができるようになっている。
主処理室7において、幅方向に対向して仕切@xo*、
xobが立設されている。これら仕切壁J □’ l 
# J Ob Kは前述の流入口25および流出口2−
が形成されているものであるが、これら仕切壁J#a、
Jobの端部には駆動軸11が回転自在に架設されてお
plこの駆動軸JJKは駆動スプロケット11* 、3
1bが取り付けられている。先に述べた従動スプロケッ
ト14m、14にと上紀駆馳スプロケットJ2&。
sxbとの関に#i各々テx−ン33*、a3bが架は
渡されている。駆動スプロケットJ j anJjbは
、フレームJabの上端に取)付けた駆動モータS4に
よ〕、チェーン11掛は手段Jsを介して駆動されゐよ
5になっている。l[lスプロケットxx*、szbが
矢印入方向に回転される仁とにより、チx−ンJJam
JJbIIi矢印B方向へ走行され、この矢印B方向は
、予備処理室6および主処理室IKおける液の流れ方向
とは直交する方向と表っている。
左右のチェーンJJa、JJbには連結具ICを介して
ホルダーS1・・・が横架されている。これらホルダー
11・・・には、スクレー/+18・・・がIIRI付
けられている。スフレール母111・・・は耐油性f五
などからなp1纂3図から判るように、区割壁2oa、
zobt逃げるための切欠1ハ。
JIlbおよびマグネット突起14hm:14bs24
@を逃げる丸めの切欠40m、40b、4(J@f有し
ている。チz−ンxs*axxbo矢印B方向への走行
に伴ってスクレー・918・・・−一体的に走行され、
スクレーI418は予備処理室dのマグネット盤JJa
〜lieの上面を摺動して矢印B方向へ移動し九のち、
主処理室IKおける各分離槽JJa〜I1gのマグネッ
ト盤IIa〜23cの上面を摺接して矢印B方向へ走行
される。この丸め、上記各切欠Jm&、3flbおよび
40h〜40mは、区割壁11J*、10b中マグネッ
ト突起14a〜24・によってスクレー/f[[・・の
走行が阻害されないようにし丸ものである。なお、41
.42はチェーンガイドを示す。
主処理室IKおける各分S槽11m、21bの矢印B方
向端111には、マグネット#12バー4ハの上面と連
続しえガイド1143が形成されている。こOfイド壁
−1の先端に対向して先に述べ丸脱水装緯1が配置され
ている。
脱水装置1は、脱水用モータ45によって回転されるマ
グネットローラー、呵を有している。
マグネットローラ4dは詳図しないが、ステンレス等の
外餉内にマグネット41を一体に有し、るようになって
いる、!ダネットーー24#にはl12シローラ41が
弾接されてお9、このIN)ロー241はマグネットロ
ー246に圧接されてマグネットローラ46t)回転に
伴うて引きず如回転される。
マグネットローラ46には引掻き板49が接触させられ
てお〕、この引掻き板49はマグネットロー24−の表
面に吸着されている磁性体を!ダネットローラ46の回
転に伴って掻き取るようKなっている。引掻き板4zW
cFi排除シュート50が連結されている。シュート5
0の先端下方には切削屑収容箱51が設けられる。
一方排屯部りは上記アゲネットローラ46の下方に延び
る底11g1゛を有し、仁の底l1lS j Kよって
形成される排出通路5Jが前述の落下孔18に通じてい
る。そして排出通路51は排出口s4を介してクリ、−
ンタンク2に連通されている。なお5Jはカバーを示す
このような構成にもとづく分離装置10作用會説明する
戻し管J食通じて導かれる使用済液、つまシ切削屑中研
摩層等が混在され丸液は、予備処理室6に注V込まれる
。予備処理i1gにおいては、液がll1lll中上側
から下側に向って流れる。この際液面が、予備マグネッ
ト盤111〜11@の上面からあtn高くないことが望
ましい、上記予備処理室iにおいては、液が通過する過
程で、この液に混在されて%A九比較的大きな切削層や
、綿状にからみ合って団子状となつ九切屑は、各予備マ
グネット盤11*m1lb*11eの磁力に引かれるこ
とく加えて、自重によシ沈むことから、予備マグネット
盤11&@Ilbm11・の上面に吸着される。この予
備処理iilεは、上述のととく、比較的大きく、かつ
重量の大なる切削屑を液から分離させるものであル、よ
ってこの予備旭纏童gtmれてネ路11rK11つ九液
中には、上記大暑な切削屑は混在されなくなり、中、小
形および粉状、粒状の磁性層が残されている。
通路15に至った液は、流入口25を経て主処理室1の
第1分離@ff1JaK流れ込む、第1分離@jJaに
おいて、区割壁xo*og1液開口22&よ)も液面が
蟲い場合には、縞1分■@11*の液拡オーバーフロー
して纂2分離槽JJbK流、れ込み、同じく謳2の分離
槽11bにおいて区割壁sobの温液開口JJbよシも
液面が高いと、第2の分離@j 1 bの液は第3の分
離槽21@にオーバーフローされる。
これら嬉工ないし第3の分離911a〜21−において
は液面が低い仁とが望ましく、各主マグネツト盤211
〜21@の上面すれすれに液を流すことがよい、つまり
、纂4WJK示される流れると、主マグネツト盤jJ%
の磁界内を總4図中左側から右@に向って流れるのでこ
の過程で液中に混入されてiる中、小形の切削屑が主マ
グネツト盤11*O上面に吸着される。もちろん切削屑
の重力による沈降作用もあるが、切削屑社主マグネット
盤2Jaの磁力によりit引されることによって該マグ
ネット盤[1の上面に迅速に吸着される。
主マグネツト盤21&の上面にマグネット突起341を
突殴しであるので、第4図中左側かも右側に向って流れ
る液は、上記マグネット突起74aによって乱流が発生
させられる。この乱流により液中に混在されている磁性
粉体や粒体が揺動させられる・そして#突起241を越
えると1!に、液とと4におどらされている磁性粉体や
粒体が、この突起24魯に吸着される。
つま)マグネット突起j4mは主マグネツト盤JJaと
は異なる極性tit、ているので、液中O磁界が変化し
、よって液中に混在して浮遊されてい友磁性粉体や粒体
が、この磁界の変化によルマグネット央起jJaK&着
される。
このようにして各分離@jJaないしJJeては、主マ
グネツト盤IJ*z13@およびマグネット、突起24
11〜jd@によって液中の磁性層や粉、粒体が、これ
ら主マグネット盤2ハ〜IJ*O上面およびマグネット
突起jdm〜j4cの表面に吸着されるので、使用済液
の磁性体が分離され、流出026に至った液は浄化され
ているものである。
ところで、主処m塞1を区割壁1tl*、20bによっ
て、分離槽21&〜21@に区分し、この区割壁xo*
、xobKa液開口22a。
xxb@形成したことは以下の利点がある。つtシ蔦使
用済液の中には、純粋な磁性体ばかシでなく、砥粒−等
の非磁性体粒子が混在されることがあ)、また上流稠に
位置する分離槽から下流側の分離槽に向って流れゐ液中
には該上流個分一槽内で吸着し切れなかった磁性粉粒体
が浮遊されていることが多い、そこで区割tiixoh
を設けることにより、第4図において左側から右側に向
かう流れ會鋏区割壁JOaKよって一旦停止し、区割壁
jQaの直*(P部分)Km、11 全滞留させる・このヒとにより、液中の上記非磁性粒子
や磁性e粒体をこのP部分に留め、ζ   □のP部分
に集める。そして液の上rTJII分だけt温液開口1
2af通じて下fILIIi1分畷槽21bへオーバー
フローさせる。したがって上記滞留部分Pにおいては、
あるものは沈澱するし、他の−のは浮遊して集まるので
、オーバ−フローされる液中には非磁性粒体や浮遊粉粒
体の混入が少くなる。
前記流出口26かも流れ出九浄化液嬬、通路21から落
下孔21を介して排出通路15JK流れ込み、排出口s
4を通じてクリーンタンク2内に戻される。
一方、チェーンJJa、JJbの走行に伴ってスクレー
7?J#・・・が矢印一方向へ走行される。
予備処理室6において予備マグネット盤111〜11電
の上IiK吸着されている大きな切屑や団子状にからま
つ九切削屑は、スタレーafssが各予備マグネット盤
111〜ligの上面をm緩しつつ111図および纂2
図において左側から右II(矢印B方向)へ移動される
ことに伴ってmawせられて、同じく矢印B方向へ移m
1llれる。スクレ・−A J a Kよ〕各予備マグ
ネット盤11a〜11@の右端に艦き寄せられ九切削屑
等社、これに連続されている各分離槽171〜Ileの
主マグネツト盤11h〜IJ@の上面に移される。スク
レー/43#はこれら主マグネツト盤231〜21@の
上面およびマグネット突起Jda〜24・の表面とfi
lしつつ矢印B方向へ走行される丸め、上記予備処理室
(から運び込まれた大形の切削屑と共に、主マグネツト
盤2S&〜21@の上面に吸着されている中、小形の切
削屑およびマグネット突起241〜24c(08面に付
着されている磁性粉粒体を一緒に掻自寄せつつ矢印B方
向へ運ぶ、この場合、第4図においてPで示され九滞留
部分に浮遊されてい3非磁性粉粒体t1上記スクレ=/
譬38の矢印B方向へ0走行に伴って押されつつ移動さ
れる。
このようにしてスクレー/? J J・・・は、液中に
混在されていた磁性および非磁性の切削屑中粉粒体t−
、yイド壁4311C向って這ぶことにな・る。
このため、各スクレーpa1gの走行の装置、予備処履
室6および主処理室1の麿WRK教着されていた切削屑
等および主処理室1内で浮遊されていた粉粒体がfイド
壁aS@へ排出されるので、各マグネット盤11a〜1
1cal1m〜21@の上面およびマグネット央jll
 x a a〜Jdgの表面が掃除され、常に黴着性能
〃゛良好な状11tc保九れることになシ、磁性体の分
離効率が高いものである。
fイド壁41#c這ばれ良磁性切削屑中粉粒体はマグネ
ットローラ4Cの表面に吸着される。
!ダネットローラ4Iはマグネット41の磁力によ如磁
性体を外表WiJに吸着させるものであるが、がイド壁
−JIC這ばれてきえ非磁性0粉粒体は、磁性の切削屑
中粉粒体とからみ合ってだき込まれることによ〕−緒に
マグネットローラ4iK吸着される。
マグネットローラ4gの回転に伴って皺ロー54 # 
KFE*iEレテ1hbll 如’o’ −94a y
tfilL着で されている切削屑中粉粒体を押圧するので、切切層中粉
粒体に付着、含有されてい友液をeシ、削屑等の脱水が
行われる。そして切削屑等が引掻き板49に移動されて
くると骸引掻き板4#で切削屑IIIIをすくい*n、
よって切削屑等は引掻素板4#からシュートioを介し
て収容箱51へ排除される。
したがって上記実施例の分離装置1によると、液中に混
在されている異物、特に磁性体の分離効率がきわめて嵐
いので、クリーンメンタ2内に異物を持ち込まず、っi
)液の浄化が良好に行なわれる□のでクリーンタンク2
の容量は4ンデ容積03〜4倍程R和することができる
。このことから工場内においてクリーンタンク2の占め
る面積が小さくてすみ、スペースの有−利用が可能にな
る。ま九、ケース5内において液から分離された異物は
、スクレー・す38や脱水装置8を介して自動的に外部
へ排除されるので掃除の必要がなく、□保守管理もきわ
めて容易となる。
分離装置1はケース5内にユニット化して組み込まれる
ため、既存のクリーンタンク2上に設置するなど、使用
済液の戻し通路途中に!!続して取プ付けることもでき
る。
まえ、スクレーl譬J1は予備処理’1i16および主
処理室rにおいて、液の流れ方向と直交する方向へ走行
されるので、これら液の流れt阻害することがない、ま
え、液面を低くしであることから、磁性体のマグネット
に対する吸着性が高いばかシでなく、スクレーノ918
・・・の液中に浸漬される深さが短かくなる。このこと
はスクレー・譬38の走行抵抗が小さくなるのでモータ
34の躯動力を小さくすることができ、省電力になる。
を九チェーンJ11m、llbやスプロケット14*、
JJb、Jja、JJbも液中に浸漬されない丸め、こ
れらの故障も少ないものである。
なお前述し九夷論例においては予備処理室6を形成して
大形の切削屑等を分離させるよう和し九が本発明は必ず
しも予備処理i16を設けることには限らず、九とえば
第1の分離q121*七大形切削屑の分離室として使用
してもよい。
また各マグネット盤JJa〜JJc*jJa〜l1eO
上面にステンレス尋の非磁性プレートを被着して、磁力
を変えてもよいものである。
さらに分離槽の数は必要に応じて増減可能にすることは
もちろんである。
以上詳述したように本発明によれば、各分離槽における
底面に敷設したマグネット盤によって、液中の磁性体を
重力降下に加えて磁力によって吸着させるので磁性体の
分離性能に優れるものとなる。また各マグネット盤に突
設し九マグネット突起は液の流れに乱流を与えて黴細な
磁性体を吸着するので、磁性体の大小に殉らず磁性体が
分―される。加えて区割壁によって残りの浮遊物を滞留
させるから、流出される液は良好に浄化され、よって分
離効率の高いものとなる。そして上記マグネット盤やマ
グネット突起に吸着されている磁性体や区割壁の前に滞
留されている異物は、流れ方向と直交する方向に走行さ
れるスクレー/譬によって除去されるため、良好な分離
性能を常KJI持できるとともに、掃除などの面倒な手
間tl!さす、保守管理も容易となる。このように分離
効率に優れていることは九とえばクリーンタンク容量會
小さくでき、また流入鮨と流出g14を使用済液の戻し
通路途中に連結すれば既喜の切削液、研摩液の処理設備
に4使用できるなどの効果がある。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の一実施例を示し、第1Eは装置全体の横
断平面図、第2図および第3図は各各第1図中厘−■線
および11線に沿う断面図、纂4図は作用會説明するた
めの要部の断面図である。 J・・・分離装置、2・・・クリーンタンク、5・・・
ケース、J Oa 、 J 6 k ・・・区割壁、:
11m〜21e・・・分離槽、j J a 、 j J
 b 山温液開口、jJa〜Ile・・・マグネット盤
、241−〜24@・・・マグネット突起、alt、3
1b・・・チェーン、38・・・スクレー/譬。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 磁性体混在液を一方から他方に向って流す分離ケースを
    、区割IIKよ参上配流れ方向に沿って区分して複数の
    分−IIを構成するとともに、上記区割111には上R
    側分離櫂の液面が所定値以上になると下流惰分離!IK
    溢液させる開口を設け、かつ上記各分離槽の底面には各
    々マグネット盤を張着し、さ、らに各分離槽におけるマ
    グネット盤には流れ方向とは直交しかつ轟該マグネット
    磐とは極性の異なるマグネット突起を!1#分離槽の液
    面よ〉低い高さで央設し、各分離槽のマグネット盤上面
    に上記流れ方向と直交する方向に走行されるスクレー/
    fを摺接させ、各分離槽において各々マグネット盤およ
    びマグネット突起に吸着され九−性体を上記スクレー/
    4で分離ケースの外部へ排除するようにし友ことを特徴
    とする磁性体混在液の磁性体分離装置。
JP57034648A 1982-03-05 1982-03-05 磁性体混在液の磁性体分離装置 Granted JPS58153548A (ja)

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JPS62164947U (ja) * 1986-04-03 1987-10-20
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