JPS58147704A - カラ−固体撮像素子の製造方法 - Google Patents
カラ−固体撮像素子の製造方法Info
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- JPS58147704A JPS58147704A JP57031231A JP3123182A JPS58147704A JP S58147704 A JPS58147704 A JP S58147704A JP 57031231 A JP57031231 A JP 57031231A JP 3123182 A JP3123182 A JP 3123182A JP S58147704 A JPS58147704 A JP S58147704A
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0216—Coatings
- H01L31/02161—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/02162—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は0OD(チャージ カップルドデバイX)、B
BD(パケット ブリゲート・デバイス)、0ID(チ
ャージ・インジェクション・デバイス)等のカラー固体
撮像素子の製造方法に関する。
BD(パケット ブリゲート・デバイス)、0ID(チ
ャージ・インジェクション・デバイス)等のカラー固体
撮像素子の製造方法に関する。
色分峨用カラーフィルターを備えた固体撮儂稟子、即ち
、カラー固体撮像素子の作成法とし−C,固体撮1象素
子の形成さ九たウェハー上にカラーフィルターを直接形
成する方法(I′[接形成法)が、精度に優れ歩留の高
い方法として知られているこの直接形成法として染料や
順科の色材の蒸着膜を利用する方法がある。
、カラー固体撮像素子の作成法とし−C,固体撮1象素
子の形成さ九たウェハー上にカラーフィルターを直接形
成する方法(I′[接形成法)が、精度に優れ歩留の高
い方法として知られているこの直接形成法として染料や
順科の色材の蒸着膜を利用する方法がある。
この方法は、ウェハー上に色材を蒸着により成膜し、レ
ジストによりマスクを形成した後、色材を選択的に溶解
する溶剤を用いてバターニングを行なうウェット・エツ
チングあるいは、ガス状態のプラズマ・イオン等を用い
−C5色材の灰化を行なうドライエツチングで色要素を
形成する工程を透明中間保護膜(ウェハーや既に形成さ
れた色要素が、エツチングされないように設けられ喪保
護膜)を介して必要なカラーフィルターの色要素の色数
だけ、繰返すものである、ところでエツチング方法の内
、ウェットエツチング法はレジストマスクに影響を与え
ず色材のみを溶解する溶剤の選択がむずかしく、又、色
材の溶解を利用するため、レジストマスクF部の色材へ
の侵食を紡ぐのは、むずかしく微細な形状を得ることが
困難である。以上のような欠点はドライエツチング法に
は見うけられない。
ジストによりマスクを形成した後、色材を選択的に溶解
する溶剤を用いてバターニングを行なうウェット・エツ
チングあるいは、ガス状態のプラズマ・イオン等を用い
−C5色材の灰化を行なうドライエツチングで色要素を
形成する工程を透明中間保護膜(ウェハーや既に形成さ
れた色要素が、エツチングされないように設けられ喪保
護膜)を介して必要なカラーフィルターの色要素の色数
だけ、繰返すものである、ところでエツチング方法の内
、ウェットエツチング法はレジストマスクに影響を与え
ず色材のみを溶解する溶剤の選択がむずかしく、又、色
材の溶解を利用するため、レジストマスクF部の色材へ
の侵食を紡ぐのは、むずかしく微細な形状を得ることが
困難である。以上のような欠点はドライエツチング法に
は見うけられない。
しかし、ドライエツチングにより蒸着膜をバターニング
する際蒸着膜と、同時にレジストマスクも除去されるの
で、レジストマスクをかなり厚くシなければならず、し
たがってパターン1度の劣fヒを招くといった欠点があ
る。又、ウェハー自体や既にバターニングされたカラー
フィルターの色9!素を、ドラ・イエッチングによって
1傷させないように透明中間保護膜を、−色の色要素形
成ごとに必髪とし、この保護膜やレジストマスクが存在
するため、フィルターの透過率が城少し、フレアー光が
増大するといった欠点もある。さらに色材膜自体は蒸着
によるため、耐熱性に優れるにもかかわらず中間保護膜
セフシストマスクが、耐熱性に劣るためカラーツイヤタ
ー全体としての耐熱性も劣化する、しかし−〔、本発明
は上記した如き欠点のないカラー固体1涜素子の製造方
法を堤供することを、1念る目的とする、叩ち、本発明
は色材の蒸着膜を利用しなから蒸;II膜のエツチング
及び中間保護膜を不要とし、ウニバー上に色材の蒸着膜
のみからなる色要素を有するカラー固体撮像素子の製造
方法を提供するものである。
する際蒸着膜と、同時にレジストマスクも除去されるの
で、レジストマスクをかなり厚くシなければならず、し
たがってパターン1度の劣fヒを招くといった欠点があ
る。又、ウェハー自体や既にバターニングされたカラー
フィルターの色9!素を、ドラ・イエッチングによって
1傷させないように透明中間保護膜を、−色の色要素形
成ごとに必髪とし、この保護膜やレジストマスクが存在
するため、フィルターの透過率が城少し、フレアー光が
増大するといった欠点もある。さらに色材膜自体は蒸着
によるため、耐熱性に優れるにもかかわらず中間保護膜
セフシストマスクが、耐熱性に劣るためカラーツイヤタ
ー全体としての耐熱性も劣化する、しかし−〔、本発明
は上記した如き欠点のないカラー固体1涜素子の製造方
法を堤供することを、1念る目的とする、叩ち、本発明
は色材の蒸着膜を利用しなから蒸;II膜のエツチング
及び中間保護膜を不要とし、ウニバー上に色材の蒸着膜
のみからなる色要素を有するカラー固体撮像素子の製造
方法を提供するものである。
本発明によるカラー固体撮像素子のa漬方法は固体撮嗜
素子が形成されているウェハー上にv シX )−rス
フを形成する工程、レジストマスクが形成されたウェハ
ー上に色材1kl!!1着する[程およびレジストマス
クを溶解除去するコトニよりレジストマスク上の色材蒸
着1を選択的除去する工程を有することを特徴とするも
のである0 本発明の方法によれば、カラーフィルター・パターニン
グの際1色材膜のエツチング処理が不要のためウェハー
や既に形成された色1!素が、さらに浸食される啼れは
なく、よって中間保護膜を必要としない。したがって1
色要素は色材膜のみとなるため中間保護膜やレジストマ
スクによる光の吸収や反射がなく、透過光の減少11.
を生じない。また、耐熱性に劣る中間保護膜セレジスト
マスクがなくてもよいので耐熱性の優れたカラーフィル
ターが得られる。)また色材は蒸着により成膜するため
、たとえ蒸着されるウェハーの表面が凹凸となっていて
も、その表面に沿って平行に色材膜が形成されるため、
分光特性の場所的なばらつきは生じないなど顕著な効果
を有するものである。
素子が形成されているウェハー上にv シX )−rス
フを形成する工程、レジストマスクが形成されたウェハ
ー上に色材1kl!!1着する[程およびレジストマス
クを溶解除去するコトニよりレジストマスク上の色材蒸
着1を選択的除去する工程を有することを特徴とするも
のである0 本発明の方法によれば、カラーフィルター・パターニン
グの際1色材膜のエツチング処理が不要のためウェハー
や既に形成された色1!素が、さらに浸食される啼れは
なく、よって中間保護膜を必要としない。したがって1
色要素は色材膜のみとなるため中間保護膜やレジストマ
スクによる光の吸収や反射がなく、透過光の減少11.
を生じない。また、耐熱性に劣る中間保護膜セレジスト
マスクがなくてもよいので耐熱性の優れたカラーフィル
ターが得られる。)また色材は蒸着により成膜するため
、たとえ蒸着されるウェハーの表面が凹凸となっていて
も、その表面に沿って平行に色材膜が形成されるため、
分光特性の場所的なばらつきは生じないなど顕著な効果
を有するものである。
また、本発明のカラー固体撮像素子の製造方法は、ウェ
ハーが酸化、エツチング、デポジション、拡散などの工
程を経て撮像素子の機能を持った時点で引きつづいて行
うこともできる。
ハーが酸化、エツチング、デポジション、拡散などの工
程を経て撮像素子の機能を持った時点で引きつづいて行
うこともできる。
とれによって、ウェハーの製造とカラーフィルターの製
造とを連続的に行うことができる。また、本発明による
方法においてはウェハーにカラーフィルターを貼り付け
る歩留秒低下の原因となる工程は存しない。
造とを連続的に行うことができる。また、本発明による
方法においてはウェハーにカラーフィルターを貼り付け
る歩留秒低下の原因となる工程は存しない。
次に第1図から第4図により本発明の代表的な態様を説
明する。
明する。
まず第1図のようにウェハー1上にレジスト膜2をスピ
ンナー等の塗布装置を用い塗布した後、プリベークし、
ストライプあるいはモザイクといった任意形状のマスク
を用い、露光現偉を行な゛い、第2図のようにマスクパ
ターン形成を行なう。このレジストマスク3は蒸着後、
溶解除去するため、必要に応じて全面露光を行なってお
く。そして、第3図のように希望の分光特性を有する色
材を1層あるいは2層以上、蒸着し色材蒸着膜4を形成
する。しかるのち、レジストマスクを溶解除去すること
により、レジストマスク上の色材蒸着膜を選択的に除去
し、第4図のような所望の色材蒸着膜の色要素5を得る
。?:、のようにレジストマスクは蒸着膜のド層にあっ
て除去されるので以下、アンダーマスクと称する。
ンナー等の塗布装置を用い塗布した後、プリベークし、
ストライプあるいはモザイクといった任意形状のマスク
を用い、露光現偉を行な゛い、第2図のようにマスクパ
ターン形成を行なう。このレジストマスク3は蒸着後、
溶解除去するため、必要に応じて全面露光を行なってお
く。そして、第3図のように希望の分光特性を有する色
材を1層あるいは2層以上、蒸着し色材蒸着膜4を形成
する。しかるのち、レジストマスクを溶解除去すること
により、レジストマスク上の色材蒸着膜を選択的に除去
し、第4図のような所望の色材蒸着膜の色要素5を得る
。?:、のようにレジストマスクは蒸着膜のド層にあっ
て除去されるので以下、アンダーマスクと称する。
以上のような工程を、希望の色の数繰返すことによシ、
色材蒸着膜のみからなるカラーフィルターを、ウェハー
上に形成できる。また、さらに必要に応じてカラーフィ
ルター形成工程が終了した時点でi)ラーフィルター及
びウェハーの保護膜を兼ねて、ポリウレタン樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、シリコン樹脂、ガラスレジン、ポリ
パラキシレン樹脂、Si、Nい5102、Ajlo、、
Ta、O,lなどを、スピンナー塗布法あるいは蒸着法
等によって被覆層として形成することにより、層耐久性
に優れるカラー固体撮峰素子を製造することができる。
色材蒸着膜のみからなるカラーフィルターを、ウェハー
上に形成できる。また、さらに必要に応じてカラーフィ
ルター形成工程が終了した時点でi)ラーフィルター及
びウェハーの保護膜を兼ねて、ポリウレタン樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、シリコン樹脂、ガラスレジン、ポリ
パラキシレン樹脂、Si、Nい5102、Ajlo、、
Ta、O,lなどを、スピンナー塗布法あるいは蒸着法
等によって被覆層として形成することにより、層耐久性
に優れるカラー固体撮峰素子を製造することができる。
ここで、蒸着に用いられる色材は昇華あるいは蒸発可能
な染料、あるいは顔料で、アンダーマスクを溶解する除
用いる溶剤に不溶であるものが適宜用いられる。
な染料、あるいは顔料で、アンダーマスクを溶解する除
用いる溶剤に不溶であるものが適宜用いられる。
これらの条件を満たす染料、顔料について、いくつかの
具体例(商品名)を挙げると、7・′ 7、′ ° ユニ゛) 2′/ 、、−””44:;’ej”i その他 鉛 7タCIVアニン 亜鉛 クロム ニッケル 鉄 金 又、アンダーマスクに使用されるレジストは市販されて
いる各種のレジストが適宜用いられる。その代表的なも
の(商品名)を挙げると、フォト・レジストとしては、 ’0IFPR71J −、((2,77、78,800
)″”OMRシリーズ(81,83,85,87)″T
PR″″’8VR”’0EIR””TP8″以上東京応
化製、”KMPR−809″”KMR−747”@KM
R−752”@KTFR″”KPR””KPR−3″″
KPR−4”以上コダック製、 @JBR−C!BR”
J8R−OBR−9Q1″” J8R−CIR−701
″以上日本合成ゴム製” Waycoat L8工RA
siat″”HPRPositive Re5ist
(104,106)−@Waycoat(HNR。
具体例(商品名)を挙げると、7・′ 7、′ ° ユニ゛) 2′/ 、、−””44:;’ej”i その他 鉛 7タCIVアニン 亜鉛 クロム ニッケル 鉄 金 又、アンダーマスクに使用されるレジストは市販されて
いる各種のレジストが適宜用いられる。その代表的なも
の(商品名)を挙げると、フォト・レジストとしては、 ’0IFPR71J −、((2,77、78,800
)″”OMRシリーズ(81,83,85,87)″T
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″以上日本合成ゴム製” Waycoat L8工RA
siat″”HPRPositive Re5ist
(104,106)−@Waycoat(HNR。
FINR−999、Negative HR,IC、T
ype 3IC,sa)”以上ハント製、 遠紫外用レジストとしては、 ”0DURシリーズ(1000,1001、101θ、
1014゜110WFt、 120 ) ”東京応化製
、” A Z 2400−DUV”7プレイ製” HP
R(204,206)″ハント製、電子ビーム用レジス
トとしては、 ” ogBR(1oon、1o1o、1o3o、tnn
) ”東京応化製@5zL(a、Type人、 Typ
e IF )″ソマール製、”FMR(1101,11
02)”富士薬品製、@EBR(1゜9)′東し製など
が挙げられる。
ype 3IC,sa)”以上ハント製、 遠紫外用レジストとしては、 ”0DURシリーズ(1000,1001、101θ、
1014゜110WFt、 120 ) ”東京応化製
、” A Z 2400−DUV”7プレイ製” HP
R(204,206)″ハント製、電子ビーム用レジス
トとしては、 ” ogBR(1oon、1o1o、1o3o、tnn
) ”東京応化製@5zL(a、Type人、 Typ
e IF )″ソマール製、”FMR(1101,11
02)”富士薬品製、@EBR(1゜9)′東し製など
が挙げられる。
実施例
固体撮像素子が、10個形成されたウェハー上にスピン
ナー癒布法により、ポジ型レジスト(商品名: OD
U R1013,東京応化製)を、5(1(10〜70
00人の膜厚に塗布した。
ナー癒布法により、ポジ型レジスト(商品名: OD
U R1013,東京応化製)を、5(1(10〜70
00人の膜厚に塗布した。
120℃20分のプリベークを行なった後、遠紫外光に
てマスク露光を行ないOD 17 R1010シリーズ
用専用現像液に3分浸漬し、同じく専用リンス液に2分
浸漬して、アンダーマスクを形成し7た。次にアンダー
マスクの形成されたウェハー全面に露光を行ない、溶剤
に可溶とした。続いてウェハーと、 Moボートに詰め
九N1−フタロシアニンを真空容°器内に設置し、真空
度10〜10torr においてMoボートを450〜
5500に加熱しN1−7タロシアニンの蒸着を行なつ
九。膜厚は3000人とした。しかる後に0DURIO
Irlシリーズ専用現像液中にて浸漬攪拌を行ない、7
ンタ゛−・マスクを溶解すると、同時に蒸着膜の不要部
分を除去し、青色要素Bをウエノ・−上に形成した。
てマスク露光を行ないOD 17 R1010シリーズ
用専用現像液に3分浸漬し、同じく専用リンス液に2分
浸漬して、アンダーマスクを形成し7た。次にアンダー
マスクの形成されたウェハー全面に露光を行ない、溶剤
に可溶とした。続いてウェハーと、 Moボートに詰め
九N1−フタロシアニンを真空容°器内に設置し、真空
度10〜10torr においてMoボートを450〜
5500に加熱しN1−7タロシアニンの蒸着を行なつ
九。膜厚は3000人とした。しかる後に0DURIO
Irlシリーズ専用現像液中にて浸漬攪拌を行ない、7
ンタ゛−・マスクを溶解すると、同時に蒸着膜の不要部
分を除去し、青色要素Bをウエノ・−上に形成した。
続いて、青色要素の形成されたウェハー上に同様K 0
DUR1013をスピンナー塗布し露光、現前、リンス
工程を経て、膜厚1μのアンダーマスクを形成した。全
面露光後、ウェハーを真空容器内に設置してリオノゲン
マゼンタR(東洋インキ製)を400〜500°Cに加
熱し蒸着を行なった。膜厚は3000Aであった。しか
る後に現懺液中にて浸漬攪拌し、赤色要素R4形成した
。
DUR1013をスピンナー塗布し露光、現前、リンス
工程を経て、膜厚1μのアンダーマスクを形成した。全
面露光後、ウェハーを真空容器内に設置してリオノゲン
マゼンタR(東洋インキ製)を400〜500°Cに加
熱し蒸着を行なった。膜厚は3000Aであった。しか
る後に現懺液中にて浸漬攪拌し、赤色要素R4形成した
。
さらに同様の工程によりリオノゲンイエローRX(東洋
インキ製)を400〜500“°Cに加熱して蒸着後、
不要部分を除去し黄色要素Yを得た。膜厚は4000人
であった。
インキ製)を400〜500“°Cに加熱して蒸着後、
不要部分を除去し黄色要素Yを得た。膜厚は4000人
であった。
以上のように、顔料を3色繰返してバター二/グする仁
とKより、第5図に示されるような青、赤、黄の3色か
らなるカラーフィルターがウェハー上に形成された。各
色要素の大角さμm0I浦X20μ溝であった。
とKより、第5図に示されるような青、赤、黄の3色か
らなるカラーフィルターがウェハー上に形成された。各
色要素の大角さμm0I浦X20μ溝であった。
なお、従来法との比較の意味で以下の方法によるカラー
固体撮像素子の作成を試みた。
固体撮像素子の作成を試みた。
まず、色材を、蒸着後ネガ型レジストと17で(商品名
: 0DURIIOWR,東京応化製)を用いレジスト
マスク6を形成し、酸素ガスプラズマにてドライエツチ
ングを行ない青色要素Bを形成した後、スピンナー装置
によH0DURIIOWRt。
: 0DURIIOWR,東京応化製)を用いレジスト
マスク6を形成し、酸素ガスプラズマにてドライエツチ
ングを行ない青色要素Bを形成した後、スピンナー装置
によH0DURIIOWRt。
1μに塗布し中間保護膜7とした。以上の工程を、実施
例と同一め顔料を用いて行い、第6図に示すような青、
赤および黄色の色要素、B、RおよびYを形成した。
例と同一め顔料を用いて行い、第6図に示すような青、
赤および黄色の色要素、B、RおよびYを形成した。
上記の従来法によるものと、本発明によるものとの性能
比較を、以下に示す。
比較を、以下に示す。
第1表
以上のように本発明によるカラー固体撮像素子は、従来
法により作成したものと比較して、ウニ・・−表面凹凸
によって、色要素中間保!!膜およびレジストマスクの
厚さが、場所によって異なり分光特性のばらつきが少な
く又、光透過率に優れ、撮像特性は良好であった。又、
2(10rF1時間の耐熱試験後も何ら特性に影響は見
られなかった。
法により作成したものと比較して、ウニ・・−表面凹凸
によって、色要素中間保!!膜およびレジストマスクの
厚さが、場所によって異なり分光特性のばらつきが少な
く又、光透過率に優れ、撮像特性は良好であった。又、
2(10rF1時間の耐熱試験後も何ら特性に影響は見
られなかった。
第1図、第2図、第3図および第4図は本発明によるカ
ラー固体撮像素子の製造工程を示し、第1図はレジスト
膜製造工程、第2図はレジストマスク製造1椙、第3図
は色材蒸着膜製造り程、および第4図は色要素製造工程
の説明図である。第5図は、本発明により製造した育、
赤、黄3色からなるカラー固体撮像素子の一例である。 又、第6図は、色材を蒸着後ドライエッチンクニよりパ
ターンニングを行なう従来法によシ製造した青、赤、黄
3色からなるカラー固体撮像素子の一例である。 1・・・固体撮像素子の形成されているウニ・・−2・
・・レジスト膜 3・・・レジストマスク 4・・・色材蒸着膜 5・・・色要素 Y・・・黄色要素 B・・背合要素 6・・・レジストマスク 7・・透明中間保護膜 出願人 キャノン株式会社 手続補正書(自発) 昭和57年8月25日 特許庁長官 着膨 和 夫 殿 1、事件の表示 昭和57年 特許願 第 61261 号2、発明
の名称 カラー固体撮像素子の製造方法 3、補正をする者 19件との関係 t!jI:’f小出1f
iと1称 (100)キャノン株式会社 代表若賀米龍三部 5、補正の対象 一明細書の「発明の詳細な説明」の欄 6、補正の内容 1 明細書第10頁第4行目における[パリオゲンレッ
ドL3870 (BASF) 71145 Jなる記載
ml削除する。 2 明細書第11頁第5行目における「パリオゲンレッ
ドL388oHD(BASF) 71155 Jなる記
載を削除する。 3 明細書第11頁第6行目における[パリオゲンマル
ーンL3820 ( u ) 71130 Jなる記載
を削除する。 4 明細書箱11頁第1、4行目における「カヤセラト
スカーレットE−2R (日本化薬)」なる記載を削
除する。 5 明細書第12頁第9行目における「イルガジンレツ
ドBPT(#)Jなる記載を削除する1、6 明細書第
12頁最下行における「インダンスレンレッドCG(
N ) 71130 Jなる記載を削除−・する。 7 明細書第13頁第2行目における「インダンスレン
スカーレットR(バイエル) 71140J する記
載を削除する。 8 明細書第16頁第4行目における「インダンスレン
ブリリアントレッドLGG (BASF)71135J
なる記載を削除する。
ラー固体撮像素子の製造工程を示し、第1図はレジスト
膜製造工程、第2図はレジストマスク製造1椙、第3図
は色材蒸着膜製造り程、および第4図は色要素製造工程
の説明図である。第5図は、本発明により製造した育、
赤、黄3色からなるカラー固体撮像素子の一例である。 又、第6図は、色材を蒸着後ドライエッチンクニよりパ
ターンニングを行なう従来法によシ製造した青、赤、黄
3色からなるカラー固体撮像素子の一例である。 1・・・固体撮像素子の形成されているウニ・・−2・
・・レジスト膜 3・・・レジストマスク 4・・・色材蒸着膜 5・・・色要素 Y・・・黄色要素 B・・背合要素 6・・・レジストマスク 7・・透明中間保護膜 出願人 キャノン株式会社 手続補正書(自発) 昭和57年8月25日 特許庁長官 着膨 和 夫 殿 1、事件の表示 昭和57年 特許願 第 61261 号2、発明
の名称 カラー固体撮像素子の製造方法 3、補正をする者 19件との関係 t!jI:’f小出1f
iと1称 (100)キャノン株式会社 代表若賀米龍三部 5、補正の対象 一明細書の「発明の詳細な説明」の欄 6、補正の内容 1 明細書第10頁第4行目における[パリオゲンレッ
ドL3870 (BASF) 71145 Jなる記載
ml削除する。 2 明細書第11頁第5行目における「パリオゲンレッ
ドL388oHD(BASF) 71155 Jなる記
載を削除する。 3 明細書第11頁第6行目における[パリオゲンマル
ーンL3820 ( u ) 71130 Jなる記載
を削除する。 4 明細書箱11頁第1、4行目における「カヤセラト
スカーレットE−2R (日本化薬)」なる記載を削
除する。 5 明細書第12頁第9行目における「イルガジンレツ
ドBPT(#)Jなる記載を削除する1、6 明細書第
12頁最下行における「インダンスレンレッドCG(
N ) 71130 Jなる記載を削除−・する。 7 明細書第13頁第2行目における「インダンスレン
スカーレットR(バイエル) 71140J する記
載を削除する。 8 明細書第16頁第4行目における「インダンスレン
ブリリアントレッドLGG (BASF)71135J
なる記載を削除する。
Claims (1)
- 固体撮偉素子が形成されているウェハー上にレジストマ
スクを形成する工程、レジストマスクが形成され九ウェ
ハー上に色材を蒸着する工程およびレジストマスクを溶
解除去することによりレジストマスク上め色材蒸着層を
選択的除去する工程を有することを特徴とするカラー固
体撮僧素子の製造方法〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57031231A JPS58147704A (ja) | 1982-02-26 | 1982-02-26 | カラ−固体撮像素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57031231A JPS58147704A (ja) | 1982-02-26 | 1982-02-26 | カラ−固体撮像素子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58147704A true JPS58147704A (ja) | 1983-09-02 |
Family
ID=12325633
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57031231A Pending JPS58147704A (ja) | 1982-02-26 | 1982-02-26 | カラ−固体撮像素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58147704A (ja) |
-
1982
- 1982-02-26 JP JP57031231A patent/JPS58147704A/ja active Pending
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