JPS6144792A - シリコン単結晶引上装置 - Google Patents
シリコン単結晶引上装置Info
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- JPS6144792A JPS6144792A JP16684384A JP16684384A JPS6144792A JP S6144792 A JPS6144792 A JP S6144792A JP 16684384 A JP16684384 A JP 16684384A JP 16684384 A JP16684384 A JP 16684384A JP S6144792 A JPS6144792 A JP S6144792A
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- Japan
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- quartz glass
- single crystal
- crucible
- silicon
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- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 40
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 40
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims abstract description 40
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims abstract description 29
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 238000002231 Czochralski process Methods 0.000 abstract 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000012768 molten material Substances 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、シリコン単結晶製造の引上装置の改良に関す
るものである。
るものである。
従来、シリコン単結晶は主にチョコラルスキー法(CZ
法)によって製造されている。この方法は石英ガラスル
ツメ内にシリコン多結晶原料を入れ、周囲から加熱して
該シリコン多結晶を溶融させ、その溶融物を種結晶によ
り上方に引上け、シリコン単結晶をつくるものである。
法)によって製造されている。この方法は石英ガラスル
ツメ内にシリコン多結晶原料を入れ、周囲から加熱して
該シリコン多結晶を溶融させ、その溶融物を種結晶によ
り上方に引上け、シリコン単結晶をつくるものである。
例えF!第1図に示すように、チャンバー1内に保温筒
2があり、その内側にカーどンヒーター3が設置されて
いる。そしてヒーター3の内側にカーぎンルツ〆4がア
リ、サラにカーダンルツボ4の内側に石英ガラスルツボ
5があってシリコン多結晶を溶融し、その溶融物6を8
1結晶により上方に引上はシリコン単結晶7をつくって
いた。
2があり、その内側にカーどンヒーター3が設置されて
いる。そしてヒーター3の内側にカーぎンルツ〆4がア
リ、サラにカーダンルツボ4の内側に石英ガラスルツボ
5があってシリコン多結晶を溶融し、その溶融物6を8
1結晶により上方に引上はシリコン単結晶7をつくって
いた。
この際シリコン単結晶に不純物が含まれるのを防止する
ためにチャンバー1内にアルゴン等の不活性ガスを導入
することが一般に行なわれている。
ためにチャンバー1内にアルゴン等の不活性ガスを導入
することが一般に行なわれている。
このようにチャンバー1内にアルゴン等の不活性ガスを
導入するとともに、シリコン橡結晶を石英ガラスルツボ
5内の溶融シリコンに浸し、シリコン極結晶を引上げる
ことにより単結晶をつくっていた。
導入するとともに、シリコン橡結晶を石英ガラスルツボ
5内の溶融シリコンに浸し、シリコン極結晶を引上げる
ことにより単結晶をつくっていた。
しかしながら、従来の装置ではシリコン融液と石英ガラ
スルツボ(Si02)が高温で反応してSi + 5i
02→2si。
スルツボ(Si02)が高温で反応してSi + 5i
02→2si。
のように多量のSiOを生成し、シリコン融液表面から
蒸発放出されるが、そのSiOが石英ガラスルツブ5の
上端およびチャンパー1上部に蓄積されると、SiOが
成長しているシリコン単結晶の界面に落下し混入するこ
とによって、シリコン単結晶の有転位化が結晶引上げ中
に起きるという問題があった。
蒸発放出されるが、そのSiOが石英ガラスルツブ5の
上端およびチャンパー1上部に蓄積されると、SiOが
成長しているシリコン単結晶の界面に落下し混入するこ
とによって、シリコン単結晶の有転位化が結晶引上げ中
に起きるという問題があった。
本発明は、石英ガ2スルツが5のシリコン融液面より上
部において、石英ガラスルツブ5の側壁に複数個の間隙
を設け、シリコン融液と石英ガラスルツブとが反応して
生成したSiOを上記の間隙より即排出できるようにし
たものである。
部において、石英ガラスルツブ5の側壁に複数個の間隙
を設け、シリコン融液と石英ガラスルツブとが反応して
生成したSiOを上記の間隙より即排出できるようにし
たものである。
本発明は第2図に示すように、石英ガラスルツブ5にシ
リコン融液6面の上部において、石英ガラスルツブ5の
側壁に透孔または開@8を設けるとともにカーボンルツ
〆にも該透孔または間隙8と一致する位置に透孔9を設
けたものである。
リコン融液6面の上部において、石英ガラスルツブ5の
側壁に透孔または開@8を設けるとともにカーボンルツ
〆にも該透孔または間隙8と一致する位置に透孔9を設
けたものである。
また、本発明tl第3図に示すように石英ガラスルツボ
5のシリコン融液6面より上部において、石英ガラスル
ツブ5の側壁に透孔または間隙8を設けるとともに、カ
ーがンルツ& 4 rCは間隙10を設け、該間隙10
はカーデンルツが4の側壁の上端部に一端部を有すると
ともに、他端部は石英ガラスルツブ5側の側壁に設けた
ものであるが、カーボンルツボ4の上部即ち石英ガラス
ルツ?の透孔または間隙8を設けた部分から上部のカー
ボンルツ?を全周にわたって薄肉状態に形成して間隙1
0を形成してもよい。
5のシリコン融液6面より上部において、石英ガラスル
ツブ5の側壁に透孔または間隙8を設けるとともに、カ
ーがンルツ& 4 rCは間隙10を設け、該間隙10
はカーデンルツが4の側壁の上端部に一端部を有すると
ともに、他端部は石英ガラスルツブ5側の側壁に設けた
ものであるが、カーボンルツボ4の上部即ち石英ガラス
ルツ?の透孔または間隙8を設けた部分から上部のカー
ボンルツ?を全周にわたって薄肉状態に形成して間隙1
0を形成してもよい。
第4図KFi他の実施例を示すもので、石英ガラスルツ
メ5に透孔または間隙8を設けるとともに、カーボンル
ツ〆4には石英ガラスルツボ5に設けた透孔または間隙
8とは連通しているが、該透孔または間隙8の位置とは
一致しない位置に透孔9を膜性たものである。この様に
することによって、第2図の実施例よりも、ヒーターか
らの輻射熱を均一にすることができ好ましい。
メ5に透孔または間隙8を設けるとともに、カーボンル
ツ〆4には石英ガラスルツボ5に設けた透孔または間隙
8とは連通しているが、該透孔または間隙8の位置とは
一致しない位置に透孔9を膜性たものである。この様に
することによって、第2図の実施例よりも、ヒーターか
らの輻射熱を均一にすることができ好ましい。
石英ガラスルツが5の側壁の間隙8は、石英ガラスルツ
メ5の側壁に透孔を穿孔してもよいけれど、第2図のよ
うに石英ガ2スルツぎ5の側壁を上下に二分割して上部
に分割された上部リング体の下端を歯形に加工して成形
して[…隙8をつくってもよい。賛はSiOの排出がで
きればよい。
メ5の側壁に透孔を穿孔してもよいけれど、第2図のよ
うに石英ガ2スルツぎ5の側壁を上下に二分割して上部
に分割された上部リング体の下端を歯形に加工して成形
して[…隙8をつくってもよい。賛はSiOの排出がで
きればよい。
石英ガラスルツボ5の側壁を上下二分割にすることによ
り石英ガラスルツボ5の上部リングは残留シリコンによ
る破損もなく、何回も使用ができるものであり、石英ガ
ラスルツボ5を交換するときは、下部のルツボ部分のみ
を交換すれはよく、上部のリング部はそのまま使用する
ことができるので安価なものとなる。
り石英ガラスルツボ5の上部リングは残留シリコンによ
る破損もなく、何回も使用ができるものであり、石英ガ
ラスルツボ5を交換するときは、下部のルツボ部分のみ
を交換すれはよく、上部のリング部はそのまま使用する
ことができるので安価なものとなる。
また、従来はシリコンチャージ量を増加することによっ
て長尺ルッがか必要となシ、SiOの排出が困難となシ
リコン単結晶の有転位化が増加したが、SiO排出効果
を損うことなく、シリコンチャージ量を増加するために
は上部のリング体の高さを変えるだけでよい。従って本
願発明は大容量の単結晶引上装置において特に効果が大
きい。
て長尺ルッがか必要となシ、SiOの排出が困難となシ
リコン単結晶の有転位化が増加したが、SiO排出効果
を損うことなく、シリコンチャージ量を増加するために
は上部のリング体の高さを変えるだけでよい。従って本
願発明は大容量の単結晶引上装置において特に効果が大
きい。
実施例
側壁が上下二分割体からなる直径14インチの石英ガラ
スルツブの、上部のリング体の下端部を歯形に形成し、
該歯形に連通ずる孔をカーゲンルツデの側壁に形成した
。枝孔は直径15mの孔で20個形成した。
スルツブの、上部のリング体の下端部を歯形に形成し、
該歯形に連通ずる孔をカーゲンルツデの側壁に形成した
。枝孔は直径15mの孔で20個形成した。
したがって石英がラスルツボの内面からカーゲンルツが
の外面まで貫通した孔(間隙)を開けたことKなる。
の外面まで貫通した孔(間隙)を開けたことKなる。
なお5石英ガラスルツボの上部リング体はシリコン融液
面から3Qmの上に位置するようにした。
面から3Qmの上に位置するようにした。
その結果30kPのシリコン単結晶を20本引上げたと
ころ、転移による不良となったシリコン単結晶は2本で
あった。
ころ、転移による不良となったシリコン単結晶は2本で
あった。
一方側壁に孔(間隙)のない従来のシリコン単結晶引上
装置を使用し、同一条件でシリコン単結晶を引上けたと
ころ転移による不良となったシリコン単結晶は6本であ
った。
装置を使用し、同一条件でシリコン単結晶を引上けたと
ころ転移による不良となったシリコン単結晶は6本であ
った。
第1図は従来のシリコン単結晶の引上装置の断面図、第
2図は本発明の要部の断面図、第3図、第4図は他の実
施例の断面陶であ机 ′4・・・カーゲンルツが 5
・・・石英ガラスルツが6・・・溶融物 8,9,1
0・・・透孔または間隙第1図 第2図 第3図 第4願
2図は本発明の要部の断面図、第3図、第4図は他の実
施例の断面陶であ机 ′4・・・カーゲンルツが 5
・・・石英ガラスルツが6・・・溶融物 8,9,1
0・・・透孔または間隙第1図 第2図 第3図 第4願
Claims (1)
- シリコン多結晶を石英ガラスルツボに入れて溶融し、こ
の融液からシリコン単結晶を引上形成するシリコン単結
晶製造装置において、石英ガラスルツボのシリコン融液
面より上部の側壁に複数個の間隙を設けたことを特徴と
するシリコン単結晶引上装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16684384A JPS6144792A (ja) | 1984-08-09 | 1984-08-09 | シリコン単結晶引上装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16684384A JPS6144792A (ja) | 1984-08-09 | 1984-08-09 | シリコン単結晶引上装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6144792A true JPS6144792A (ja) | 1986-03-04 |
| JPH0154318B2 JPH0154318B2 (ja) | 1989-11-17 |
Family
ID=15838677
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16684384A Granted JPS6144792A (ja) | 1984-08-09 | 1984-08-09 | シリコン単結晶引上装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6144792A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62252395A (ja) * | 1986-04-24 | 1987-11-04 | Mitsubishi Metal Corp | 単結晶製造用ルツボ |
| US6875275B1 (en) | 1997-03-31 | 2005-04-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Production apparatus for producing a crystal |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5388674A (en) * | 1976-11-23 | 1978-08-04 | Busesoyutsunii Nii Monokurisut | Apparatus for growing single crystal from melts by adding broken insert |
| JPS5715075A (en) * | 1980-06-27 | 1982-01-26 | Caterpillar Mitsubishi Ltd | Hermetically sealing device of oil for hermetically sealed lubrication type truck |
| JPS5750729Y2 (ja) * | 1978-10-04 | 1982-11-06 |
-
1984
- 1984-08-09 JP JP16684384A patent/JPS6144792A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5388674A (en) * | 1976-11-23 | 1978-08-04 | Busesoyutsunii Nii Monokurisut | Apparatus for growing single crystal from melts by adding broken insert |
| JPS5750729Y2 (ja) * | 1978-10-04 | 1982-11-06 | ||
| JPS5715075A (en) * | 1980-06-27 | 1982-01-26 | Caterpillar Mitsubishi Ltd | Hermetically sealing device of oil for hermetically sealed lubrication type truck |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62252395A (ja) * | 1986-04-24 | 1987-11-04 | Mitsubishi Metal Corp | 単結晶製造用ルツボ |
| US6875275B1 (en) | 1997-03-31 | 2005-04-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Production apparatus for producing a crystal |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0154318B2 (ja) | 1989-11-17 |
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