JPS58140388A - 半導体結晶の製造装置 - Google Patents
半導体結晶の製造装置Info
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- JPS58140388A JPS58140388A JP2504382A JP2504382A JPS58140388A JP S58140388 A JPS58140388 A JP S58140388A JP 2504382 A JP2504382 A JP 2504382A JP 2504382 A JP2504382 A JP 2504382A JP S58140388 A JPS58140388 A JP S58140388A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B11/00—Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
- C30B11/14—Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method characterised by the seed, e.g. its crystallographic orientation
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(a) 発明の技術分野
本発明は化合物半導体結晶の製造装置の改良に―するも
のである。
のである。
(b) 技術の背景
赤外線レーザのような光電変換素子の材料としては一般
にエネルギーギャップの狭い化合物半導体結晶、例えば
鉛、テルル(P’bT・)の結晶が用いられている。と
ζろでこれらpb丁・の単結晶を形成する際、該結晶の
成分のテルル(T・)か易蒸発性元素であるので−Wk
Kブリッジマン方法が用いられている。
にエネルギーギャップの狭い化合物半導体結晶、例えば
鉛、テルル(P’bT・)の結晶が用いられている。と
ζろでこれらpb丁・の単結晶を形成する際、該結晶の
成分のテルル(T・)か易蒸発性元素であるので−Wk
Kブリッジマン方法が用いられている。
((1) 従来技術と間勤点
この方法に用いる従来の装置は第1図に示すように一端
ムの−尖った石英製のアンプルl中[Pt+Toの材料
が充填され、該アンプルの内部が真空に排気されなから
他端が溶接して封止されている。
ムの−尖った石英製のアンプルl中[Pt+Toの材料
が充填され、該アンプルの内部が真空に排気されなから
他端が溶接して封止されている。
そして仁のアンプルは石英管2中に挿入され。
該石英管が加熱炉3にて加熱されてアンプル内の材料が
溶融されている。アンプル内の材料が溶融され良時点で
伊+jLはモーター噂を用いて該アンプルを除々に矢印
B方向に下降させる。一方加熱炉にFi4に示すような
温度分布を付与しておく。図の温度分布でTatiDp
bT・の融点を示している。
溶融されている。アンプル内の材料が溶融され良時点で
伊+jLはモーター噂を用いて該アンプルを除々に矢印
B方向に下降させる。一方加熱炉にFi4に示すような
温度分布を付与しておく。図の温度分布でTatiDp
bT・の融点を示している。
このようKしてアンプルの尖端部より溶融材料を(2)
化せしめて溶融材料に結晶の執を発生させ順次アンプル
を下降することで前記結晶の枳を成長させて所望のPb
T・の結晶を育成していた。
化せしめて溶融材料に結晶の執を発生させ順次アンプル
を下降することで前記結晶の枳を成長させて所望のPb
T・の結晶を育成していた。
し゛かしこのような従来のgklillを用いたのでは
、先一部の融液界面形状か上に凹であるため、同時に多
数の結晶の執が発生して、多結晶となる友め所望の径を
有する単結晶か歩餉り良く形成されない不s8を生じて
いた。そこでこれらの結晶と結晶の境界である粒界を防
ぐ装置として例えば実公昭55−18379@にて提案
され、!P、2図に具体例を示すようKffI部が平面
状塾を呈したアンプル]1を用意し該アンプルの底部に
上方に向かって凸形形状のカーポジよりなる治J412
を該アンプルに内接すゐようKして股諏する。そして該
アンフル内へPb Teの結晶形成用材料としてPb
Toのそれぞれを所定11IA淘定してから充填したの
ち、該アンプル内を真空に排気する。そして前述した第
1図に示すような反応管2中へ、神入し加熱炉にて加熱
して前記材at溶鹸してからモーター等を用いて除々に
アンプルを)降させ前述し次温度分布4を加熱炉に付与
することでアンプルの底部のカーボン治具上より順次融
液を固化させて単結晶を形成するよう圧していた。
、先一部の融液界面形状か上に凹であるため、同時に多
数の結晶の執が発生して、多結晶となる友め所望の径を
有する単結晶か歩餉り良く形成されない不s8を生じて
いた。そこでこれらの結晶と結晶の境界である粒界を防
ぐ装置として例えば実公昭55−18379@にて提案
され、!P、2図に具体例を示すようKffI部が平面
状塾を呈したアンプル]1を用意し該アンプルの底部に
上方に向かって凸形形状のカーポジよりなる治J412
を該アンプルに内接すゐようKして股諏する。そして該
アンフル内へPb Teの結晶形成用材料としてPb
Toのそれぞれを所定11IA淘定してから充填したの
ち、該アンプル内を真空に排気する。そして前述した第
1図に示すような反応管2中へ、神入し加熱炉にて加熱
して前記材at溶鹸してからモーター等を用いて除々に
アンプルを)降させ前述し次温度分布4を加熱炉に付与
することでアンプルの底部のカーボン治具上より順次融
液を固化させて単結晶を形成するよう圧していた。
このようにするとカーホンは熱伝導度が良好でこのカー
ボンの凸部の曲線に沿うように融液内に等温線が12A
、12B・・・・・・のように順次形成されるようKな
り、この41m1K沿って1lll液が自他されて結晶
が形成される。そして例えと多結晶か発生しても、すな
わち粒界か発生しても成長していく聞にアンプルの内争
面の力へ該粒界が順次押しやられる形となってやがて単
結晶となるため、径の大きい単結晶か歩餉良く得られる
ようKなる。
ボンの凸部の曲線に沿うように融液内に等温線が12A
、12B・・・・・・のように順次形成されるようKな
り、この41m1K沿って1lll液が自他されて結晶
が形成される。そして例えと多結晶か発生しても、すな
わち粒界か発生しても成長していく聞にアンプルの内争
面の力へ該粒界が順次押しやられる形となってやがて単
結晶となるため、径の大きい単結晶か歩餉良く得られる
ようKなる。
しかし上述した従来の装置を用いたのでは、前述のカー
ボン部材12とアンプル11の内壁向との筒の1lIW
kUに結晶の形成材料が入り込んで該材料を溶融する過
程で入り込んだ材料が融液となってこの融#によりカー
ボン部材12が浮き上がる不都合を生じる。また、カー
ボン部材中に含まれている不純物が融液中に射けこみ、
形成される半導体結晶中にトカーホン材の不純物か入り
込むような不S台を生じる。またカーボン部材中に1I
ll液が瞳化するIIIK融液が結晶となって付着しこ
の付着した半導体材料が容易に除去できなくなり一度使
用したカーボン部材は再使用できなくなり半導体結晶の
製造コストか大となる欠点を生じている。
ボン部材12とアンプル11の内壁向との筒の1lIW
kUに結晶の形成材料が入り込んで該材料を溶融する過
程で入り込んだ材料が融液となってこの融#によりカー
ボン部材12が浮き上がる不都合を生じる。また、カー
ボン部材中に含まれている不純物が融液中に射けこみ、
形成される半導体結晶中にトカーホン材の不純物か入り
込むような不S台を生じる。またカーボン部材中に1I
ll液が瞳化するIIIK融液が結晶となって付着しこ
の付着した半導体材料が容易に除去できなくなり一度使
用したカーボン部材は再使用できなくなり半導体結晶の
製造コストか大となる欠点を生じている。
(d) 発明の目的
本発明は上述した欠点を除去し、カーボン部材かアンプ
ル内の半導体結晶材料の融液によって浮び上るようなこ
とがなく、該カーオン材中の不純物か半導体材料の融液
内へ侵入するようなことがなく、またカーボン材のMI
IK半導体材料の融液の固化した亀のが付着せず多数回
の結晶riL長にN−のカーボン部材が使用できるよう
な半導体結晶の製造装置の提供を目的とするものである
。
ル内の半導体結晶材料の融液によって浮び上るようなこ
とがなく、該カーオン材中の不純物か半導体材料の融液
内へ侵入するようなことがなく、またカーボン材のMI
IK半導体材料の融液の固化した亀のが付着せず多数回
の結晶riL長にN−のカーボン部材が使用できるよう
な半導体結晶の製造装置の提供を目的とするものである
。
(e) 発明の構成
かかる目的を達成するための本発明の半導体結晶の製造
装置IFi底鄭に上方に向かって凸型形状のカーボン部
材をIIIIした有底の外管と、該外愉内に設置され前
記カーボン部材の凸型形状に沿うような底面を有し、内
部に半導体結晶を封入したアンプルと、麩外管を加熱す
る加熱炉と、前記外管を下降する手段を備えてなり、前
記アンプル内に封入された半導体結晶を溶融後、前記外
管を下降して、前記アンプルの底部よ、す、溶融材料t
jIli1次向化せしめて単結晶とすることを特徴とす
るものであ、る。
装置IFi底鄭に上方に向かって凸型形状のカーボン部
材をIIIIした有底の外管と、該外愉内に設置され前
記カーボン部材の凸型形状に沿うような底面を有し、内
部に半導体結晶を封入したアンプルと、麩外管を加熱す
る加熱炉と、前記外管を下降する手段を備えてなり、前
記アンプル内に封入された半導体結晶を溶融後、前記外
管を下降して、前記アンプルの底部よ、す、溶融材料t
jIli1次向化せしめて単結晶とすることを特徴とす
るものであ、る。
(f) 発明の実施例
以下図面を用いながら零鐸明の一実施例につき詳細に説
明する。第3図および第4図は本発明の半導体結晶の製
造装置の組立図で、第5図は本発明の半導体結晶の灸造
装請を示す徊である。
明する。第3図および第4図は本発明の半導体結晶の製
造装置の組立図で、第5図は本発明の半導体結晶の灸造
装請を示す徊である。
まず第3図に示すように本発明の半導体結晶の製造装置
kFi薄い白金(pt)の箔21に包まれ上部に凸型の
形状を呈したカーボン部材22かr&、都に収容されて
いる有底の石英製の外管23を用いている。そして第4
図に示すように該カーボン部材221に該カーホン部材
の凸!!J形状の形状に沿うような底部を有する石英製
のアンフル24か設けられ、その中に形成すべきPb
Toの結晶の組UK該当するPb Teの材料25か所
定11f14J定されて充填されている。そして該アン
プルの内Sa排気されてアンプルの一端が封止されてい
る。そしてとのように材料を充填したアンプルか矢印に
示すようにカーボン部材22上に設餉され、第5図に示
すように外管23の外方に曲けられたフックにステンレ
ス製の針金26 %1に用いてろ英資27中に挿入され
て支スられている。そして該石英管27は加熱炉28に
よって1181図に示した温良分布とN−の温度分1h
4となるように加熱されてこの加熱によってアンプル内
のPb Teの材料か溶融するようになる。とのPb
Toの材料か溶融した時点でアンプルが挿入されている
外管23を除々に矢印Cの方向に下隆させてアシフル2
4の底部より溶融材料を固化させる。2srjこのよう
Kして杉威された固化したPb Toの結晶である。こ
のアシフルの底部は白金の箔21で包1れた凸型形状の
カーホン部材22の形状に沿うような形で形成さねてい
るので熱伝導の良いカーボン部材の凸型形状に沿うよう
な形で4I温線かH液の中に形成され、この等温IIA
K沿って融液か融液の方向に向かって凸型形状に固化す
る。このように慣れdvL長初期に発生した粒界もアン
プルの外側の方向に向かって消失するので単結晶が高集
積で得られるようになる。またカーホン部材は融液と隔
絶されているのでカーボン部材か融液を汚染するよう々
ことかなくなり、またカーボン部材に融液が付着してそ
れか固化してカーホン部材の再使用か不可能となるとい
−た欠点も除去される。
kFi薄い白金(pt)の箔21に包まれ上部に凸型の
形状を呈したカーボン部材22かr&、都に収容されて
いる有底の石英製の外管23を用いている。そして第4
図に示すように該カーボン部材221に該カーホン部材
の凸!!J形状の形状に沿うような底部を有する石英製
のアンフル24か設けられ、その中に形成すべきPb
Toの結晶の組UK該当するPb Teの材料25か所
定11f14J定されて充填されている。そして該アン
プルの内Sa排気されてアンプルの一端が封止されてい
る。そしてとのように材料を充填したアンプルか矢印に
示すようにカーボン部材22上に設餉され、第5図に示
すように外管23の外方に曲けられたフックにステンレ
ス製の針金26 %1に用いてろ英資27中に挿入され
て支スられている。そして該石英管27は加熱炉28に
よって1181図に示した温良分布とN−の温度分1h
4となるように加熱されてこの加熱によってアンプル内
のPb Teの材料か溶融するようになる。とのPb
Toの材料か溶融した時点でアンプルが挿入されている
外管23を除々に矢印Cの方向に下隆させてアシフル2
4の底部より溶融材料を固化させる。2srjこのよう
Kして杉威された固化したPb Toの結晶である。こ
のアシフルの底部は白金の箔21で包1れた凸型形状の
カーホン部材22の形状に沿うような形で形成さねてい
るので熱伝導の良いカーボン部材の凸型形状に沿うよう
な形で4I温線かH液の中に形成され、この等温IIA
K沿って融液か融液の方向に向かって凸型形状に固化す
る。このように慣れdvL長初期に発生した粒界もアン
プルの外側の方向に向かって消失するので単結晶が高集
積で得られるようになる。またカーホン部材は融液と隔
絶されているのでカーボン部材か融液を汚染するよう々
ことかなくなり、またカーボン部材に融液が付着してそ
れか固化してカーホン部材の再使用か不可能となるとい
−た欠点も除去される。
(g) 発明の効果
以上述べたように本発明の半導体結晶製造装置を用いて
化合物の半導体結晶を形成すれd粒界か発生し難く、単
結晶となる歩佃も向上し、またカーボン部材が融液と隔
絶されているので融液がカーボン部材によちて汚染され
ず負負の単結晶か得られ、tた融液の付着によってカー
ホン部材が再使用できなくなるよう不S合も消滅し、半
導体結晶の形成歩餡も向上する利点を生じる。
化合物の半導体結晶を形成すれd粒界か発生し難く、単
結晶となる歩佃も向上し、またカーボン部材が融液と隔
絶されているので融液がカーボン部材によちて汚染され
ず負負の単結晶か得られ、tた融液の付着によってカー
ホン部材が再使用できなくなるよう不S合も消滅し、半
導体結晶の形成歩餡も向上する利点を生じる。
また本発明の半導体結晶製造装置にはPb Teの結等
の結晶を形成する場合も適用できることは勿論である。
の結晶を形成する場合も適用できることは勿論である。
第1図は従来の半導体結晶のIk!造装蒙図、第2図は
従来の半導体結晶の製造装置を用いて結晶を製造する場
合の状物を示す図、第3−および第4図は本発明の半導
体[kの組み立て図、第6図は本発明の半導体結晶の製
造S*を示す図である。 図において1.11.24flアシフル、2.2’lF
i石英簀、3Fi加熱炉、4はIa度分布を示す図、1
2.22はカーボン部材% 12A、12.B#′i等
温紛、21は白金箔、23け外管、25ijPbTe材
料、26は針金、28はPt) T・の結晶を示1゜第
1図 第 2 図゛
従来の半導体結晶の製造装置を用いて結晶を製造する場
合の状物を示す図、第3−および第4図は本発明の半導
体[kの組み立て図、第6図は本発明の半導体結晶の製
造S*を示す図である。 図において1.11.24flアシフル、2.2’lF
i石英簀、3Fi加熱炉、4はIa度分布を示す図、1
2.22はカーボン部材% 12A、12.B#′i等
温紛、21は白金箔、23け外管、25ijPbTe材
料、26は針金、28はPt) T・の結晶を示1゜第
1図 第 2 図゛
Claims (1)
- 底部に上方に向かって凸!!!形状のカーボン部材を設
置し次有底の外管と、該外管内KR置され前記カーボン
部材の画集形状に沿うような底面を有し、内部に半導体
結晶を封入し次アンプルと、該外管を加熱する加熱炉上
、前記外管を下降する手段を備えてなり、前記アンプル
内に封入された半導体結晶を溶融後、前記外管を下降し
て、前記アングルの底部より溶融材料を順次−化せしめ
て単結晶とすることを特徴とする半導体結晶の製造装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2504382A JPS58140388A (ja) | 1982-02-17 | 1982-02-17 | 半導体結晶の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2504382A JPS58140388A (ja) | 1982-02-17 | 1982-02-17 | 半導体結晶の製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58140388A true JPS58140388A (ja) | 1983-08-20 |
Family
ID=12154883
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2504382A Pending JPS58140388A (ja) | 1982-02-17 | 1982-02-17 | 半導体結晶の製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58140388A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1485524A1 (en) * | 2002-03-14 | 2004-12-15 | Axt, Inc. | Apparatus for growing monocrystalline group ii-vi and iii-v compounds |
-
1982
- 1982-02-17 JP JP2504382A patent/JPS58140388A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1485524A1 (en) * | 2002-03-14 | 2004-12-15 | Axt, Inc. | Apparatus for growing monocrystalline group ii-vi and iii-v compounds |
EP1485524A4 (en) * | 2002-03-14 | 2006-09-20 | Axt Inc | APPARATUS FOR THE CRYSTALLOGENESIS OF MONOCRYSTALLINE II-VI AND III-V COMPOUNDS |
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