JPS5814716A - 梨地面を有つポリエステルエンボスフイルムの製造方法 - Google Patents
梨地面を有つポリエステルエンボスフイルムの製造方法Info
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- JPS5814716A JPS5814716A JP11226381A JP11226381A JPS5814716A JP S5814716 A JPS5814716 A JP S5814716A JP 11226381 A JP11226381 A JP 11226381A JP 11226381 A JP11226381 A JP 11226381A JP S5814716 A JPS5814716 A JP S5814716A
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- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はポリエステルフィルムの表面に硬質の粒子を投
射してフィルム表面を梨地加工し、併せてエンボス加工
を施す梨地面をもつポリエステルフィルムの製造方法に
係る。
射してフィルム表面を梨地加工し、併せてエンボス加工
を施す梨地面をもつポリエステルフィルムの製造方法に
係る。
一方、ポリエステルフィルムに梨地加工を施すことは公
知である。梨地加工法としては無機微粒子を含む重合体
の融液又は溶液をフィルム表面に塗布積層する所謂ケミ
カルマットがある。
知である。梨地加工法としては無機微粒子を含む重合体
の融液又は溶液をフィルム表面に塗布積層する所謂ケミ
カルマットがある。
無機微粒子は酸化チタン、シリカ、カオリン。
炭酸カルシウム、アルミナ等の粒径が約０．１μ（ミク
ロン）乃至１０μ程のものである。０１乃至２５重量％
を含む無機微粒子の塗膜を形成されたポリエステルフィ
ルムは白色で鉛筆などで書写が可能となるほか印刷性や
接着性も改良される。他の梨地加工法として珪砂、ガラ
スピーズ等の微細な粒子を高速空気流と共に、或は遠心
力を利用してフィルム表面に噴射或は投射し、フィルム
表面に凹凸を形成させ表面の艶消しを施すことも知られ
ている。この所謂サンドマット加工も表面を活性を与え
、印刷性や接着性を改良することができる。この処理の
場合もフィルムは書写可能であり、表面光沢を抑えて装
飾材料や合成紙としての用途がある。更に、ポリエステ
ルに相当量の無機微粒子を添加して製膜延伸を施すこと
により、同様な艶消し効果を備えた梨地状フィルムが得
られる。
ロン）乃至１０μ程のものである。０１乃至２５重量％
を含む無機微粒子の塗膜を形成されたポリエステルフィ
ルムは白色で鉛筆などで書写が可能となるほか印刷性や
接着性も改良される。他の梨地加工法として珪砂、ガラ
スピーズ等の微細な粒子を高速空気流と共に、或は遠心
力を利用してフィルム表面に噴射或は投射し、フィルム
表面に凹凸を形成させ表面の艶消しを施すことも知られ
ている。この所謂サンドマット加工も表面を活性を与え
、印刷性や接着性を改良することができる。この処理の
場合もフィルムは書写可能であり、表面光沢を抑えて装
飾材料や合成紙としての用途がある。更に、ポリエステ
ルに相当量の無機微粒子を添加して製膜延伸を施すこと
により、同様な艶消し効果を備えた梨地状フィルムが得
られる。
他方、ポリエステルフィルムにエンボス加工を施して、
表面に規則的又は不規則な凹凸模様を形成させることも
公知である。このエンボス加工されたフィルムは離型材
、装飾材、電線被覆材、包装材として使用され得る。例
えばエンボスの粗な模様を有するものは、エンボス加工
に伴うフィルム表面の微細な傷、表面凹凸に伴う局部的
なフィルムの非平面性によって光線反射性や光線透過性
が微妙に変化し、好ましい艶消し効果を呈する。更に粗
なエンボス模様は、離型材として使用する場合には、成
型品の表面に転写効果をもたらすことから、好ましい材
料となる。
表面に規則的又は不規則な凹凸模様を形成させることも
公知である。このエンボス加工されたフィルムは離型材
、装飾材、電線被覆材、包装材として使用され得る。例
えばエンボスの粗な模様を有するものは、エンボス加工
に伴うフィルム表面の微細な傷、表面凹凸に伴う局部的
なフィルムの非平面性によって光線反射性や光線透過性
が微妙に変化し、好ましい艶消し効果を呈する。更に粗
なエンボス模様は、離型材として使用する場合には、成
型品の表面に転写効果をもたらすことから、好ましい材
料となる。
本発明は、艶消し処理を経たポリエステルニ軸配向フィ
ルムにエンボス加工を併せて実施する新しい試みを行っ
たところ、珪砂等の投射材粒子を吹付け゛〔艶消処理し
たフィルムの処理表面に直ちにエンボス加工を施すと、
サンドブラスト加工フィルムのもつ表面が汚れ易い欠点
が解消できることを知見したものである。
ルムにエンボス加工を併せて実施する新しい試みを行っ
たところ、珪砂等の投射材粒子を吹付け゛〔艶消処理し
たフィルムの処理表面に直ちにエンボス加工を施すと、
サンドブラスト加工フィルムのもつ表面が汚れ易い欠点
が解消できることを知見したものである。
従来のサンドマットフィルムは、その表面に珪砂等が衝
突した際に生じた微細な破砕片、ひげ状のフィブリル等
が多量に在り、アルカリ処理等によって表面を洗浄して
も、なお相当量の破砕片が残存していて、離型材として
使用する際に、成型品にこの破砕片やフィブリルが転写
される場合があり、問題となっていた。しかも、表面の
フィブリルや破砕片は油汚れや塵埃耐着汚れが起き易く
、合成紙やトレース用ボードとしても問題があった。本
発明では、サンドマットフィルムの表面を極めて微細な
二ンポス刻印をもつエンボスロールで抑圧処理して、フ
ィルム表面の破砕片やフィブリルをフィルム自体に圧接
処理するか除去するものである。
突した際に生じた微細な破砕片、ひげ状のフィブリル等
が多量に在り、アルカリ処理等によって表面を洗浄して
も、なお相当量の破砕片が残存していて、離型材として
使用する際に、成型品にこの破砕片やフィブリルが転写
される場合があり、問題となっていた。しかも、表面の
フィブリルや破砕片は油汚れや塵埃耐着汚れが起き易く
、合成紙やトレース用ボードとしても問題があった。本
発明では、サンドマットフィルムの表面を極めて微細な
二ンポス刻印をもつエンボスロールで抑圧処理して、フ
ィルム表面の破砕片やフィブリルをフィルム自体に圧接
処理するか除去するものである。
本発明によれば、艶消面がよく処理されたエンボスフィ
ルムが得られ、種々の用途に適合する高品位の製品が得
られる利点がある。
ルムが得られ、種々の用途に適合する高品位の製品が得
られる利点がある。
本発明の構成は、
（、） 未延伸ポリエステルフィルムを逐次二軸延伸
又は同時二軸延伸する工程、 ５− （ｂ） 前記二軸延伸フィルムに粒子を吹付けてフィ
ルム表面を梨地化（艶消し化）する工程、（ｃ）前記梨
地処理フィルムを１５０℃乃至２３０℃の温度域におい
て加熱する工程、 （ｄ） 前記フィルムの梨地加工された表面と金属製
エンボスルール表面とを密接させてエンボス加工を施す
工程、及び、 （、） 要すれば、エンボス加工されたフィルムを更
に１５０℃乃至２５０℃の温度で熱固定する工程、 を含む梨地表面を有するポリエステルからなるエンボス
フィルムの製造方法、 である。
又は同時二軸延伸する工程、 ５− （ｂ） 前記二軸延伸フィルムに粒子を吹付けてフィ
ルム表面を梨地化（艶消し化）する工程、（ｃ）前記梨
地処理フィルムを１５０℃乃至２３０℃の温度域におい
て加熱する工程、 （ｄ） 前記フィルムの梨地加工された表面と金属製
エンボスルール表面とを密接させてエンボス加工を施す
工程、及び、 （、） 要すれば、エンボス加工されたフィルムを更
に１５０℃乃至２５０℃の温度で熱固定する工程、 を含む梨地表面を有するポリエステルからなるエンボス
フィルムの製造方法、 である。
本発明を説明する。
本発明に供する未延伸ポリエステルフィルムとは、ポリ
エチレンテレフタレート、ホリエチレンナフタレンジ力
ルポキシレート、ポリエチレンテレフタレートなどで代
表される線状芳香族ポリマーである。これらのポリエス
テルはホモポリマーの他にコポリマーやポリマープレン
６− ドを含むものである。未延伸フィルムはこれらのポリエ
ステルを熔融し、押出ダイを介して筒状又はシート状忙
押出し、冷却ドラム表面において急冷するとよい。＃膜
時に冷却ドラＡＫ靜電ピンニングを施す他にも、水槽等
に浸漬して急冷することもできる。ポリエチレンテレフ
タレートの場合は、固有粘度０．４〜０９程度の重合度
のものを使用し、２８０〜３００℃でＴダイを介して赤
面温度３０〜６０℃程度の冷却ドラム上に押出し、シー
ト状にドラム表面に密着させるとよい。
エチレンテレフタレート、ホリエチレンナフタレンジ力
ルポキシレート、ポリエチレンテレフタレートなどで代
表される線状芳香族ポリマーである。これらのポリエス
テルはホモポリマーの他にコポリマーやポリマープレン
６− ドを含むものである。未延伸フィルムはこれらのポリエ
ステルを熔融し、押出ダイを介して筒状又はシート状忙
押出し、冷却ドラム表面において急冷するとよい。＃膜
時に冷却ドラＡＫ靜電ピンニングを施す他にも、水槽等
に浸漬して急冷することもできる。ポリエチレンテレフ
タレートの場合は、固有粘度０．４〜０９程度の重合度
のものを使用し、２８０〜３００℃でＴダイを介して赤
面温度３０〜６０℃程度の冷却ドラム上に押出し、シー
ト状にドラム表面に密着させるとよい。
未延伸フィルムの延伸条件も公知の手段が使用できる。
逐次二軸延伸の場は、例えばポリエチレンテレフタレー
トでは、第一段は加熱ρ−ラーを使用して８０〜１００
℃の温度で２〜５倍機械方向に延伸し、急冷するか又は
急冷せずにステンターを使用して８５〜１１０℃程度の
温度で２．５〜４５倍幅方向に延伸する。同時二軸延伸
の場合には８０〜１００℃程度の温度で機械方向と幅方
向ともに２〜５倍の延伸倍率で延伸するとよい。一般に
、融点の高いポリエステルでは高目の温度で延伸を施す
方が容易である。延伸温度はガラス転移点よりも約１０
℃高温の温度が下限であり、結晶化速度の低いポリエス
テルでは延伸上限温度は面目に設足できる。
トでは、第一段は加熱ρ−ラーを使用して８０〜１００
℃の温度で２〜５倍機械方向に延伸し、急冷するか又は
急冷せずにステンターを使用して８５〜１１０℃程度の
温度で２．５〜４５倍幅方向に延伸する。同時二軸延伸
の場合には８０〜１００℃程度の温度で機械方向と幅方
向ともに２〜５倍の延伸倍率で延伸するとよい。一般に
、融点の高いポリエステルでは高目の温度で延伸を施す
方が容易である。延伸温度はガラス転移点よりも約１０
℃高温の温度が下限であり、結晶化速度の低いポリエス
テルでは延伸上限温度は面目に設足できる。
ガラス転移点よりも７０℃程度高温を延伸上限温度と推
定できよう。
定できよう。
次に工程（ｂ）は二軸配向したポリエステルフィルムの
表面に５０〜３００メツシュ程度の珪砂。
表面に５０〜３００メツシュ程度の珪砂。
ガラスピーズ等の硬質の粒子を空気とともに噴射するこ
とによって、フイルノ、表面を局部的に掘起すような珪
砂等のｆＩｊ突作用による表面凹凸化をもたらす。砂、
ガラスピーズは室温のもので充分であるが、加熱（８０
〜１５０℃）しても支障ない。粒子が衝突する反対側か
らフィルムが衝撃によって変形しないように硬質の当て
板を尚てると噴射効果が高められる。珪砂等は回転翼を
もつ投射器によってフィルム表面に投射することもでき
る。この場合は、加圧空気によるサンドマット化加工と
同質のものが得られろ。この艶消化加工は、工程（ａ）
において、フィルムを熱固定せずに実施することによ
って、従来の二軸配向結晶化処理されたフィルムの艶消
し化よりも操作２作業が容易化されている。従って、サ
ンドブラスト加工な筒速化できる利点がある。これは未
熟同定のフィルムは結晶化が不充分であり、フィルム表
面の硬さも少なくサンドブラスト加工適性が尚いと云え
る。
とによって、フイルノ、表面を局部的に掘起すような珪
砂等のｆＩｊ突作用による表面凹凸化をもたらす。砂、
ガラスピーズは室温のもので充分であるが、加熱（８０
〜１５０℃）しても支障ない。粒子が衝突する反対側か
らフィルムが衝撃によって変形しないように硬質の当て
板を尚てると噴射効果が高められる。珪砂等は回転翼を
もつ投射器によってフィルム表面に投射することもでき
る。この場合は、加圧空気によるサンドマット化加工と
同質のものが得られろ。この艶消化加工は、工程（ａ）
において、フィルムを熱固定せずに実施することによ
って、従来の二軸配向結晶化処理されたフィルムの艶消
し化よりも操作２作業が容易化されている。従って、サ
ンドブラスト加工な筒速化できる利点がある。これは未
熟同定のフィルムは結晶化が不充分であり、フィルム表
面の硬さも少なくサンドブラスト加工適性が尚いと云え
る。
更に、サンドブラスト処理フィルムをエンボス加工する
。先ずフィルムは１５０℃乃至２３０℃に予熱される。
。先ずフィルムは１５０℃乃至２３０℃に予熱される。
この予熱によってフィルムは可塑化状態に到り、エンボ
ス加工が容易となる。
ス加工が容易となる。
予熱されたフィルムはエンボスルールとバンクアップ１
−ルとの間で押圧されて賦型される。
−ルとの間で押圧されて賦型される。
この際−Ｉ：、 ７ポスｐ−ルは′Ｈｔ極的に加熱する
こともできる。加熱する場合には１７０℃〜２２０℃程
度がよい。また積極的に加熱しない場合には、使用中に
フィルムの熱を受けて徐々に昇温しフィルム温度よりも
１０℃〜５０℃低い温度でほぼ平衡となる。この場合に
は、予熱フィル ９− ムのエンボス加工初期の製品と平衡状態に加温された加
工途中のものでは、二ンポス賦型の形態、熱的堅牢性な
どに差異が生ずることがある。
こともできる。加熱する場合には１７０℃〜２２０℃程
度がよい。また積極的に加熱しない場合には、使用中に
フィルムの熱を受けて徐々に昇温しフィルム温度よりも
１０℃〜５０℃低い温度でほぼ平衡となる。この場合に
は、予熱フィル ９− ムのエンボス加工初期の製品と平衡状態に加温された加
工途中のものでは、二ンポス賦型の形態、熱的堅牢性な
どに差異が生ずることがある。
従って、予熱フィルムのエンボス加工では、エンボスロ
ールを積極的に冷却することも好ましい方法となる。こ
の場合はエンボスロールの温度がフィルムのガラス転移
点以下を保つように冷媒を使用するとよい。
ールを積極的に冷却することも好ましい方法となる。こ
の場合はエンボスロールの温度がフィルムのガラス転移
点以下を保つように冷媒を使用するとよい。
フィルムの艶消処理された表面が、エンボスルーラの刻
印されている面と直接接触するように、ｐ−ル間にフィ
ルムな把持抑圧する必要がある。サンドブラスト処理に
より、フィルムの当骸表面は既述したような破砕片やフ
ィブリルが存在している。これらをエンボスロールによ
って押圧して表面にフィブリルを圧接させる必要がある
。
印されている面と直接接触するように、ｐ−ル間にフィ
ルムな把持抑圧する必要がある。サンドブラスト処理に
より、フィルムの当骸表面は既述したような破砕片やフ
ィブリルが存在している。これらをエンボスロールによ
って押圧して表面にフィブリルを圧接させる必要がある
。
本発明では、サンドブラスト加工とエンボス加工とを一
貫処理することによって、サンドマットフィルムの欠点
である表面の破砕片やフィブリルを圧接し、表面汚れの
少い優れた品質の１０− ものが得られる利点がある。またエンボス加工に伴って
フィルムを予備加熱するため、この工程でフィルムに実
質的な熱処理結晶化をもたらしている。このように、本
発明は加工工程の連結−貫化により、加工性を高めて高
速化（生産性の増大）することや、工程の合理的省略化
がもたらされる。
貫処理することによって、サンドマットフィルムの欠点
である表面の破砕片やフィブリルを圧接し、表面汚れの
少い優れた品質の１０− ものが得られる利点がある。またエンボス加工に伴って
フィルムを予備加熱するため、この工程でフィルムに実
質的な熱処理結晶化をもたらしている。このように、本
発明は加工工程の連結−貫化により、加工性を高めて高
速化（生産性の増大）することや、工程の合理的省略化
がもたらされる。
なお、サンドブラスト加工とエンボス加工によってもな
おフィルムの熱固定が不充分な場合には、フィルムを１
５０℃〜２５０℃の温度範囲で結晶化を更に促すことが
できる。
おフィルムの熱固定が不充分な場合には、フィルムを１
５０℃〜２５０℃の温度範囲で結晶化を更に促すことが
できる。
以下実施例によって更に説明する。
実施例１
固有粘度０．５７ （２ｓ℃においてＯ−りｐｐ＋フェ
ノールにより測定）のポリエチレンテレフタレートを２
８５℃で溶融押出法により製膜し、表面温度を５５℃に
保った冷却ドラム上に固化せしめた。次いで機械方向に
８３℃において３３倍に延伸し、更に幅方向に９２℃に
おいて３４倍に延伸し、厚さ５０μの延伸フィルムを得
た。引続いて、このフィルムの一表面に８０〜２００メ
ツシユの微細な珪砂を加圧空気とともに吹付けて艶消し
加工を施した。次に、この艶消しフィルムを赤外線ヒー
ターを用いて１７０℃に予熱し、直径５１１１１１のド
ツト状で溝深さが１、２１１１１に刻印された金属製エ
ンボスルールとファイバールールとの間を５７ｋｇ／ｃ
１！の加圧下で予熱フィルムを通過せしめてエンボス加
工を施した。この際、艶消し処理表面が金属エンボスρ
−ル表面と接するようにエンボス加工を行った。
ノールにより測定）のポリエチレンテレフタレートを２
８５℃で溶融押出法により製膜し、表面温度を５５℃に
保った冷却ドラム上に固化せしめた。次いで機械方向に
８３℃において３３倍に延伸し、更に幅方向に９２℃に
おいて３４倍に延伸し、厚さ５０μの延伸フィルムを得
た。引続いて、このフィルムの一表面に８０〜２００メ
ツシユの微細な珪砂を加圧空気とともに吹付けて艶消し
加工を施した。次に、この艶消しフィルムを赤外線ヒー
ターを用いて１７０℃に予熱し、直径５１１１１１のド
ツト状で溝深さが１、２１１１１に刻印された金属製エ
ンボスルールとファイバールールとの間を５７ｋｇ／ｃ
１！の加圧下で予熱フィルムを通過せしめてエンボス加
工を施した。この際、艶消し処理表面が金属エンボスρ
−ル表面と接するようにエンボス加工を行った。
得られた梨地加工表面をもつエンボス加工フィルムは表
面が硬化していた。未加工フィルムが２Ｈの硬度の鉛筆
に匹敵するのに対し、エンボス加工フィルムは４Ｈ以上
の鉛鍬硬度に対応する。また加工フィルムはガラス繊維
強化ポリエステル樹脂板の成型の際の離型材に用いたと
ころ、エンボス目の転写により樹脂板に凹凸が形成され
ると同時に、艶消し効果ももたらされることか判明した
。この梨地表面をもつエンボス加工フィルムは離型材と
して再利用ができる利点もある。殊に、エンボス賦型が
堅牢なため、美麗表面をもつ樹脂板が繰返し得られるこ
とが判明した。
面が硬化していた。未加工フィルムが２Ｈの硬度の鉛筆
に匹敵するのに対し、エンボス加工フィルムは４Ｈ以上
の鉛鍬硬度に対応する。また加工フィルムはガラス繊維
強化ポリエステル樹脂板の成型の際の離型材に用いたと
ころ、エンボス目の転写により樹脂板に凹凸が形成され
ると同時に、艶消し効果ももたらされることか判明した
。この梨地表面をもつエンボス加工フィルムは離型材と
して再利用ができる利点もある。殊に、エンボス賦型が
堅牢なため、美麗表面をもつ樹脂板が繰返し得られるこ
とが判明した。
実施例２
実施例１と同様にして未延伸フィルムを得、縦方向に３
１倍、横方向に３５ＦＩＩの延伸倍率で二軸延伸を施し
、厚さ７５μのポリ二チンンテレフタレートフイルムを
得た。このフィルムの両表面に遠心法により微細な珪砂
を衝突させ、トレーシング紙に利用できる程度のサンド
マット加工を施した。次に、この梨地表面をもつフィル
ムを１６０℃に予熱すると共に、化学エツナング処理に
より表面に不規則凹凸を刻印（表面粗度は七ンターラ・
イン７ベレツジによると１２μに相当）を設けた金属エ
ンボス加工ルール２本の間で挟圧して４８’Ｑ？／ｃ！
の加圧下でユニ／ボス処理した。
１倍、横方向に３５ＦＩＩの延伸倍率で二軸延伸を施し
、厚さ７５μのポリ二チンンテレフタレートフイルムを
得た。このフィルムの両表面に遠心法により微細な珪砂
を衝突させ、トレーシング紙に利用できる程度のサンド
マット加工を施した。次に、この梨地表面をもつフィル
ムを１６０℃に予熱すると共に、化学エツナング処理に
より表面に不規則凹凸を刻印（表面粗度は七ンターラ・
イン７ベレツジによると１２μに相当）を設けた金属エ
ンボス加工ルール２本の間で挟圧して４８’Ｑ？／ｃ！
の加圧下でユニ／ボス処理した。
１３−
得られた梨地加エニンポスフィルムは、一般のザンドマ
ットフイルムを使用する際、表面を消ゴｊによりマット
不要部分を除去する作業が不要となり、かつエンボス加
工を附加した結果による表面凹凸により鉛賠賠記性が改
善されていることが判明した。
ットフイルムを使用する際、表面を消ゴｊによりマット
不要部分を除去する作業が不要となり、かつエンボス加
工を附加した結果による表面凹凸により鉛賠賠記性が改
善されていることが判明した。
特許出願人 帝人株式会社
代理人 弁理士 前 １） 純 博１４−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ｌ）下記の工程（−）乃至（ｄ）を含む梨地表面を有す
るポリニスデルからなるエンボスフィルムの製造方法： （ａ）未延伸ポリエステルフィルムを逐次又は同時に機
械方向及び幅方向に二軸延伸する工程、 （ｂ） 二軸延伸フィルＡに粒子を吹付けて該フィル
ム表面を梨地化する工程、 （、） 前記フィルムを１５０℃乃至２３０ ℃の温
度に加熱する工程、及び （ｄｌ 前記フィルムの梨地表面と金属エンボスロー
ル表面とを密接させてフィルムにエンボス加工を施す工
程。 ２）ポリエステルがポリエチレンテレフタレートである
特許請求の範囲第１項記載のエンボスフィルムの製造方
法。 ３）粒子を吹伺けてフィルム表面を梨地化する工程が、
粒子を含有する加圧空気流をフィルム表面に噴射せしめ
るものであるか、又は、粒子を遠心力を利用してフィル
ム表面に投射せしめるものであることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載のエンボスフィルムの製造方法。 ４）フィルムの梨地加工を施された表面側がエンボスル
ール表面と密接せしめられる特許請求の範囲第１項記載
のエンボスフィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11226381A JPS5814716A (ja) | 1981-07-20 | 1981-07-20 | 梨地面を有つポリエステルエンボスフイルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11226381A JPS5814716A (ja) | 1981-07-20 | 1981-07-20 | 梨地面を有つポリエステルエンボスフイルムの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5814716A true JPS5814716A (ja) | 1983-01-27 |
| JPS6331375B2 JPS6331375B2 (ja) | 1988-06-23 |
Family
ID=14582319
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11226381A Granted JPS5814716A (ja) | 1981-07-20 | 1981-07-20 | 梨地面を有つポリエステルエンボスフイルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5814716A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002337228A (ja) * | 2001-05-18 | 2002-11-27 | Dainippon Printing Co Ltd | エンボス加工方法及びそれによるエンボス加工物品 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007083459A (ja) * | 2005-09-20 | 2007-04-05 | Tohcello Co Ltd | 表面粗化フィルム及びその用途 |
-
1981
- 1981-07-20 JP JP11226381A patent/JPS5814716A/ja active Granted
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002337228A (ja) * | 2001-05-18 | 2002-11-27 | Dainippon Printing Co Ltd | エンボス加工方法及びそれによるエンボス加工物品 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6331375B2 (ja) | 1988-06-23 |
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