JPS58127923A - 感光性組成物 - Google Patents
感光性組成物Info
- Publication number
- JPS58127923A JPS58127923A JP1034382A JP1034382A JPS58127923A JP S58127923 A JPS58127923 A JP S58127923A JP 1034382 A JP1034382 A JP 1034382A JP 1034382 A JP1034382 A JP 1034382A JP S58127923 A JPS58127923 A JP S58127923A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- polymer
- substituted
- photosensitive
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 14
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 32
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000005017 substituted alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 abstract description 8
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 8
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 125000001752 diazonium salt group Chemical group 0.000 abstract 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 19
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 13
- -1 aromatic sulfone Chemical class 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 5
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000006193 diazotization reaction Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical group [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 1-penten-3-one Chemical compound CCC(=O)C=C JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N buten-2-one Chemical compound CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 235000012149 noodles Nutrition 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 2
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- XOESUTAJRUJGHH-QXMHVHEDSA-N (Z)-1-ethenoxyoctadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOC=C XOESUTAJRUJGHH-QXMHVHEDSA-N 0.000 description 1
- ZWKNLRXFUTWSOY-QPJJXVBHSA-N (e)-3-phenylprop-2-enenitrile Chemical compound N#C\C=C\C1=CC=CC=C1 ZWKNLRXFUTWSOY-QPJJXVBHSA-N 0.000 description 1
- FQERLIOIVXPZKH-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trioxane Chemical compound C1COOCO1 FQERLIOIVXPZKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGUCEVVWTLSILN-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2-(3-methylbut-2-en-2-yl)benzene Chemical compound CC(C)=C(C)C1=CC=CC=C1C DGUCEVVWTLSILN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXNDIJDIPNCZQJ-UHFFFAOYSA-N 2,4,4-trimethylpent-1-ene Chemical group CC(=C)CC(C)(C)C FXNDIJDIPNCZQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC(C)=C(S(O)(=O)=O)C(C)=C1 LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 2-[[6-[4-(2-hydroxyethyl)piperazin-1-yl]-2-methylpyrimidin-4-yl]amino]-n-(2-methyl-6-sulfanylphenyl)-1,3-thiazole-5-carboxamide;hydrate Chemical compound O.C=1C(N2CCN(CCO)CC2)=NC(C)=NC=1NC(S1)=NC=C1C(=O)NC1=C(C)C=CC=C1S WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl prop-2-enoate Chemical compound ClCCOC(=O)C=C WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEPWOCLBLLCOGZ-UHFFFAOYSA-N 2-cyanoethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCC#N AEPWOCLBLLCOGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C=C XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethenylbenzene Chemical compound COC=CC1=CC=CC=C1 CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)=CC1=CC=CC=C1 BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFNGWPXYNSJXOP-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propane-1-sulfonic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCS(O)(=O)=O KFNGWPXYNSJXOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNHYFBCCUHCLGL-UHFFFAOYSA-N 3-ethenyl-1h-pyridin-2-one Chemical compound OC1=NC=CC=C1C=C KNHYFBCCUHCLGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000025254 Cannabis sativa Species 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000273256 Phragmites communis Species 0.000 description 1
- 235000014676 Phragmites communis Nutrition 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 241000277331 Salmonidae Species 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000999 acridine dye Substances 0.000 description 1
- 150000001253 acrylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000001467 acupuncture Methods 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001448 anilines Chemical class 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N but-1-enylbenzene Chemical compound CCC=CC1=CC=CC=C1 MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- FWLDHHJLVGRRHD-UHFFFAOYSA-N decyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCOC(=O)C=C FWLDHHJLVGRRHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H dipotassium;hexafluorozirconium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[K+].[Zr+4] BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDNUEBSJWINEMI-UHFFFAOYSA-N ethyl nitrate Chemical compound CCO[N+]([O-])=O IDNUEBSJWINEMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 210000003128 head Anatomy 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910001410 inorganic ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- HVTICUPFWKNHNG-UHFFFAOYSA-N iodoethane Chemical compound CCI HVTICUPFWKNHNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N methylidenecarbene Chemical compound C=[C] SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRVDJDISBSALJP-UHFFFAOYSA-N methyloxidanyl Chemical compound [O]C GRVDJDISBSALJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- QYVFNLGWYAKQJD-UHFFFAOYSA-N n-[4-(ethylamino)phenyl]acetamide Chemical compound CCNC1=CC=C(NC(C)=O)C=C1 QYVFNLGWYAKQJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N n-ethylprop-2-enamide Chemical compound CCNC(=O)C=C SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical class C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- ZPKUAUXTKVANIS-UHFFFAOYSA-N tetradec-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 ZPKUAUXTKVANIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001003 triarylmethane dye Substances 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規の感光性ジアゾニウム塩を有する高分子
化合物に関する6さらに詳しくは、平版印刷版等の印刷
版お工びプリント配線基板などの製造に用いる感光性ジ
アゾニウム塩を有する高分子化合物に関する。
化合物に関する6さらに詳しくは、平版印刷版等の印刷
版お工びプリント配線基板などの製造に用いる感光性ジ
アゾニウム塩を有する高分子化合物に関する。
従来1夛感光性複写材料にホルムアルデヒドとp−ジア
ゾジフェニルアミンとの縮合物(ジアゾ樹脂>v用いる
ことが知られている。この1うな多官能性ジアゾ樹脂の
製造は、米国特許第267Pave号、同3ozozo
コ号、同JJ//lO!号、同J/6JtJJ号、同5
aotizv号お工び同3λ7707グ号の明細書に記
載されている。さらに保存安定!!!を改善するために
、水#!性ジアゾ樹囮とたとえば酸性芳香族化合物など
のカップリング剤とン反応させて、水不醪性かつ、穀油
性の樹脂にして使用する方法が、特公昭4/L7−77
117号、米13&i%ynmspiOopJ09号明
細書に記載されている。
ゾジフェニルアミンとの縮合物(ジアゾ樹脂>v用いる
ことが知られている。この1うな多官能性ジアゾ樹脂の
製造は、米国特許第267Pave号、同3ozozo
コ号、同JJ//lO!号、同J/6JtJJ号、同5
aotizv号お工び同3λ7707グ号の明細書に記
載されている。さらに保存安定!!!を改善するために
、水#!性ジアゾ樹囮とたとえば酸性芳香族化合物など
のカップリング剤とン反応させて、水不醪性かつ、穀油
性の樹脂にして使用する方法が、特公昭4/L7−77
117号、米13&i%ynmspiOopJ09号明
細書に記載されている。
しかしながら、この糧のジアゾ樹脂は、ジアゾニウム基
の対イオンとしてへ四ゲン化水素酸、リン酸等の無機イ
オンを用いた場合は勿論、ベンゼンスルホン酸、トルエ
ンスルホン酸等のms芳香族化合物ン用いても、グリ;
−ルエーテル、アルコール、ケトン等の有aSSへの#
S性が十分ではない。
の対イオンとしてへ四ゲン化水素酸、リン酸等の無機イ
オンを用いた場合は勿論、ベンゼンスルホン酸、トルエ
ンスルホン酸等のms芳香族化合物ン用いても、グリ;
−ルエーテル、アルコール、ケトン等の有aSSへの#
S性が十分ではない。
この工うなジアゾ側脂においては、一般に分子ml(重
合度)ン大きくすることに=9、感度を高めることが可
能である。しかしながら、縮合反応において分子量音制
御することは、合成上容易ではないばかりか、分子量を
増大させることにVム上述した有m層媒への溶解性が着
るしく低下し、解儂力の低下をももたらす場合がある。
合度)ン大きくすることに=9、感度を高めることが可
能である。しかしながら、縮合反応において分子量音制
御することは、合成上容易ではないばかりか、分子量を
増大させることにVム上述した有m層媒への溶解性が着
るしく低下し、解儂力の低下をももたらす場合がある。
さらにp−ジアゾジフェニルアきンとホルムアルデヒド
との縮合物は、ダλO〜jQQnmの可視領域にも吸収
ン有し、この波喪の光ン吸収して分解するので、白灯下
での取り扱いが非常に画一であり、これは、製造上お工
び使用上の重要な欠点となる。
との縮合物は、ダλO〜jQQnmの可視領域にも吸収
ン有し、この波喪の光ン吸収して分解するので、白灯下
での取り扱いが非常に画一であり、これは、製造上お工
び使用上の重要な欠点となる。
このp−ジアゾジフェニルアミンxD得られるジアゾ樹
脂とは別に、特開昭7%−30/コ1号には、主鎖にポ
リエステル基な有するジアゾ化合物に関する記載がめる
が、その製造方法は、極めて特殊なもので汎用性が無い
。さらに又、主鎖のエステル基が開裂しやすいために、
物質の保存中お工ひ、支持体に塗布した後の保存中に感
度の低下をもたらし、製品の付加価値な著るしく低下さ
せるものである。
脂とは別に、特開昭7%−30/コ1号には、主鎖にポ
リエステル基な有するジアゾ化合物に関する記載がめる
が、その製造方法は、極めて特殊なもので汎用性が無い
。さらに又、主鎖のエステル基が開裂しやすいために、
物質の保存中お工ひ、支持体に塗布した後の保存中に感
度の低下をもたらし、製品の付加価値な著るしく低下さ
せるものである。
本発明者は、既知のジアゾ徊脂が有する上紀久点を克服
するため詳細Kかつ広範囲にわたって研究を行なった。
するため詳細Kかつ広範囲にわたって研究を行なった。
その結果、感度が高く、白灯かぶ防止の点で特長のある
、新規のジアゾニクム塩含有高分子化合物な見い出した
。
、新規のジアゾニクム塩含有高分子化合物な見い出した
。
すなわち、本発明の目的は、以下の通力である。
第7の目的は、:ii!!当な支持体上KEY作りうる
感光性組成物を提供することである。
感光性組成物を提供することである。
第2の目的は、ニジ感度の高い、平版印絢版を提供する
ことである。
ことである。
纂Jの目的は、耐摩耗性が高く、耐刷性の高い平版印廟
版用感光性組成物を提供することである。
版用感光性組成物を提供することである。
これらの目的は、下記一般式(1)で示される繰シ返し
単位を肩する真合体又は共重合体を用いることにLり達
成されることt兇い出した。
単位を肩する真合体又は共重合体を用いることにLり達
成されることt兇い出した。
上記一般式(1)において、Rに、炭X数l〜1.2、
二)好ましくは、炭素数l−6のアルキル基、置換アル
キル基、アルケニル基又は、置換アルケニルfli(置
侯基としては、水酸基、アルコキシ基が好ましい)、炭
素数7〜12、エフ好ましくは、炭jl[7〜10のア
ラルキル基、又は置換アラルキル基、炭素数4S−70
のアリール基又は置換アリール基(ベンゼン環への置挨
暴としては、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、
水酸基、アルキル基が好ま1−い)を表わす。Zl、Z
、は各々−価の瞳換基を表わすが、工す好ましくは炭素
数ノル乙のアルコキシ基、炭素数/〜乙のアルキル基、
水#基、−COOR1趣(Rtはアルキル基、フェニル
基、アラルキル基ン表わす。)。
二)好ましくは、炭素数l−6のアルキル基、置換アル
キル基、アルケニル基又は、置換アルケニルfli(置
侯基としては、水酸基、アルコキシ基が好ましい)、炭
素数7〜12、エフ好ましくは、炭jl[7〜10のア
ラルキル基、又は置換アラルキル基、炭素数4S−70
のアリール基又は置換アリール基(ベンゼン環への置挨
暴としては、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、
水酸基、アルキル基が好ま1−い)を表わす。Zl、Z
、は各々−価の瞳換基を表わすが、工す好ましくは炭素
数ノル乙のアルコキシ基、炭素数/〜乙のアルキル基、
水#基、−COOR1趣(Rtはアルキル基、フェニル
基、アラルキル基ン表わす。)。
−C(JN)1kLl基(R>は−COOR1で述べた
のと同じ)、−NHCOR1基(Rtは一〇(JORl
で述べたのとmじ)などである。p、qは、各々O1又
は/−1の1数を表わし、これらが2以上の場合にはZ
l、Z2は各々−じでも真なってもよい。Xθはアニオ
ンを表わす。工9好ましくは。
のと同じ)、−NHCOR1基(Rtは一〇(JORl
で述べたのとmじ)などである。p、qは、各々O1又
は/−1の1数を表わし、これらが2以上の場合にはZ
l、Z2は各々−じでも真なってもよい。Xθはアニオ
ンを表わす。工9好ましくは。
特公昭弘7−//47号、同参?−弘!3ココ号、同a
t−aJroot号おQび米国特許第32I9弘弘7号
明細書に記載のハロゲン化水累酸類、リンtIk類、脂
肪族又は芳香族ホスホンe類、フッ化ホウ素歌、ヘキサ
フロロリンガどのハロゲン化ルイス酸−1過塩素酸など
の過ハロゲンal@、お工ひメタンスルホン酸、トルエ
ンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、スルホサリチル
酸、ナフタレン−l−スルホン酸、/−す7トールーコ
ースルホン酸、−−オキシ−弘−メトキ7ペンゾフェノ
゛ンー!−スルホンMなどの脂肪族又は芳香族スルホン
#拳である。
t−aJroot号おQび米国特許第32I9弘弘7号
明細書に記載のハロゲン化水累酸類、リンtIk類、脂
肪族又は芳香族ホスホンe類、フッ化ホウ素歌、ヘキサ
フロロリンガどのハロゲン化ルイス酸−1過塩素酸など
の過ハロゲンal@、お工ひメタンスルホン酸、トルエ
ンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、スルホサリチル
酸、ナフタレン−l−スルホン酸、/−す7トールーコ
ースルホン酸、−−オキシ−弘−メトキ7ペンゾフェノ
゛ンー!−スルホンMなどの脂肪族又は芳香族スルホン
#拳である。
共1合に用いる七ツマ−の例としては、アクリル酸、メ
タクリル酸、おLびそれらのアルキルエステル(例えは
メチルメタアクリレート、エチルアクリレート、ヒドロ
キシエチルアクリレート、プロピルアクリレート、シク
ロヘキシルアクリレート、コーエチルへキシルアクリレ
ート、デシルアクリレート、β−シアンエチルアク−リ
レート、β−クロロエテルアクリレート、λ−エトキシ
エテルアクリレート、スルホプロピルメタクリレートな
ど)、ビニールエステル類(例えば酢酸ビニル・プロピ
オン醗ビニル、@酸ビニルなト)、ビニルエーテル類(
列えばメチルビニルエーテル、プチルヒニルエーテル、
オレイルビニルエーテルナト)、ビニルケトン類(例え
はメチルビニルケトン、エチルビニルケトνなど)、ス
チレン@(例えばスチレン、メチルスチレン、ジメチル
スチレン、コ。
タクリル酸、おLびそれらのアルキルエステル(例えは
メチルメタアクリレート、エチルアクリレート、ヒドロ
キシエチルアクリレート、プロピルアクリレート、シク
ロヘキシルアクリレート、コーエチルへキシルアクリレ
ート、デシルアクリレート、β−シアンエチルアク−リ
レート、β−クロロエテルアクリレート、λ−エトキシ
エテルアクリレート、スルホプロピルメタクリレートな
ど)、ビニールエステル類(例えば酢酸ビニル・プロピ
オン醗ビニル、@酸ビニルなト)、ビニルエーテル類(
列えばメチルビニルエーテル、プチルヒニルエーテル、
オレイルビニルエーテルナト)、ビニルケトン類(例え
はメチルビニルケトン、エチルビニルケトνなど)、ス
チレン@(例えばスチレン、メチルスチレン、ジメチル
スチレン、コ。
a、t−トvメチルスチレン、エチルスチレン、ラウリ
ルスチレン、クロロスチレン、メトキシスチレン、シア
ノスチレン、り四ロメチルステVン、ビニル安息香酸、
スチレンスルホン酸、α−メチルスチレンなど)、ビニ
ルへテロ塊化合’fil!+ (fil、tはヒニルビ
リジン、ビニルビルリドン、ビニルイミダゾールなど)
、アクリロニトリル、塩化ビニル、ヒニリテンクロライ
ド、エチレン、フロピレン、フタジエン、ジイソブチレ
ン、インプレン、クロロブレンなどが挙けられる0本発
明は、以上の共重合性上ツマーvc@定するものではな
く、上記−鮫式(I)の構造単位?有するならばいかな
る共1合体でも工い。
ルスチレン、クロロスチレン、メトキシスチレン、シア
ノスチレン、り四ロメチルステVン、ビニル安息香酸、
スチレンスルホン酸、α−メチルスチレンなど)、ビニ
ルへテロ塊化合’fil!+ (fil、tはヒニルビ
リジン、ビニルビルリドン、ビニルイミダゾールなど)
、アクリロニトリル、塩化ビニル、ヒニリテンクロライ
ド、エチレン、フロピレン、フタジエン、ジイソブチレ
ン、インプレン、クロロブレンなどが挙けられる0本発
明は、以上の共重合性上ツマーvc@定するものではな
く、上記−鮫式(I)の構造単位?有するならばいかな
る共1合体でも工い。
父、共重合比および分子量は、ジアゾニウム塩含有高分
子化合物の感度、解運力、肩@f@媒その他への的解性
χ満足する範囲内で任意に選択できる。共重合比に関し
て1本発明の目的ρ・ら、ジアゾニウム塩単位%:←0
モル暢以上含有するものが脣に好ましい。分子量に関し
ては、重合度が数個のものから、畝百個のものが好まし
い、シシ具体的には、重合度がλ〜200.籍に好まし
くは、コ〜λ00のものである。しかしながら1本発明
は、上述した範囲に限定するものではなく、一般式(り
の構造単位’t’有するものならはいかなる分子量、い
かなる共重合体でも工いことは、ぼりまでもない。
子化合物の感度、解運力、肩@f@媒その他への的解性
χ満足する範囲内で任意に選択できる。共重合比に関し
て1本発明の目的ρ・ら、ジアゾニウム塩単位%:←0
モル暢以上含有するものが脣に好ましい。分子量に関し
ては、重合度が数個のものから、畝百個のものが好まし
い、シシ具体的には、重合度がλ〜200.籍に好まし
くは、コ〜λ00のものである。しかしながら1本発明
は、上述した範囲に限定するものではなく、一般式(り
の構造単位’t’有するものならはいかなる分子量、い
かなる共重合体でも工いことは、ぼりまでもない。
次に一般式(1)で表わされるジアゾニウム塩含有高分
子化合物のうち1代表的な化合物を示すか、本発明はこ
れに限定するものではない。
子化合物のうち1代表的な化合物を示すか、本発明はこ
れに限定するものではない。
M2
CM。
1
x:y=IO:λ0
O(I CH
3」 x:y±60=参〇 Hs x:y:z=40:10 二 t。
3」 x:y±60=参〇 Hs x:y:z=40:10 二 t。
本発明の一般式(1)で示される新規ジアゾニウム化合
物は、以下の操作に1夛合成できる。例えば、一般式(
if) で示されるクロロメチルスチレン(m−、p一体混合)
の誘導体(ここで’t1wpは、一般式(1)における
意味と同じである。)と一般式(I[I)で示されるア
ニリン誘導体(ここで” * z! I Qは一般式(
1)における意味と同じである。Bは、−N(J、、−
No 、−NHCOCHs 、−H。
物は、以下の操作に1夛合成できる。例えば、一般式(
if) で示されるクロロメチルスチレン(m−、p一体混合)
の誘導体(ここで’t1wpは、一般式(1)における
意味と同じである。)と一般式(I[I)で示されるア
ニリン誘導体(ここで” * z! I Qは一般式(
1)における意味と同じである。Bは、−N(J、、−
No 、−NHCOCHs 、−H。
−Nz■X6等のジアゾニウム基、もしくは還元。
ジアゾ化等にtDジアゾニウム基への変換が可能な置換
iv表わす。)馨適尚な条件下で反応させることにエリ
、下記一般式(IV) で表わさnる、1合性七ツマーが合成される。この重合
性七ツマ−を、ラジカル1合又は、カチオン重合等の開
始剤に工nx合せしめ、ジアゾポリマー又は、ジアゾ1
11r駆体ポリマー1する。ジアゾ前駆体ポリマーから
ジアゾポリマーへは、常法に従って変換できる。l#に
、−級アミノ基を有するポリマーのジアゾ化は、告えば
5andier。
iv表わす。)馨適尚な条件下で反応させることにエリ
、下記一般式(IV) で表わさnる、1合性七ツマーが合成される。この重合
性七ツマ−を、ラジカル1合又は、カチオン重合等の開
始剤に工nx合せしめ、ジアゾポリマー又は、ジアゾ1
11r駆体ポリマー1する。ジアゾ前駆体ポリマーから
ジアゾポリマーへは、常法に従って変換できる。l#に
、−級アミノ基を有するポリマーのジアゾ化は、告えば
5andier。
Karo着−Organic Functional
GroupPreparations (Acad
emic Press)纂i@、uO#)j、L、H,
KentらBiochem。
GroupPreparations (Acad
emic Press)纂i@、uO#)j、L、H,
KentらBiochem。
J、5177巻、72頁(/940)等を参考にするこ
とができる。
とができる。
以下に代表的碌化合物の合成例を示す。
合成例 1、 (原料の合成例)
三つロフラスコに攪拌装置、冷却管、温度計を付け、p
−アセチルアミノアニリン909(0゜6モル)、ヨウ
化エチル?J#t(0,4モル)、縦鹸カリウム弘1.
グf(0,3モル)および溶媒としてエタノール弘oo
myz入れ、攪拌vhなつ友、その後、反応系内の温に
’l16!t’cIlc株ち、3時間加熱、撹拌’kM
け、目つ化エチルJ/、λf(0,コモル)を追加しさ
らKj時間反応を行なった。反応終了後塩l1i1kt
p別し、ろ液t、アセトン3tと一塩酸60−の混合熱
液中に注き゛入れ、N−エチル−N′−アセテルールー
フユニレンジアミンの塩酸塩・粗結晶Vコt′%:f4
!た。その粗結晶ン、zoovaxの水にS解し、過−
のカセイソーダ水触液にエリ、中和すると、N−エチル
−N′−アセチル−p−7二二レンジアミンの結晶tr
f(収率4≠%)′?:得た。融点は/l!〜//4″
C1元素分析N(鳴)は、11.411%(計算値:/
J、72%)であった。
−アセチルアミノアニリン909(0゜6モル)、ヨウ
化エチル?J#t(0,4モル)、縦鹸カリウム弘1.
グf(0,3モル)および溶媒としてエタノール弘oo
myz入れ、攪拌vhなつ友、その後、反応系内の温に
’l16!t’cIlc株ち、3時間加熱、撹拌’kM
け、目つ化エチルJ/、λf(0,コモル)を追加しさ
らKj時間反応を行なった。反応終了後塩l1i1kt
p別し、ろ液t、アセトン3tと一塩酸60−の混合熱
液中に注き゛入れ、N−エチル−N′−アセテルールー
フユニレンジアミンの塩酸塩・粗結晶Vコt′%:f4
!た。その粗結晶ン、zoovaxの水にS解し、過−
のカセイソーダ水触液にエリ、中和すると、N−エチル
−N′−アセチル−p−7二二レンジアミンの結晶tr
f(収率4≠%)′?:得た。融点は/l!〜//4″
C1元素分析N(鳴)は、11.411%(計算値:/
J、72%)であった。
次にクロロメチルスチレン(m−、p一体混合)/!、
Jt(0,1モル)N−エチル−N′−アセチル−p−
フェニレンジアミン/7.If(0゜7モル)、炭酸カ
リウム6.99(0,0jモル)、エタノール100T
Id>工びヨウ化ナトリウム−2を攪拌装置、冷却管付
きの三つロフラスコに入れ、6!0Cにて弘時間撹拌を
行なった0反応終了後。
Jt(0,1モル)N−エチル−N′−アセチル−p−
フェニレンジアミン/7.If(0゜7モル)、炭酸カ
リウム6.99(0,0jモル)、エタノール100T
Id>工びヨウ化ナトリウム−2を攪拌装置、冷却管付
きの三つロフラスコに入れ、6!0Cにて弘時間撹拌を
行なった0反応終了後。
反応fliyyj 00wdlC)I N−N iOH
水浴液中に注き、沈でんした反応生成物f:JO011
klの酢酸エチルにて抽出した。その酢酸ニブル浴液’
II/N−塩鍼水溶液JOO緘で合皮抽出した。塩酸水
溶液から諷圧下、水を除去して、粗結晶27ftp得九
。
水浴液中に注き、沈でんした反応生成物f:JO011
klの酢酸エチルにて抽出した。その酢酸ニブル浴液’
II/N−塩鍼水溶液JOO緘で合皮抽出した。塩酸水
溶液から諷圧下、水を除去して、粗結晶27ftp得九
。
その粗結晶t、エタノール/酢酸エチルにて再結晶し、
下記llI造の結晶−zitc収畢70俤)χ得上紀化
合物の構造確認は、NMRスペクトル(−C(JUH3
δコ、 07 p pm ; CH1=−+CH−δj
、ljppm、!、60ppmお工びz、rOppm
+n Ui)301J)、赤外吸収スペクトA/(
−CυCk43 /410. :CH2=C)i
−9コocxn お工び990(Hem−sP−位置
m7λoan 、riocxn おLびIJO
an )お工び元素分析(N(%):r、Jr%(計
算値r、447%)、ct<*);io、ta*<計算
値10.7コ#I))等にニジ行なった。
下記llI造の結晶−zitc収畢70俤)χ得上紀化
合物の構造確認は、NMRスペクトル(−C(JUH3
δコ、 07 p pm ; CH1=−+CH−δj
、ljppm、!、60ppmお工びz、rOppm
+n Ui)301J)、赤外吸収スペクトA/(
−CυCk43 /410. :CH2=C)i
−9コocxn お工び990(Hem−sP−位置
m7λoan 、riocxn おLびIJO
an )お工び元素分析(N(%):r、Jr%(計
算値r、447%)、ct<*);io、ta*<計算
値10.7コ#I))等にニジ行なった。
合成例 L (化合物例(4)の合成)合成例1で合成
した重合性七ツマ−?、jf、蒸留水zomyy、攪拌
装置、冷却管、窒素導入管付きの三つロフラスコに入れ
、内温yg、;6z@CK加熱した。しばらく窒素雰囲
気下で攪拌を行ない、アゾビスシアノ吉草a!2(大塚
化学桑品■製)0゜79)l加え、を時間重合を行なっ
た。その後内容物Y:/lのアセトン中に注き゛、重合
物??(収率9j悌)を侍た。
した重合性七ツマ−?、jf、蒸留水zomyy、攪拌
装置、冷却管、窒素導入管付きの三つロフラスコに入れ
、内温yg、;6z@CK加熱した。しばらく窒素雰囲
気下で攪拌を行ない、アゾビスシアノ吉草a!2(大塚
化学桑品■製)0゜79)l加え、を時間重合を行なっ
た。その後内容物Y:/lのアセトン中に注き゛、重合
物??(収率9j悌)を侍た。
この重合物の分子l乞、光散乱法(Chromatix
。
。
KMX−4)にエフ測定し、M W =7.ダt×10
’(g合波:μ4A)のポリマーであることをWIli
&il!シた。このポリマー中には、C)1.WC)i
−基が全く含まれていなかった(NMRスペクトル。
’(g合波:μ4A)のポリマーであることをWIli
&il!シた。このポリマー中には、C)1.WC)i
−基が全く含まれていなかった(NMRスペクトル。
赤外吸収スペクトル)。
久Kp−位にアセチルアンノ基ン令する上記ポリツー1
flf、攪拌装置、冷却管付きの三つ口7ラスコに入n
、a塩酸!、!−1蒸貿水30緻。
flf、攪拌装置、冷却管付きの三つ口7ラスコに入n
、a塩酸!、!−1蒸貿水30緻。
エタノールlO戯を加え、7!”Cにて4時間攪拌ン行
なった。その後内容物tアセトン/j中に比き°、粉末
法のポリマー4.4f(収率rt*)Y侍た。このポリ
マーがp−位にアミノ基を有することは、NMI−Lス
ペクトル(δ λ、jppm−cucii3プロトンの
消失)、赤外吸収スベク) ル(−N )i C(J
CH3O吸収Kakッ<、/ A rO(n ’ 、
/ j j j(g−’お工ひlλ6ocxn’の消
失)お工ひアミノ基の滴定(ポリマーO6O参2中に/
、aoxio eq(計算(11:/、、?Ix
10 eq))に工n*かめた。
なった。その後内容物tアセトン/j中に比き°、粉末
法のポリマー4.4f(収率rt*)Y侍た。このポリ
マーがp−位にアミノ基を有することは、NMI−Lス
ペクトル(δ λ、jppm−cucii3プロトンの
消失)、赤外吸収スベク) ル(−N )i C(J
CH3O吸収Kakッ<、/ A rO(n ’ 、
/ j j j(g−’お工ひlλ6ocxn’の消
失)お工ひアミノ基の滴定(ポリマーO6O参2中に/
、aoxio eq(計算(11:/、、?Ix
10 eq))に工n*かめた。
久に、上記ポリマー6、!2、ill塩aL’/7.J
−1蒸貿水10ralt、攪拌装置、−下ロート付き三
つロフラスコに入れ、系内の温度を0°Cまで冷すした
。原しく攪拌を竹ないながら゛、亜硝酸ナトリウム−,
74ft蒸留水−20mに溶解した醪敵ン、系内Q一度
がJ ’C以上にならないように徐々に滴下した。凋下
終了後さらに/時間J @C以下に保ち攪拌を続けた。
−1蒸貿水10ralt、攪拌装置、−下ロート付き三
つロフラスコに入れ、系内の温度を0°Cまで冷すした
。原しく攪拌を竹ないながら゛、亜硝酸ナトリウム−,
74ft蒸留水−20mに溶解した醪敵ン、系内Q一度
がJ ’C以上にならないように徐々に滴下した。凋下
終了後さらに/時間J @C以下に保ち攪拌を続けた。
その後室温にもどし、一部の不ms分Y:P去し、ろ液
を、あらかじめコーオキシーμmメトキクーベンゾフェ
ノン−j−スルホン酸?、コ4tf′Y:蒸留水JOO
−に浩解させておいた溶液中に滴下した。こうして析出
させたジアゾボリマーン、戸取し、コーメトキシエタノ
ールに再浩解し、酢酸エチルにて再沈した。F取して乾
燥した結果ざ、7g(収率47.j%)の化合物例(4
)のポリマーを得た0元素分析により測定した納釆α含
麺はO優、S含量は、z、sr%(組算値;!、619
b)、N含量は、7.J/暢(計算値ニア、Jjt%)
であった。
を、あらかじめコーオキシーμmメトキクーベンゾフェ
ノン−j−スルホン酸?、コ4tf′Y:蒸留水JOO
−に浩解させておいた溶液中に滴下した。こうして析出
させたジアゾボリマーン、戸取し、コーメトキシエタノ
ールに再浩解し、酢酸エチルにて再沈した。F取して乾
燥した結果ざ、7g(収率47.j%)の化合物例(4
)のポリマーを得た0元素分析により測定した納釆α含
麺はO優、S含量は、z、sr%(組算値;!、619
b)、N含量は、7.J/暢(計算値ニア、Jjt%)
であった。
合成例 3.、(化合物例(8)の合成)攪拌装置、冷
却管、窒素導入管付きの三つロフラスコに、合成例1で
合成した重合性モノマー/J、2f/(0,0弘モル)
メタクリル酸o、r49(0,01モル)おLび蒸留水
rowiy2加え、内温y!1−6j’Cに加熱した。
却管、窒素導入管付きの三つロフラスコに、合成例1で
合成した重合性モノマー/J、2f/(0,0弘モル)
メタクリル酸o、r49(0,01モル)おLび蒸留水
rowiy2加え、内温y!1−6j’Cに加熱した。
しばらく窒素雰囲気下で攪拌を行ない、合成例2と同様
にアゾビスクアノ春草tllO,7!t’17XJえ、
を時間重合を行ない、内容物wi、ztのアセトン中に
注ぎ、1合一/2.tf(収率デO鳴)を得た。
にアゾビスクアノ春草tllO,7!t’17XJえ、
を時間重合を行ない、内容物wi、ztのアセトン中に
注ぎ、1合一/2.tf(収率デO鳴)を得た。
この重合物o、it中には、7.JXlo ’eqのカ
ルボキシル基(計算値ニア、/X10’″′″5eq
)があることケミ位差滴定にニジ確認した。
ルボキシル基(計算値ニア、/X10’″′″5eq
)があることケミ位差滴定にニジ確認した。
またこの重合物の分子量Fi、光敏1!i1.法にニジ
測定した結果、Mw=/、4A5’X10 のポリマー
(1合度”、!!、(スチレン鱒導体):(メタクリル
es>=uコ、弘:10.4)であった。
測定した結果、Mw=/、4A5’X10 のポリマー
(1合度”、!!、(スチレン鱒導体):(メタクリル
es>=uコ、弘:10.4)であった。
以下合成例2と同様に加水分解、ジアゾ化を行ない、化
合物例(8)のポリマーを合成した。
合物例(8)のポリマーを合成した。
本発明の感光性シアシボ′リマーは、例えば平版印刷版
の製造にあたシ、種々の合成樹脂と混合して使用するこ
とができる。それらの樹脂は、十分なインク受容性を与
えるため及び親水性の非画像部分と艮好な%14性を与
えるため親油性でなけれはならない。それらの樹脂はま
た、通常の有&瘤媒に司浴注であり、水にほとんど、も
しくは全く不治性でゐシ1本発明のジアゾ樹脂と相溶性
で。
の製造にあたシ、種々の合成樹脂と混合して使用するこ
とができる。それらの樹脂は、十分なインク受容性を与
えるため及び親水性の非画像部分と艮好な%14性を与
えるため親油性でなけれはならない。それらの樹脂はま
た、通常の有&瘤媒に司浴注であり、水にほとんど、も
しくは全く不治性でゐシ1本発明のジアゾ樹脂と相溶性
で。
フィルム形成性でなければならない、さらに長い印刷工
程中の耐摩耗性と適度の弾性を有すことが必要である。
程中の耐摩耗性と適度の弾性を有すことが必要である。
これらの樹脂の例としては、クレゾールlit脂、ポリ
エステル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル
、ポリ(メタ)アクリレート、ポリスチレン、ポリ酢酸
ビニル等の1合体又は縮合体お工びアクリル酸、メタク
リル酸等のα。
エステル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル
、ポリ(メタ)アクリレート、ポリスチレン、ポリ酢酸
ビニル等の1合体又は縮合体お工びアクリル酸、メタク
リル酸等のα。
β不飽和カルボン酸か、アクリル酸メチル、アクリル酸
エチル、コーヒドロキシエチルアクリレート等のアルキ
ルアクリレート類、アルキルメタクリレート類、アクリ
ルアミド、N−エチルアクリルアミド等のアクリルアン
ド拳、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン
類尋々の重合性モノマーから遇択6れた共1合体などが
挙けられる。
エチル、コーヒドロキシエチルアクリレート等のアルキ
ルアクリレート類、アルキルメタクリレート類、アクリ
ルアミド、N−エチルアクリルアミド等のアクリルアン
ド拳、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン
類尋々の重合性モノマーから遇択6れた共1合体などが
挙けられる。
本発明の感光性組成物における本発明の感光性ジアゾポ
リマーの含有量は支持体の糧類、目的にエフ異なるが、
好まし□くは1〜!01量鳴、工り好葦しくけ3〜−2
0重重囁である。ジアゾポリマーとして共1合体を用い
るときには、ジアゾニウム塩含有ユニットの含有量であ
ることは言うまでもない。
リマーの含有量は支持体の糧類、目的にエフ異なるが、
好まし□くは1〜!01量鳴、工り好葦しくけ3〜−2
0重重囁である。ジアゾポリマーとして共1合体を用い
るときには、ジアゾニウム塩含有ユニットの含有量であ
ることは言うまでもない。
本発明のジアゾポリマーお工ひ上記合成樹脂χ混合、触
解し支持体上に塗布するための#I媒としては、J−メ
トキシエタノールの1うなりリコールエーテル、アセト
ン、メチルエチルケトンの工つナケトン類、メタノール
、エタノールの工すなアルコール類、N−メチルピロリ
ドンの工うな複本環式化付物お工ひトリオキサンの工う
なエーテル類が挙けられる。これらは30暢以内、Lシ
好筐しくは20%以内の水と混合して使用してもよい。
解し支持体上に塗布するための#I媒としては、J−メ
トキシエタノールの1うなりリコールエーテル、アセト
ン、メチルエチルケトンの工つナケトン類、メタノール
、エタノールの工すなアルコール類、N−メチルピロリ
ドンの工うな複本環式化付物お工ひトリオキサンの工う
なエーテル類が挙けられる。これらは30暢以内、Lシ
好筐しくは20%以内の水と混合して使用してもよい。
本発明の感光性ジアゾポリマーは、単独でもしくは、上
記−脂とともに、アルミニウム板、亜鉛板等の金属やポ
リエステル等のプラスティックフィルムおよび紙等に塗
布し、t−IJJiAその他の目的に供する。平版印刷
版用には、支持体表面とジアゾ化合物との間の有害な相
互作用を阻止するため。
記−脂とともに、アルミニウム板、亜鉛板等の金属やポ
リエステル等のプラスティックフィルムおよび紙等に塗
布し、t−IJJiAその他の目的に供する。平版印刷
版用には、支持体表面とジアゾ化合物との間の有害な相
互作用を阻止するため。
支持体表面を不wJ態化する。この不働態化処理は。
麺元部分と支持体との閣の馨い結合ン促進し、かりまた
印刷工程中域水性表面を与えることχ助ける。米国%I
f!f編−27/弘064号明細書に1叙されているケ
イ酸塩処理、同第2?≠663を考量細書に記載されて
いる弗化ジルコニウム酸カリウム水浴液による処理、同
@JλO7λ弘7号明細簀に記載されているホスホモリ
フデート処理おLび同第3411462号明#m書に考
量されているシリケート電着などがめる。
印刷工程中域水性表面を与えることχ助ける。米国%I
f!f編−27/弘064号明細書に1叙されているケ
イ酸塩処理、同第2?≠663を考量細書に記載されて
いる弗化ジルコニウム酸カリウム水浴液による処理、同
@JλO7λ弘7号明細簀に記載されているホスホモリ
フデート処理おLび同第3411462号明#m書に考
量されているシリケート電着などがめる。
本発明の感光性ジアゾポリマーは、上記合成樹脂以外に
1々の添加剤を併用して4工い。それらの添加剤は、塗
布層の弾性や耐摩耗性を増大させるための可塑剤(例え
ば、フタル酸ジブチル、リン酸トリクレジル等のエステ
ル−)、l1iIi偉部分を着色させる物質(アクリジ
ン染料、シアニン染料トリアリールメタン染料、フタロ
シアニンman>、錦光に工り発色する物質(アジド化
合物等)お1ひ安定化剤(リン酸、シュウ酸、クエン酸
など)などである。
1々の添加剤を併用して4工い。それらの添加剤は、塗
布層の弾性や耐摩耗性を増大させるための可塑剤(例え
ば、フタル酸ジブチル、リン酸トリクレジル等のエステ
ル−)、l1iIi偉部分を着色させる物質(アクリジ
ン染料、シアニン染料トリアリールメタン染料、フタロ
シアニンman>、錦光に工り発色する物質(アジド化
合物等)お1ひ安定化剤(リン酸、シュウ酸、クエン酸
など)などである。
本発明のジアゾポリマーおよび合成11脂、添加剤等の
感光性組成物の支持体への塗布量は極めて1要である。
感光性組成物の支持体への塗布量は極めて1要である。
皇布首が多すき“る場合には、すなわち道布展が厚いの
で一足時間内での境像が不十分であったり、父、一定の
露光時間内に十分光が退入しなρ)つたり、という間組
が生じる。一方、塗布量が少なすぎる場合には、−偉部
分の膜厚が薄いため耐摩耗性の低下を招くことになり、
商品価11ILケ着るしくそこなうものである。以上の
ことから本発明の感光性組成物は0079〜j f /
m2 、工す好ましくは、O,Jf−≠9/m2の範
囲で迦布纒れる。
で一足時間内での境像が不十分であったり、父、一定の
露光時間内に十分光が退入しなρ)つたり、という間組
が生じる。一方、塗布量が少なすぎる場合には、−偉部
分の膜厚が薄いため耐摩耗性の低下を招くことになり、
商品価11ILケ着るしくそこなうものである。以上の
ことから本発明の感光性組成物は0079〜j f /
m2 、工す好ましくは、O,Jf−≠9/m2の範
囲で迦布纒れる。
支持拝上に塗布ちnた感光性組成物は、線画倫、網点l
i!11g1等を肩する原画を通して露光し、水性現律
除でtA4aすることにL勺ネガ画像が得られる。
i!11g1等を肩する原画を通して露光し、水性現律
除でtA4aすることにL勺ネガ画像が得られる。
一般にジアゾ樹脂に比較して多電の合成街脂乞含む印刷
版ン境儂するために水性税僧液中に少量の肩機醗媒およ
び界面活性剤を使用することもある。
版ン境儂するために水性税僧液中に少量の肩機醗媒およ
び界面活性剤を使用することもある。
11!ii惨部分への患影響がない工うに、現場時間は
知力・く、舊41!溶媒の磯波は低いのが好ましい。典
型的な有嶺齢媒には低級アルフールエステル類、グリコ
ールエーテル類、ケトン類などがある。
知力・く、舊41!溶媒の磯波は低いのが好ましい。典
型的な有嶺齢媒には低級アルフールエステル類、グリコ
ールエーテル類、ケトン類などがある。
次に本発明の感光性組成物につき、実施例を挙げて説明
するか、本発明はそれらに限定するものではない。
するか、本発明はそれらに限定するものではない。
実施例 1
厚さ0 、 Jrrnのアルミニウム板yyro”cK
保たれた第三シん酸ソーダの10%水#液に3分間&償
して脱脂し、ナイロンブラシで砂目立て波、tooCの
アルミン酸ソーダで約70秒間エツチングし1次に懺瞭
水木ナトリウムJ%水#!!液でデスマットした。この
アルミニウム板Y:20%硫酸中でJA/dm 、2
分間陽極酸化し、その後70’Cのケイ酸ソーダコ、!
鳴水溶液で1分間処理し陽極酸化アルミニウム板(1)
Y:作成した。
保たれた第三シん酸ソーダの10%水#液に3分間&償
して脱脂し、ナイロンブラシで砂目立て波、tooCの
アルミン酸ソーダで約70秒間エツチングし1次に懺瞭
水木ナトリウムJ%水#!!液でデスマットした。この
アルミニウム板Y:20%硫酸中でJA/dm 、2
分間陽極酸化し、その後70’Cのケイ酸ソーダコ、!
鳴水溶液で1分間処理し陽極酸化アルミニウム板(1)
Y:作成した。
このアルミニウム板(1)に、本発明の化舎慴又は、比
較化合#A’a’含む下記感光液ン畿布した。
較化合#A’a’含む下記感光液ン畿布した。
乾燥はrooc、2分間行なった。乾燥塗布重量は2.
097 m”であった。
097 m”であった。
本発明の化合物又は比較化合物A 01itコーヒド
ロキシエチルメタクリレ 一ト共重合体(1) o、ryyオイルブ
ルー$ 407 (オリエント化学工業@製) 0.019λ−メト
キシエタノール 4fメタノ−/I/lt 比軟化合物A 2−ヒドロキ7エチルメタクリレート共重合体(1)(
特公昭!j−3≠929中の共重合体)Ha ()の数字は、モル比ン表わす。
ロキシエチルメタクリレ 一ト共重合体(1) o、ryyオイルブ
ルー$ 407 (オリエント化学工業@製) 0.019λ−メト
キシエタノール 4fメタノ−/I/lt 比軟化合物A 2−ヒドロキ7エチルメタクリレート共重合体(1)(
特公昭!j−3≠929中の共重合体)Ha ()の数字は、モル比ン表わす。
このようにして得た感光性平版印刷版の試料l〜!(試
料−7は、比較化合物A、試料λ〜!は本発明の化合物
を含むものである。)を、真空焼枠装置を用いて富士写
真フィルム■製P8ライトSタイプ(メタルハライドラ
ンプ、JkW)で距離/mから露光し次に示す現俸液に
て室温で1分関沙漬後・脱脂綿で表111iを軽くこす
り、未赫光部を除去しそれぞれ平版印刷版試料/ −j
Y:得た。
料−7は、比較化合物A、試料λ〜!は本発明の化合物
を含むものである。)を、真空焼枠装置を用いて富士写
真フィルム■製P8ライトSタイプ(メタルハライドラ
ンプ、JkW)で距離/mから露光し次に示す現俸液に
て室温で1分関沙漬後・脱脂綿で表111iを軽くこす
り、未赫光部を除去しそれぞれ平版印刷版試料/ −j
Y:得た。
亜値酸ナトリウム 3tベンジ
ルアルコール JOfトリエタノール
アミン コOfモノエタノールアミン
!VペレックスNBL
JO?(1−ブチルナフタレンスル ホン酸ナトリウム 花王アトラス株式会社製) 水 1000
11dこの時、襖士写^フィルム■製ステップウェッジ
を用いての、5段ペタとするための蕗光時間は次の表7
のとおシであり1本l@明Oジアゾ化合物ン用いた感光
性平版印刷版コ〜jに、いづれも比較化合物A二りも高
感度であった。
ルアルコール JOfトリエタノール
アミン コOfモノエタノールアミン
!VペレックスNBL
JO?(1−ブチルナフタレンスル ホン酸ナトリウム 花王アトラス株式会社製) 水 1000
11dこの時、襖士写^フィルム■製ステップウェッジ
を用いての、5段ペタとするための蕗光時間は次の表7
のとおシであり1本l@明Oジアゾ化合物ン用いた感光
性平版印刷版コ〜jに、いづれも比較化合物A二りも高
感度であった。
表 7
*表中に示しr*合度は1合成例(2)の中で記述した
工うに、重量平均分子量工 り算出した平均1合度である。
工うに、重量平均分子量工 り算出した平均1合度である。
これらの試料2〜!は、ハイテルベルク社製OTO印刷
機で市販のインクにて上質紙に印刷したところ試料lと
同様に良好な印刷vJ−tomo。
機で市販のインクにて上質紙に印刷したところ試料lと
同様に良好な印刷vJ−tomo。
0枚が侍られた。
実施例 2
実施例1のアル<=ラム板(1)に、本発明の化合物(
4)を含ひ下記感光数馨虜布した。
4)を含ひ下記感光数馨虜布した。
本発明の化合物(410、/ f
表λ中の共重合体(川) 、 (TiA>又は(■)
o、tyyオイルブルーQ60
J 01OJf/λ−メトキシエタノール
A?・ メタノール 6fこれらの、感光
性平版印刷版t%実施例1と同様に絡光机儂し印刷恢で
印刷した結果、全て良好な印刷物が得られた。
o、tyyオイルブルーQ60
J 01OJf/λ−メトキシエタノール
A?・ メタノール 6fこれらの、感光
性平版印刷版t%実施例1と同様に絡光机儂し印刷恢で
印刷した結果、全て良好な印刷物が得られた。
特許量−人 蔦士写真フィルム株式会社手続、補正書
1.事件の表示 昭和I7年脣願第 10J#J
I号2、発明の名称 感光性組成物 3、補正をする者 事件との関係 譬軒出願人表 補正の対象
f!AJIB書の「発明の詳細な説明」の欄 記の迩シ補正する。
I号2、発明の名称 感光性組成物 3、補正をする者 事件との関係 譬軒出願人表 補正の対象
f!AJIB書の「発明の詳細な説明」の欄 記の迩シ補正する。
(1) 菖λ勇2行目の「コ以上の場合KtLzlb
z3框−じでも異なりてもJCI/’11 J V r
J以上の場合には、岡−の環上に−じ置換基を有しても
、異なったt換基を有してもLい、」と補正する。
z3框−じでも異なりてもJCI/’11 J V r
J以上の場合には、岡−の環上に−じ置換基を有しても
、異なったt換基を有してもLい、」と補正する。
(2) Jig基勇/J行目の「これらが2以上の場
合には、zl、z、は、各々殉じでも異なって41い。
合には、zl、z、は、各々殉じでも異なって41い。
」t「これらが−以上の場合Ktj、 lll−の環上
KPFIじ置換基を有しても、異なった置換基を有して
もよい、」と補正する。
KPFIじ置換基を有しても、異なった置換基を有して
もよい、」と補正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式(1)で表わさnるm9返し単位ン肩する1
合体又は共重合体を含有する感光性組成物。 (1) 上記一般式(1)において凡は、アルキN基。 置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、ア
リニル基、rIt!1IIIアリール基、アラルキル基
又に、直換アラルキル基な表わす。Zl 、Z2は同一
でわっても、相違しても工く各々−価の置換基Y表わす
。p、qは各々O1又はl−弘の整数を表わし、−以上
の場合にはL*、Z2は同じで4異なって−もLい。X
eは、アニオンを表わす。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1034382A JPS58127923A (ja) | 1982-01-26 | 1982-01-26 | 感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1034382A JPS58127923A (ja) | 1982-01-26 | 1982-01-26 | 感光性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58127923A true JPS58127923A (ja) | 1983-07-30 |
Family
ID=11747535
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1034382A Pending JPS58127923A (ja) | 1982-01-26 | 1982-01-26 | 感光性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58127923A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4902601A (en) * | 1986-02-12 | 1990-02-20 | Vickers Plc | Radiation sensitive polymeric diazonium salt and methods of making the polymeric diazonium salt |
US5009981A (en) * | 1988-07-11 | 1991-04-23 | Konica Corporation | Photosensitive composition |
-
1982
- 1982-01-26 JP JP1034382A patent/JPS58127923A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4902601A (en) * | 1986-02-12 | 1990-02-20 | Vickers Plc | Radiation sensitive polymeric diazonium salt and methods of making the polymeric diazonium salt |
US5009981A (en) * | 1988-07-11 | 1991-04-23 | Konica Corporation | Photosensitive composition |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH11504435A (ja) | ネガ型処理不要印刷版 | |
JPS6070440A (ja) | 光硬化可能な組成物及び感光素子 | |
JP3261156B2 (ja) | アリールジアゾスルホネートを含有する樹脂に基いた平版印刷版 | |
US6596456B2 (en) | Use of cinnamic acid groups containing acetal polymers for radiation-sensitive compositions and lithographic printing plates | |
JPS62169154A (ja) | 感光性組成物 | |
JPS58127923A (ja) | 感光性組成物 | |
US3230087A (en) | Light-sensitive polymeric diazonium and azidoacrylamido reproduction materials and process for making plates therefrom | |
EP1350801A1 (en) | Polymeric acetal resins containing free radical inhibitors and their use in lithographic printing | |
US4581313A (en) | Photosensitive composition with polymer having diazonium salt in side chain | |
JPH0894826A (ja) | インク組成物及びそれを用いて作製するカラーフィルター | |
JPH0336215B2 (ja) | ||
JPS6043650A (ja) | 感光性重縮合生成物及び該縮合生成物を含有する感光性記録材料 | |
JPH0462659B2 (ja) | ||
EP0470581B1 (en) | Aromatic diazo compounds, production method thereof and photosensitive compositions using the same | |
JPS60202437A (ja) | 感光性像形成性組成物 | |
JPH0157332B2 (ja) | ||
JP2581852B2 (ja) | 芳香族ジアゾ化合物及びその製造法並びにそれを用いた感光性組成物 | |
JP2596005B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
Matusche et al. | Water soluble and photoactive copolymers containing amidic aryldiazosulfonate groups | |
JP2604770B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JPH0364753A (ja) | 感光性樹脂用及び感光性樹脂下地材用添加物 | |
JP2957028B2 (ja) | 光硬化性の着色組成物 | |
JPH0229649A (ja) | 感光性ネガチブ処理オフセット印刷版用板体 | |
DE1226880B (de) | Photographische Emulsion fuer die Herstellung von Farbbildern mit Hilfe der farbigenEntwicklung | |
DE2225573C3 (de) | Sulfonsäureamid-Diazooxyd und seine Verwendung |