JPS5814125A - スリツト照明装置 - Google Patents

スリツト照明装置

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Publication number
JPS5814125A
JPS5814125A JP11266481A JP11266481A JPS5814125A JP S5814125 A JPS5814125 A JP S5814125A JP 11266481 A JP11266481 A JP 11266481A JP 11266481 A JP11266481 A JP 11266481A JP S5814125 A JPS5814125 A JP S5814125A
Authority
JP
Japan
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slit
light
longitudinal direction
light source
area
Prior art date
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Pending
Application number
JP11266481A
Other languages
English (en)
Inventor
Masamichi Tatsuoka
立岡 正道
Susumu Seto
瀬戸 進
Hiroaki Tsuchiya
土屋 廣明
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Priority to JP11266481A priority Critical patent/JPS5814125A/ja
Publication of JPS5814125A publication Critical patent/JPS5814125A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/04Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
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    • G03G15/04Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material
    • G03G15/043Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material with means for controlling illumination or exposure
    • G03G15/0435Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material with means for controlling illumination or exposure by introducing an optical element in the optical path, e.g. a filter

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
  • Optical Systems Of Projection Type Copiers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、複写機、7アクシ9す等におけるスリット照
明装置に関する。
スリット露光方式の複写機における原稿照明用の光源と
しては一般に複写原稿幅にほぼ等しい長さの単筒状光源
が用いられることが多いが、光量分布の均一性が得られ
る反面、フィラメントが長く細いため衝撃に弱い欠点が
ある。この単筒状光源に対し、特公昭5!l −419
76、特公昭56−2956号公報等に知られるような
点発光の光源が用いられるものがある。
特公昭5′5−41976号公報に知られるものでは、
点発光の光源からの光束を放物面鏡で反射させ、平行光
束とし、原稿幅相当まで拡げ放物線鏡でスリット状に原
稿面を照明するもので均一な照度を得ることができる。
しかし、放物面鏡、放物線鏡を用いるため、装置のコン
パクト化とりわけ天地方向のコンパクト化が困難である
これに対し、特公昭56−2956号公報に示されるも
のは、結像素子として集束性光学繊維素子(商品名セル
7オツク)を複数個アレイ状に配列した複眼結像系を用
い複写機の一ンバクト化を−るもので、点発光の光源を
内部に配置する扁平な筐体の内面を反射鏡に形成し、光
源からの光束を順次反射転送する所謂ライドガイドと同
等の方式で原稿面を照明するものである。
しかしながら、これによって照射されるスリット領域の
長手方向の照度分布は必ずしも一様にできない。これは
単に多重反射による重畳効果を狙ったものであるからで
ある。ところで、スリット長手方向中央部に点発光の光
源を用いる照明系に娶ってはその直接光によって、照射
されるべきスリット領域の長手方向の周辺部よ、り中央
部で光強度が高くなる。
本発明は点発光の光源を用い、照射されるべきスリット
領域の光強度分布を補償し、複眼結像系を用いたコンパ
クトな複写機に適する照明装置を提供することを目的と
する。
この目的は、光源からの光を所定角度を有する側面鏡に
よりスリット領域長手方向の周辺部に指向させ、周辺部
の光量を上げることにより、またスリット長手方向中央
部への光束を遮光することにより達成される。
以下、添付する図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第1図は、本発明を用いる複写機の概略図である。1は
点発光の光源、2は反射笠、2&はシリンドリカルな楕
円反射鏡、2bは反射光を光源へ戻す背面鏡、6は平面
鏡で、光源1は楕円反射鏡2aの第1焦点位置にあり、
光源1からの光束は、楕円反射鏡2aにより平面鏡6を
介し移動原稿面4の照射されるべきスリット領域5の直
前近傍で°収斂される。2aは楕円反射鏡の他、長平面
鏡等であっても良い。8a、8bは後述する側面鏡であ
る。また、9.10は後述する遮光板である。原稿面4
のスリット領域5は複眼結像系乙により移動感光体7に
スリット状に投影される。
第2図は、光源1の配向特性図である。これにより直接
光によるスリット領域での光強度分布は中央で高く、周
辺で低くなる。ここで光源1の幅Wはスリット領域5の
幅Wの50%以下である。
光源1はスリット長手方向中央部に1個設けるものであ
るが、付加的にスリット長手方向と平行に複数個、直線
状に設けても良い。
第5図は側面鏡の説明図である。第6図で光源1よりス
リット領域長手方向に向かう光束のうちスリット領域W
より外側にはみ出す部分(斜線部)を有効に利用するた
め側面鏡8を設ける。
ここで斜線部を光源の配向特性により光強度に応じて複
数個の領域に区分し、各領域からの光速をスリット領域
に向けて反射させるよう側面鏡8を各々3a、8bと折
り曲げて構成し、各反射部により反射された光束がスリ
ット領域長手方向の中央部でな5周辺部を照射するよう
にする。側面鏡8の第6図で、半画角θ1までの光束は
直接スリット領域を照射し、半画角θ1からθ烏までの
光束、半画角θ3から02までの光束は各々側面鏡8a
、 8bで反射されスリット領域長手方向の周辺部を照
射する。
この側面鏡8の各反射部sa、sbは光源1の直接光に
対してばかりでなく、楕円反射鏡2aで反射された反射
光に対してもスリット領域長手方向の周辺部を照射して
、スリット長手方向の直接光による光強度分布を補償す
るよう作用する。
更にスリット領域の光強度分布を補償するためL・ 第4図に示されるよう円弧を台紐円板の一部からなる遮
光板9.10を各々第1図に示される位置に設け、スリ
ット長手方向中央部を遮光すると良い。遮光板9,10
はどちらか片方だけでも良い。
ここで遮光板10の替わりに平面鏡5の中央部に光吸収
部または赦乱部を設は反射率分布を形成し、スリット領
域の光強度分布を補償しても良い。
なお、遮光板10は楕円反射鏡2&Lの下側端部すなわ
ち遮光板9と対向する位置に設けても良いが、前露光等
、複写プロスス用の光束をとりだす場合には不適当な位
置となる。
このようにして補正された光強度分布を第5図に示す。
以上、本発明によれば側面鏡によりスリット領域長手方
向周辺部での光強度を上げ、遮光板でスリット領域長手
方向中央部での光強度を下げて光強度分布の一様性を図
ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を用いた複写機の概略図、第2回 図は光源の配光特性図、第6図は側面鏡の説明図、第4
図は遮光板の説明図、第5図は補正された光強度分布の
図、 図中、1は光源、2は反射笠、2aは楕円反射鏡、心は
背面鏡、6は平面鏡、4は原稿面、5はスリット領域、
6は複眼結像系、7は移動感光体、8a、8bは側面鏡
、9.10は遮光板である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1ン照明されるべきスリット領域から所定距離隔たり
    スリット長手方向のほぼ中央部に固設されスリット長手
    幅Wの50%以下の幅Wを有する点発光光源と、 該光源を部分的に囲繞する反射笠と、 前記光源の配向特性に応じ複数個に区分された発光領域
    をスリット領域の長手方向周辺部に反射するよう複数個
    の反射面を有する側回線と、光路中にあってスリット領
    域の長手方向中央部への光束を抑える光制御部材とを有
    し、スリット領域における長手方向の光強度分布を一様
    とすることを特徴とするスリット照明装置。 (f)前記光制御部材が光路中の反射面近傍に設けられ
    る特許請求の範囲第1項記載のスリット照明装置。 (3)前記光制御部材が光散乱性である特許請求の範囲
    第1項記載のスリット照明装置。
JP11266481A 1981-07-17 1981-07-17 スリツト照明装置 Pending JPS5814125A (ja)

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JP11266481A JPS5814125A (ja) 1981-07-17 1981-07-17 スリツト照明装置

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JP11266481A JPS5814125A (ja) 1981-07-17 1981-07-17 スリツト照明装置

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JPS5814125A true JPS5814125A (ja) 1983-01-26

Family

ID=14592386

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JP11266481A Pending JPS5814125A (ja) 1981-07-17 1981-07-17 スリツト照明装置

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