JPS58131724A - 磁心の製法 - Google Patents
磁心の製法Info
- Publication number
- JPS58131724A JPS58131724A JP1403082A JP1403082A JPS58131724A JP S58131724 A JPS58131724 A JP S58131724A JP 1403082 A JP1403082 A JP 1403082A JP 1403082 A JP1403082 A JP 1403082A JP S58131724 A JPS58131724 A JP S58131724A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic material
- amorphous
- magnetic
- heat treatment
- thermal expansion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
- H01F41/0206—Manufacturing of magnetic cores by mechanical means
- H01F41/0213—Manufacturing of magnetic circuits made from strip(s) or ribbon(s)
- H01F41/0226—Manufacturing of magnetic circuits made from strip(s) or ribbon(s) from amorphous ribbons
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、磁心記憶装置等に使用される、トロイダル
コアなどの磁心の製法に関する。
コアなどの磁心の製法に関する。
磁心の製法のひとつにつぎのような−のがある。
絶縁材料からなる円環形の基材（コア）［、磁性材料か
らなる薄片全巻きつけたのち、磁性材料の熱処理を行な
って磁心を得るという方法である。
らなる薄片全巻きつけたのち、磁性材料の熱処理を行な
って磁心を得るという方法である。
このような製法によって得られる磁心には鉄損が大きい
という欠点があった。熱処理の際、あるいはそのあとの
冷却の際磁性材料内部につぎのような応力が生じるから
である。すなわち、基材の熱膨張率が磁性材料の熱膨張
率よ）本大きい場合、熱処理の際、磁性材料は基材から
圧力を受けるため、磁性材料内部に応力が生じる。逆に
１基材の熱膨張率が磁性材料の熱膨張率よりも小さい場
合は、熱感ｍ後の冷却の９に、やはり磁性材料が基材か
ら圧力を受け、その内部に応力が生じる。もつとも、熱
膨張率の同じような磁性材料と基材を用いるようにすれ
ば、磁性材料内部に前記のような応力が生じるというこ
とはない。しかし、このような磁性材料および基材を選
ぶというような仁とは非常に＠難である。
という欠点があった。熱処理の際、あるいはそのあとの
冷却の際磁性材料内部につぎのような応力が生じるから
である。すなわち、基材の熱膨張率が磁性材料の熱膨張
率よ）本大きい場合、熱処理の際、磁性材料は基材から
圧力を受けるため、磁性材料内部に応力が生じる。逆に
１基材の熱膨張率が磁性材料の熱膨張率よりも小さい場
合は、熱感ｍ後の冷却の９に、やはり磁性材料が基材か
ら圧力を受け、その内部に応力が生じる。もつとも、熱
膨張率の同じような磁性材料と基材を用いるようにすれ
ば、磁性材料内部に前記のような応力が生じるというこ
とはない。しかし、このような磁性材料および基材を選
ぶというような仁とは非常に＠難である。
発明者は、このような事４１ｔＫ鑑み研究を重ねた結果
、磁性材料からなる層と基材との関に非晶質材料からな
る層を形成させておくと、熱処理や冷却の際、磁性材料
に生じる応力が緩和されることをみいだし、ここにこの
発明を完成した。これＫついて以下に説明する。
、磁性材料からなる層と基材との関に非晶質材料からな
る層を形成させておくと、熱処理や冷却の際、磁性材料
に生じる応力が緩和されることをみいだし、ここにこの
発明を完成した。これＫついて以下に説明する。
この発明は、絶縁材料からなる基材に磁性材料からなる
層を形成させたのち、熱処理を行なう磁心の製法であっ
て、磁性材料からなる層を基材に形成させるｍ＋に、こ
の基材に、非晶質材料からなる層をあらかじめ形成させ
ておくことを特徴とする磁心の製法をその要旨とするも
のである。
層を形成させたのち、熱処理を行なう磁心の製法であっ
て、磁性材料からなる層を基材に形成させるｍ＋に、こ
の基材に、非晶質材料からなる層をあらかじめ形成させ
ておくことを特徴とする磁心の製法をその要旨とするも
のである。
絶縁材料としては、従来と同様、石英等が使用され、磁
性材料としても、従来と同様、組成がＦｅｙｅＢｌｓＳ
ｉｓ （” ＦｅａｔＢｌ＊５Ｓｉｓ＊Ｃｚ等であるア
モルファス合金、あるいは鉄−ニッケル合金、フェライ
ト尋が使用される。非晶質材料としては、組成がＦｅａ
ｍＮｉａ＊Ｐ１４Ｂ＠ｅ ＦｅｍｏＢｚｏ ＋ Ｆｅａ
＊Ｂ！ｓ、５ＳｉａｓＣｚ等であるアモルファス合金等
が好ましく使用される。
性材料としても、従来と同様、組成がＦｅｙｅＢｌｓＳ
ｉｓ （” ＦｅａｔＢｌ＊５Ｓｉｓ＊Ｃｚ等であるア
モルファス合金、あるいは鉄−ニッケル合金、フェライ
ト尋が使用される。非晶質材料としては、組成がＦｅａ
ｍＮｉａ＊Ｐ１４Ｂ＠ｅ ＦｅｍｏＢｚｏ ＋ Ｆｅａ
＊Ｂ！ｓ、５ＳｉａｓＣｚ等であるアモルファス合金等
が好ましく使用される。
これらは、結晶化すると体積が好適に減少するからであ
る。磁性材料からなる層を形成させる方法は、通−２従
来と同様の方法すなわち薄片（すメン）をＩ＠Ｈする方
法によるとよく、非晶質材料からなる層を形成させる方
法も同法によるとよい。
る。磁性材料からなる層を形成させる方法は、通−２従
来と同様の方法すなわち薄片（すメン）をＩ＠Ｈする方
法によるとよく、非晶質材料からなる層を形成させる方
法も同法によるとよい。
すなわち、絶縁材料からなる円環形の基材に非晶質材料
からなる薄片を巻きつけたのち、さらにその上から磁性
材料からなる薄片を巻きつけるのである。しかし、層の
形成方法はこのような方法に限られる−のではない。九
とえば、無電解メッキ法等により層を形成すること本あ
りうるのである。
からなる薄片を巻きつけたのち、さらにその上から磁性
材料からなる薄片を巻きつけるのである。しかし、層の
形成方法はこのような方法に限られる−のではない。九
とえば、無電解メッキ法等により層を形成すること本あ
りうるのである。
熱処理の温度は非晶質材料の結晶化温度よりも高温で行
なうようにする。そうすると、熱処理の際、非晶質材料
は結晶化して収縮し、非晶質材料の内側にある基材の熱
膨張による影響をうまく吸収する。すなわち、基材の熱
膨張率が、磁性材料の熱膨張率より大き匹場合、磁性材
料内部に生じる応力が緩和される。非晶質材料の非晶質
から結晶質への変化は不可逆であるから、冷却の際、非
晶質材料は結晶化して収縮したままである。し九がって
、基材の熱膨張率が磁性材料の熱膨張率より小さい場合
でも、冷却ＯＳ、磁性材料内部に生じる応力かや＃ｉり
緩和される。
なうようにする。そうすると、熱処理の際、非晶質材料
は結晶化して収縮し、非晶質材料の内側にある基材の熱
膨張による影響をうまく吸収する。すなわち、基材の熱
膨張率が、磁性材料の熱膨張率より大き匹場合、磁性材
料内部に生じる応力が緩和される。非晶質材料の非晶質
から結晶質への変化は不可逆であるから、冷却の際、非
晶質材料は結晶化して収縮したままである。し九がって
、基材の熱膨張率が磁性材料の熱膨張率より小さい場合
でも、冷却ＯＳ、磁性材料内部に生じる応力かや＃ｉり
緩和される。
磁性材料として４アモルファス合金を使用する場合は、
中間に介在させる非晶質材料としては、このアモルファ
ス合金の結晶化温度よシも低い結晶化温度をもつ非晶質
材料を選ぶようにする。熱処理の際、磁性材料としての
アモルファス合金が中間非晶質材料よりも先に結晶化し
収縮すると、磁性材料層（内部応力が生じてしまうから
である。
中間に介在させる非晶質材料としては、このアモルファ
ス合金の結晶化温度よシも低い結晶化温度をもつ非晶質
材料を選ぶようにする。熱処理の際、磁性材料としての
アモルファス合金が中間非晶質材料よりも先に結晶化し
収縮すると、磁性材料層（内部応力が生じてしまうから
である。
これまでの説明では、トロイダルコアを得るため円環形
の基材を使用するようにしていたが、磁心の使用目的（
応じては基材が他の形をとることもありうる。
の基材を使用するようにしていたが、磁心の使用目的（
応じては基材が他の形をとることもありうる。
この発明にかかる磁心の製法はこのように構成されるも
のであって、磁性材料からなる層と基材の間に、非晶質
材料からなる層を形成させるようにしておくため、熱処
理や冷却の際、磁性材料に生じる応力が緩和される。し
たがって鉄損の小さい磁心を得ることができる。
のであって、磁性材料からなる層と基材の間に、非晶質
材料からなる層を形成させるようにしておくため、熱処
理や冷却の際、磁性材料に生じる応力が緩和される。し
たがって鉄損の小さい磁心を得ることができる。
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。実施
例および比較例ではすべて、基材として、外径２０ ｍ
ｍ−，内径１７ ｍｍｄ ｅ長さ１０ｍｍの石英管な円
環形にしたものを使用した。実施例では、それぞれ、基
材に非晶質材料の薄片を５回巻き、さらＫその上から磁
性材料の薄片を１００回巻匹たあと、熱処理を行なって
磁心を得た。これに対し比較例では、それぞれ非晶質材
料を使用せず、基材に磁性材料の薄片を１００回直接巻
くようにしえ。−施倒および比較例ではすべて非晶質材
料および磁性材料に種々の組成のアモルファス合金を使
用した。これらの組成およびその結晶化温度を縞１表に
示す。
例および比較例ではすべて、基材として、外径２０ ｍ
ｍ−，内径１７ ｍｍｄ ｅ長さ１０ｍｍの石英管な円
環形にしたものを使用した。実施例では、それぞれ、基
材に非晶質材料の薄片を５回巻き、さらＫその上から磁
性材料の薄片を１００回巻匹たあと、熱処理を行なって
磁心を得た。これに対し比較例では、それぞれ非晶質材
料を使用せず、基材に磁性材料の薄片を１００回直接巻
くようにしえ。−施倒および比較例ではすべて非晶質材
料および磁性材料に種々の組成のアモルファス合金を使
用した。これらの組成およびその結晶化温度を縞１表に
示す。
第１表
各実施例において使用されたアモルファス合金の組成お
よび熱処理条件を８２表に示す、なお、熱処理はどの実
施例−１０Ｔｏｒｒ の真空中で行なった。
よび熱処理条件を８２表に示す、なお、熱処理はどの実
施例−１０Ｔｏｒｒ の真空中で行なった。
（以 下 余 白）
第２表にみるように１実施例２，３．６では、非晶質材
料として用いられるアモルファス合金の結晶化温度が磁
性材料の最適熱処理温度より４高いので、それぞれ、熱
処理温度を（υ、（乃の２段階としえ。すなわち、（１
）の温度で非晶質材料を結晶化させたのち、（２）の最
適熱処理温度まで温度を下げて引続き熱処理を行なうよ
うにしたのである。
料として用いられるアモルファス合金の結晶化温度が磁
性材料の最適熱処理温度より４高いので、それぞれ、熱
処理温度を（υ、（乃の２段階としえ。すなわち、（１
）の温度で非晶質材料を結晶化させたのち、（２）の最
適熱処理温度まで温度を下げて引続き熱処理を行なうよ
うにしたのである。
比較例１〜６は中間層としての非晶質材料層を省くよう
にし九ほかは、それぞれ実施例１〜６と同じ磁性材料お
よび熱処理条件を使用した。
にし九ほかは、それぞれ実施例１〜６と同じ磁性材料お
よび熱処理条件を使用した。
実施例１〜６および比較例１〜６の製法によって得られ
た磁心について鉄損の測定を行なった。
た磁心について鉄損の測定を行なった。
その測定条件および測定結果を第３表に示す。
（以 下 余 白）
ｔａ３表
第３表かられかるように、実施例はいずれも比較例よ抄
−鉄損が小さい。
−鉄損が小さい。
特許出願人 松下電工株式金社
代理人 弁理士 松 本 武 彦
手続補正書（自発）
昭ｆ１１５７年Ｓ月１９ｒ］
昭和ｓ７年特許願第０１４０３０ 号２、発明の名称
磁心の製法
３、補正をする者
事件との関係 特許出願人
住 所 大阪府門真市大字門真１０４８番地住
所〒５３０ 大阪市北区天神橋２丁目４番１７号千代
田第−ビル８階 な し ６、補正の対象 ７、補正の内容 （１）明細書＄３Ｄ第１３行ニｒ Ｆｅ７．Ｂ、、Ｓｉ
、 Ｊとあるを「Ｆ ｅ ｙ ｓ Ｂ １ｓ Ｓ ｌ
＊ Ｊと訂正する。
所〒５３０ 大阪市北区天神橋２丁目４番１７号千代
田第−ビル８階 な し ６、補正の対象 ７、補正の内容 （１）明細書＄３Ｄ第１３行ニｒ Ｆｅ７．Ｂ、、Ｓｉ
、 Ｊとあるを「Ｆ ｅ ｙ ｓ Ｂ １ｓ Ｓ ｌ
＊ Ｊと訂正する。
（２）明細書第３ｋｊＢ１３行Ｋ 「ｌ’ ｅａ １Ｂ
ｔ ｓ、 ｓ Ｓ ｉｓ ｓｃｚ Ｊとあるをｒ ”
１１”１Ｂ、ＳＳｉ＄ｊＣ！ Ｊと訂正する。
ｔ ｓ、 ｓ Ｓ ｉｓ ｓｃｚ Ｊとあるをｒ ”
１１”１Ｂ、ＳＳｉ＄ｊＣ！ Ｊと訂正する。
（３）明細書１１８６頁第１表の組成機上から四つ目に
ｒ ”ｅｙｓ”ｔｍ”ｓ−１とあるをｒ ”？ｌＩ”ｌ
ｌＪ”ｅＪと訂正する。
ｒ ”ｅｙｓ”ｔｍ”ｓ−１とあるをｒ ”？ｌＩ”ｌ
ｌＪ”ｅＪと訂正する。
（４）明細書第８頁第２表における実施例１の磁性材料
の表示が「Ｆｅ、、Ｂ□ｓ Ｓ １ ＊ Ｊとあるを「
）ぐｔｓ”ｔｓ”ｅ−１と訂正する。
の表示が「Ｆｅ、、Ｂ□ｓ Ｓ １ ＊ Ｊとあるを「
）ぐｔｓ”ｔｓ”ｅ−１と訂正する。
（５）明細書第８頁１８２表における実施例２の磁性材
料の表示が「Ｆｅ、、Ｂ、、Ｓｉ、 」とあるを［Ｆｅ
ｔ ｓｎ８，５４．Ｊと訂正する。
料の表示が「Ｆｅ、、Ｂ、、Ｓｉ、 」とあるを［Ｆｅ
ｔ ｓｎ８，５４．Ｊと訂正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （υ 絶縁材料からなる基材に磁性材料からなる層を形
成させたのち、熱地理を行なう磁心の製法工ありて、磁
性材料からなる層を基材に形成させる前に１この基材に
、非晶質材料からなる層をあらかじめ形成させておくこ
とを特徴とする磁心の製法。 （り 非晶質材料がアモルファス合金である特許請求の
範囲第１３１記載の磁心の製法。 （ｊ アモルファス合金がＦｅｔｏＮｉａｏＰｔ４Ｂａ
、 ＦｅａｔＢ２・およびＦｅｓ ｓＢｓ ｙｓｉ
ａＪｃｚからなる群の中から選ばれ九４のである特許請
求の範凹第１項または第２項記載の磁心の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1403082A JPS58131724A (ja) | 1982-01-30 | 1982-01-30 | 磁心の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1403082A JPS58131724A (ja) | 1982-01-30 | 1982-01-30 | 磁心の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58131724A true JPS58131724A (ja) | 1983-08-05 |
Family
ID=11849755
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1403082A Pending JPS58131724A (ja) | 1982-01-30 | 1982-01-30 | 磁心の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58131724A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1320110A1 (de) * | 2001-12-17 | 2003-06-18 | Vacuumschmelze GmbH & Co. KG | Verfahren zur Herstellung nanokristalliner Ringbandkerne |
-
1982
- 1982-01-30 JP JP1403082A patent/JPS58131724A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1320110A1 (de) * | 2001-12-17 | 2003-06-18 | Vacuumschmelze GmbH & Co. KG | Verfahren zur Herstellung nanokristalliner Ringbandkerne |
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