JPS6043650A - 感光性重縮合生成物及び該縮合生成物を含有する感光性記録材料 - Google Patents
感光性重縮合生成物及び該縮合生成物を含有する感光性記録材料Info
- Publication number
- JPS6043650A JPS6043650A JP59000357A JP35784A JPS6043650A JP S6043650 A JPS6043650 A JP S6043650A JP 59000357 A JP59000357 A JP 59000357A JP 35784 A JP35784 A JP 35784A JP S6043650 A JPS6043650 A JP S6043650A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- diaryl
- photosensitive
- recording material
- alkoxy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、感光性組成物に関するか又は殊に印桐板なら
びに7.1− トし・シスト及びカラー校正刷りフィル
ムのような他の写真素子を製造するためのリングラフイ
ック技術に使用するのに適当な特殊のジアゾニウム化合
物類に関する。
びに7.1− トし・シスト及びカラー校正刷りフィル
ムのような他の写真素子を製造するためのリングラフイ
ック技術に使用するのに適当な特殊のジアゾニウム化合
物類に関する。
ジアゾニウム化合物の特性が感光性、又は感光速匿、及
び老化可能性又は保存寿命の点で広範に変化することは
、公知である。感光速度と保存寿命が互いに反対の関係
にあることは、一般に認められる。すなわち、感光性が
増大すると、保存寿命は減少し、保存寿命が増大すると
、感光性は減少する。経験によれば、市場で必要とされ
るのは、リングラフイック印刷板が重大な感光速度の低
下よりも前に少なくとも12ケ月、特に少なくとも18
ケ月の保存寿命を有することである。
び老化可能性又は保存寿命の点で広範に変化することは
、公知である。感光速度と保存寿命が互いに反対の関係
にあることは、一般に認められる。すなわち、感光性が
増大すると、保存寿命は減少し、保存寿命が増大すると
、感光性は減少する。経験によれば、市場で必要とされ
るのは、リングラフイック印刷板が重大な感光速度の低
下よりも前に少なくとも12ケ月、特に少なくとも18
ケ月の保存寿命を有することである。
改善された保存寿命を達成する1つの方法は、尚い感光
性を有すると思われる化合物を他の状態の水溶性の形か
ら溶剤溶性にすることである。
性を有すると思われる化合物を他の状態の水溶性の形か
ら溶剤溶性にすることである。
この方法は、老化に悪影響を及ぼしうる化合物の吸湿性
を減少させる。
を減少させる。
欧州%許出願第89509号に記載の方法を使用すると
、金属板表面に塗布すべきジアゾ化合物を電解液からの
陰極′1着により塗布する場合に一定の利点が実現され
る。このような方法を使用することにより、付着力及び
全てのリソグラフィー性能の著しい改善な有する被膜が
生じる。幾つかのジアゾニウム化合物は、標準被膜塗布
法に対立するものとして電位を使用する場合に改善され
た安定性を有することが観察される。一般に1陰極電着
表面を惹起するために使用されるかかる電位にさらした
場合に最大の安定性を有するようなジアゾ化合物は、む
しろ低いUV感度を有する傾向にある。なお高い感光速
度を保持しながら電位に酎えうる化合物を得るために、
新規のジアゾ化合物をペースとする重合体を合成する新
しい方法が記載される。
、金属板表面に塗布すべきジアゾ化合物を電解液からの
陰極′1着により塗布する場合に一定の利点が実現され
る。このような方法を使用することにより、付着力及び
全てのリソグラフィー性能の著しい改善な有する被膜が
生じる。幾つかのジアゾニウム化合物は、標準被膜塗布
法に対立するものとして電位を使用する場合に改善され
た安定性を有することが観察される。一般に1陰極電着
表面を惹起するために使用されるかかる電位にさらした
場合に最大の安定性を有するようなジアゾ化合物は、む
しろ低いUV感度を有する傾向にある。なお高い感光速
度を保持しながら電位に酎えうる化合物を得るために、
新規のジアゾ化合物をペースとする重合体を合成する新
しい方法が記載される。
本発明によれば、比較的に高い感光速度ならびに熱的低
下及び電気的低下に対する夾質的な抵抗を証明するジア
ゾ化合物類が得られる。
下及び電気的低下に対する夾質的な抵抗を証明するジア
ゾ化合物類が得られる。
本発明によれば、式A1及び弐A2:
〔上記式中、R8及びRlIは、同一が又は異なり、0
1〜C2アルキル基、C8〜c4アルコキシ基、ハロゲ
ン原子又はジメチルアミノ基であり;R1は−H,−C
H,、−Ct 、=ocn、、−0CH,CH,−であ
り; R4は−H,−CH,、−CIであり;〒 あり、この場合 Rは、CH2及びC(CH3)2からなる基から選択さ
れ、 Mは、芳香族炭化水素、ジアリールエーテル、ジアリー
ルスルフィr、ジアリールジスルフィド、ジアリールス
ルホン、ジアリールアミン、ジアリールケト/及びジア
リールジケトンからなる基から選択された芳香族基であ
り、bは、0であるか又は1〜約9の整数であり、Dは
、−CH2−又は−C1(2−0−Ct(2−からなる
基から選択され、 Tは、Rと同じものであるか又はDが−CH,−である
場合には、R12−ヒドロキシ−ゾロビー2−イル、ヒ
ドロキシメチル、(C,〜C4アルコキシ)メチル、ア
セトキシメチル、クロルメチル及びブロムメチルから選
択された末端基であり、Dが−CH2−0−CH,−で
ある場合には、Hであり; Xはジアゾニウム塩のアニオンであり;Yは一洲−1O
−S−O又は−〇−であり;2は−5−1−〇−又は−
NHCO−であり;この場合単位A、十A、の合計は、
平均で2〜160であり、AljA、の比は、O,l
25 : 1〜8:1である〕で示される、二価の員R
6によって結合した、それぞれの繰り返し単位を有する
感光性重縮合生成中が得られる。
1〜C2アルキル基、C8〜c4アルコキシ基、ハロゲ
ン原子又はジメチルアミノ基であり;R1は−H,−C
H,、−Ct 、=ocn、、−0CH,CH,−であ
り; R4は−H,−CH,、−CIであり;〒 あり、この場合 Rは、CH2及びC(CH3)2からなる基から選択さ
れ、 Mは、芳香族炭化水素、ジアリールエーテル、ジアリー
ルスルフィr、ジアリールジスルフィド、ジアリールス
ルホン、ジアリールアミン、ジアリールケト/及びジア
リールジケトンからなる基から選択された芳香族基であ
り、bは、0であるか又は1〜約9の整数であり、Dは
、−CH2−又は−C1(2−0−Ct(2−からなる
基から選択され、 Tは、Rと同じものであるか又はDが−CH,−である
場合には、R12−ヒドロキシ−ゾロビー2−イル、ヒ
ドロキシメチル、(C,〜C4アルコキシ)メチル、ア
セトキシメチル、クロルメチル及びブロムメチルから選
択された末端基であり、Dが−CH2−0−CH,−で
ある場合には、Hであり; Xはジアゾニウム塩のアニオンであり;Yは一洲−1O
−S−O又は−〇−であり;2は−5−1−〇−又は−
NHCO−であり;この場合単位A、十A、の合計は、
平均で2〜160であり、AljA、の比は、O,l
25 : 1〜8:1である〕で示される、二価の員R
6によって結合した、それぞれの繰り返し単位を有する
感光性重縮合生成中が得られる。
出発率量体は、得られる共重合体で任意の特別な順序で
位置を定める必要がない。
位置を定める必要がない。
本発明は、前記ジアゾ化合物をAイングー樹脂、着色剤
、溶剤、可重剤、界面活性剤及び酸のよ5なかかる付加
的な場合による成分との混合物で含有する感光性組成物
を包含し、ならびに適当な基板上に配置さ゛れたかかる
感光性組成物を含有する与真累子をも包含する。
、溶剤、可重剤、界面活性剤及び酸のよ5なかかる付加
的な場合による成分との混合物で含有する感光性組成物
を包含し、ならびに適当な基板上に配置さ゛れたかかる
感光性組成物を含有する与真累子をも包含する。
単位A1及びA2の全体数は、2〜30であるのが好ま
しく、A、 :A2の比は、0.5〜2:1、特に05
〜1:1であるのが好まし℃1゜2つの単位A2が互い
に結合しているか又を11つの単位A2が1つの単位A
1′に結合して(・る場合、結合具R6は、CH2又は
CRCH3、特にCH8であるのが好ましい。
しく、A、 :A2の比は、0.5〜2:1、特に05
〜1:1であるのが好まし℃1゜2つの単位A2が互い
に結合しているか又を11つの単位A2が1つの単位A
1′に結合して(・る場合、結合具R6は、CH2又は
CRCH3、特にCH8であるのが好ましい。
本発明による化合物は、一般に縮合反応生成物として記
載することができ、この場合2つ又はそれ以上のジアゾ
化ジアリール構造は、反応可能でありかつその一部とし
てジアゾ基を有しないジアゾ単量体のアリール構造の一
部をなすパラホルムアルデヒド又は適当な単量体もしく
はオリゴマーと反応される。使用される媒体&よ、酸、
特に無機酸、殊に硫酸又は燐酸であるのスシー好ましい
。適当なジアゾ単量体は、ジフェニルアミン4−ジアゾ
ニウムスルフェート、3−アルコキシジフェニルアミン
4−ジアゾニウムスルフェート(この場合、アルコキシ
&まC=1〜4である)、2.5−ジアルコキシ−ジフ
ェニルスルフィド4−ジアゾニウムスルフェート(この
場合、アルコキシ基はC=1〜4である)、2.5−ジ
アルコキシ−4−(1)−)リルメルカブト)−ベンゼ
ンジアゾニウムテトラクロル亜鉛酸塩、2.5−ジアル
コキシ−4−ベンゾイルアミノ−ベンゼンジアゾニウム
テトラクロル亜鉛酸塩又は2〜クロル−5−(4−クロ
ルフェノキシ)−4−ジメチルアミノ−ベンゼンジアゾ
ニウムテトラクロル亜鉛酸塩であることができる。縮合
単量体は、一般式[4−(P−CH2−)フェニル〕2
W(この場合、Wは一〇H2−1−〇−1−s−1−s
−s−1−Nl(、−CO−1−co−co−1CH3
CCH,、基Mに等しいか又は単一結合であり、Pは−
CI ’、 −Br 、 −OH%’−0CH3、−0
CH2CH3、−O(CH2) 2CH,、−0(CH
2) 3CH3又はパラホルムアルデヒドである)で示
される化合物であるのが好ましい。ジアゾ単量体との縮
合に使用される第11?マーは、パラホルムアルデヒド
を除く前記の縮合単量体の全部のホモ縮合物であること
ができるか、又は前記の縮合単量体の全部の共縮合物で
あることができる。ジアゾ化合物とのiRラホルムアル
デヒド縮合反応の場合、好ましい媒体は、硫酸である。
載することができ、この場合2つ又はそれ以上のジアゾ
化ジアリール構造は、反応可能でありかつその一部とし
てジアゾ基を有しないジアゾ単量体のアリール構造の一
部をなすパラホルムアルデヒド又は適当な単量体もしく
はオリゴマーと反応される。使用される媒体&よ、酸、
特に無機酸、殊に硫酸又は燐酸であるのスシー好ましい
。適当なジアゾ単量体は、ジフェニルアミン4−ジアゾ
ニウムスルフェート、3−アルコキシジフェニルアミン
4−ジアゾニウムスルフェート(この場合、アルコキシ
&まC=1〜4である)、2.5−ジアルコキシ−ジフ
ェニルスルフィド4−ジアゾニウムスルフェート(この
場合、アルコキシ基はC=1〜4である)、2.5−ジ
アルコキシ−4−(1)−)リルメルカブト)−ベンゼ
ンジアゾニウムテトラクロル亜鉛酸塩、2.5−ジアル
コキシ−4−ベンゾイルアミノ−ベンゼンジアゾニウム
テトラクロル亜鉛酸塩又は2〜クロル−5−(4−クロ
ルフェノキシ)−4−ジメチルアミノ−ベンゼンジアゾ
ニウムテトラクロル亜鉛酸塩であることができる。縮合
単量体は、一般式[4−(P−CH2−)フェニル〕2
W(この場合、Wは一〇H2−1−〇−1−s−1−s
−s−1−Nl(、−CO−1−co−co−1CH3
CCH,、基Mに等しいか又は単一結合であり、Pは−
CI ’、 −Br 、 −OH%’−0CH3、−0
CH2CH3、−O(CH2) 2CH,、−0(CH
2) 3CH3又はパラホルムアルデヒドである)で示
される化合物であるのが好ましい。ジアゾ単量体との縮
合に使用される第11?マーは、パラホルムアルデヒド
を除く前記の縮合単量体の全部のホモ縮合物であること
ができるか、又は前記の縮合単量体の全部の共縮合物で
あることができる。ジアゾ化合物とのiRラホルムアル
デヒド縮合反応の場合、好ましい媒体は、硫酸である。
パラホルムアルデヒFを用いるか又はそれを用いない縮
合単量体、すなわちゾレジアゾ化合物、共縮合反応の場
合、この反応は、燐酸中で実施するのが最高である。
合単量体、すなわちゾレジアゾ化合物、共縮合反応の場
合、この反応は、燐酸中で実施するのが最高である。
硫酸なジアゾ反応に使用する場合、非プロトン化の点へ
の稀釈、すなわち非反応性は有用なのだけれでも好まし
い濃度は9.6%である。硫酸による温度は、酸の凍結
点から変動することができるが、好ましい範囲は、約−
6℃〜約15℃であり、最も好ましい範囲は、約り℃〜
約12°Cである。燐酸縮合反応の場合、85%の濃度
は、一般に環状プロトン化に対し℃適当であるが、非反
応性の点への稀釈も有用である。増大した活性が所望の
結果の達成に望まれる一定の場合が存在し、この場合P
、0.は、媒体の活性な畠めるために有利に添加するこ
とができる。燐酸の場ば、約り0℃〜約60℃の温度は
有用であるが、温度20℃〜50℃は好ましく、温度3
5°C〜45℃は最も好ましい。
の稀釈、すなわち非反応性は有用なのだけれでも好まし
い濃度は9.6%である。硫酸による温度は、酸の凍結
点から変動することができるが、好ましい範囲は、約−
6℃〜約15℃であり、最も好ましい範囲は、約り℃〜
約12°Cである。燐酸縮合反応の場合、85%の濃度
は、一般に環状プロトン化に対し℃適当であるが、非反
応性の点への稀釈も有用である。増大した活性が所望の
結果の達成に望まれる一定の場合が存在し、この場合P
、0.は、媒体の活性な畠めるために有利に添加するこ
とができる。燐酸の場ば、約り0℃〜約60℃の温度は
有用であるが、温度20℃〜50℃は好ましく、温度3
5°C〜45℃は最も好ましい。
本発明の範囲内でジアゾ単量体に関する磨製条件は、使
用されるものの少なくとも1個がジアゾ基を結合した環
上に2個のアルコキシ置換分を有利に有する硫化ジアリ
ール型であるのが好ましいことである。
用されるものの少なくとも1個がジアゾ基を結合した環
上に2個のアルコキシ置換分を有利に有する硫化ジアリ
ール型であるのが好ましいことである。
反応させた酸性媒体から単離した場合の最終生成物は、
多段階反応を使用する場合、反応の最終段階で使用され
る酸の水溶性塩とし【単離される。
多段階反応を使用する場合、反応の最終段階で使用され
る酸の水溶性塩とし【単離される。
典屋的な反応は、縮合する酸に添加したジアゾ単量体を
有し、その後に縮合する薬量体は、温度制御の終結を考
慮に入れる程度に徐々に添加される。当業者は、単量体
へのりアゾ化合物又はジアゾ化合物への単量体の迅速な
添加により温度制御の損失から起こる分解の結果として
最終生成物を使用不可能にしうる発熱反応を生じること
を認める。これが最終工程である場合には、生成物は、
公知技術、例えばアルコール沈殿を使用して酸から単離
され、次に活性炭で十分に処理され、その後に純粋な生
成物とし1最終的に単離される。生成物を別のジアゾ化
合物及び重量体と後反応させる場合には、それは、濃厚
物質として単離され、その後にその後の給仕反応に使用
すべき酸の中で溶解され、したがって処理される。反応
時間は、約5〜約300分間の範囲であることができ、
好ましくは、約30〜約250分間の範囲であり、最も
好ましくは、約90〜約180分間の範囲であることが
できる。生成物は、単離され、同様に活性炭で洗浄され
、純粋な生成物として得られる。縮合する重量体又はオ
リゴマーを反応を意図するジアゾ化合物を含有する酸に
添加する場合、等温条件下での老化時間は、反応体の均
質性及び完全な利用を保証するために望まれる。老化時
間の範囲は、約172時間〜48時間の間を変動するこ
とができる。好ましい範囲は、約10〜約30時間であ
り、最も好ましい範囲は、約12〜約20時間である。
有し、その後に縮合する薬量体は、温度制御の終結を考
慮に入れる程度に徐々に添加される。当業者は、単量体
へのりアゾ化合物又はジアゾ化合物への単量体の迅速な
添加により温度制御の損失から起こる分解の結果として
最終生成物を使用不可能にしうる発熱反応を生じること
を認める。これが最終工程である場合には、生成物は、
公知技術、例えばアルコール沈殿を使用して酸から単離
され、次に活性炭で十分に処理され、その後に純粋な生
成物とし1最終的に単離される。生成物を別のジアゾ化
合物及び重量体と後反応させる場合には、それは、濃厚
物質として単離され、その後にその後の給仕反応に使用
すべき酸の中で溶解され、したがって処理される。反応
時間は、約5〜約300分間の範囲であることができ、
好ましくは、約30〜約250分間の範囲であり、最も
好ましくは、約90〜約180分間の範囲であることが
できる。生成物は、単離され、同様に活性炭で洗浄され
、純粋な生成物として得られる。縮合する重量体又はオ
リゴマーを反応を意図するジアゾ化合物を含有する酸に
添加する場合、等温条件下での老化時間は、反応体の均
質性及び完全な利用を保証するために望まれる。老化時
間の範囲は、約172時間〜48時間の間を変動するこ
とができる。好ましい範囲は、約10〜約30時間であ
り、最も好ましい範囲は、約12〜約20時間である。
完成されたジアゾ生成物は、水溶性が望まれる場合、縮
合に使用される酸の塩として、すなわちH8O;、 H
2PO;、 CI−又はBr−として単離することがで
きる。メタンスルホネート、スルホサリチレート及びp
−)ルエンスルホネートのようなアニオンは、水溶性及
び溶剤溶性が望まれる場合に使用することができる。メ
シチレンスルホネートならびに他のアリールスルホネー
ト、Br7及びPFJのようなアニオンは、溶剤溶性が
望まれる場合に使用することができる。
合に使用される酸の塩として、すなわちH8O;、 H
2PO;、 CI−又はBr−として単離することがで
きる。メタンスルホネート、スルホサリチレート及びp
−)ルエンスルホネートのようなアニオンは、水溶性及
び溶剤溶性が望まれる場合に使用することができる。メ
シチレンスルホネートならびに他のアリールスルホネー
ト、Br7及びPFJのようなアニオンは、溶剤溶性が
望まれる場合に使用することができる。
印刷板、フォトレジスト又は校正刷りフィルムのような
感光素子の製造に使用されるリトグラフィーに適当な感
光性組成物は、薬屋的に通常アルミニウムからなる適当
な基板に使用される、芳香族ジアゾニウム塩、バインダ
ー樹脂、染料又は顔料、指示薬及び安定剤よりなる。
感光素子の製造に使用されるリトグラフィーに適当な感
光性組成物は、薬屋的に通常アルミニウムからなる適当
な基板に使用される、芳香族ジアゾニウム塩、バインダ
ー樹脂、染料又は顔料、指示薬及び安定剤よりなる。
本発明によるジアゾ化合物は、全部の公知の化合物を用
いる場合と同様に、沈殿に使用されるアニオンに依存す
る水性系又は溶解系に使用することができる。この量は
、全固体含量に対して約5重量%〜約65重蓋%の範囲
にある。
いる場合と同様に、沈殿に使用されるアニオンに依存す
る水性系又は溶解系に使用することができる。この量は
、全固体含量に対して約5重量%〜約65重蓋%の範囲
にある。
好ましい範囲は、約5重量%〜75重量量%であり、最
も好ましい範囲は、約25重蓋%〜約45重蓋%である
。
も好ましい範囲は、約25重蓋%〜約45重蓋%である
。
・々インダー樹脂は、典型的にコピーの数を拡大するた
めにジアゾ化合物と混合され、板は複写することができ
る。このようなノ々イングー樹脂の例は、刊行物中によ
く知られて〜・るような多種多様の他のものの中でポリ
ウレタン樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリオール
樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリビニルアセテート樹
脂及びフェノール−ホルムアルデヒド樹脂を包含する。
めにジアゾ化合物と混合され、板は複写することができ
る。このようなノ々イングー樹脂の例は、刊行物中によ
く知られて〜・るような多種多様の他のものの中でポリ
ウレタン樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリオール
樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリビニルアセテート樹
脂及びフェノール−ホルムアルデヒド樹脂を包含する。
このような樹脂は、一般に組成物の固体含量に対して約
5重量%〜75重量%の範囲の量で使用される。好まし
い範囲は、約15重景%〜約60重蓋%であり、最も好
ましく・範囲は、約25皇景%〜約55重蓋%である。
5重量%〜75重量%の範囲の量で使用される。好まし
い範囲は、約15重景%〜約60重蓋%であり、最も好
ましく・範囲は、約25皇景%〜約55重蓋%である。
着色剤として、顔料又は染料を共通に使用する場合には
、顔料は、若干良好である。顔料の観は、フタロシアニ
ン及びアントラキノンならびにその置換された姻似物質
を包含する。着色剤の量は、約2重ft%〜約35重量
%の間を変動することができ、好ましい範囲は、約7重
量%〜25重量%であり、最も好ましい範囲は、約10
重量%〜約20重量%である。
、顔料は、若干良好である。顔料の観は、フタロシアニ
ン及びアントラキノンならびにその置換された姻似物質
を包含する。着色剤の量は、約2重ft%〜約35重量
%の間を変動することができ、好ましい範囲は、約7重
量%〜25重量%であり、最も好ましい範囲は、約10
重量%〜約20重量%である。
安定化化合物は、薬屋的に被膜をプレセンシタイズされ
た写真棄子を作るために使用する場合に改善された老化
特性を付与するために装入される。このような化合物の
例は、クエン酸、p−)ルエンスルホン酸、酒石酸及び
燐酸である。要求される結果に応じて、使用した量は、
約0.5重量%〜約15重量%の間を変動することがで
きる。好ましい範囲は、約1.0重量%〜約10重量%
であり、最も好ましい範囲は、約25重量%〜約50重
量%である。
た写真棄子を作るために使用する場合に改善された老化
特性を付与するために装入される。このような化合物の
例は、クエン酸、p−)ルエンスルホン酸、酒石酸及び
燐酸である。要求される結果に応じて、使用した量は、
約0.5重量%〜約15重量%の間を変動することがで
きる。好ましい範囲は、約1.0重量%〜約10重量%
であり、最も好ましい範囲は、約25重量%〜約50重
量%である。
前記の記載は、常用の塗布技術を使用して期待されるこ
とを詳説する。このいずれも陰極電着を使用して作られ
る被膜を塗布する場合には全く適用されない。電気の使
用は、ジアゾ化合物以外の多数の成分の使用を排除する
。このような成分の変動する導電率のために、均一なフ
イルムは簡単には得られない。この場合、本発明による
ジアゾ化合物は、この化合物が好ましい水溶液中での唯
1つの添加剤である場合に使用される。ジメチルホルム
アミド及びホルムアミドのような一定の溶剤は、単独で
使用することができるか又は好ましくは、脱イオン化水
と混合することができる。IMFを塗布の手段として使
用する場合には、ジアゾ化合物は、典型的に約0.1重
蓋%からほぼ前記化合物の飽和点にまで変動する量で使
用される。好ましい範囲は、約0.5重量%〜約5重量
%であり、最も好ましい範囲は、約1重量%〜約3重量
%である。
とを詳説する。このいずれも陰極電着を使用して作られ
る被膜を塗布する場合には全く適用されない。電気の使
用は、ジアゾ化合物以外の多数の成分の使用を排除する
。このような成分の変動する導電率のために、均一なフ
イルムは簡単には得られない。この場合、本発明による
ジアゾ化合物は、この化合物が好ましい水溶液中での唯
1つの添加剤である場合に使用される。ジメチルホルム
アミド及びホルムアミドのような一定の溶剤は、単独で
使用することができるか又は好ましくは、脱イオン化水
と混合することができる。IMFを塗布の手段として使
用する場合には、ジアゾ化合物は、典型的に約0.1重
蓋%からほぼ前記化合物の飽和点にまで変動する量で使
用される。好ましい範囲は、約0.5重量%〜約5重量
%であり、最も好ましい範囲は、約1重量%〜約3重量
%である。
次に、本発明を実施例によって詳説するが、本発明はこ
れによって限定されるものではない:例 1 ジフェニルアミン4−ジアゾニウムスルフェート111
LOgを濃硫酸80Iiに溶解し、この溶液を6℃の温
度KWA節する。この溶液に等温条件を維持しながら2
時−にわたってノぞラホル゛ムアルデヒド1.9gを徐
々に添加する。ノぐラホルムアルデヒドの添加が完結し
た後、この反応混合物を16時間老化し、その後に反応
生成物を硫酸塩として18.79の収量で単離する。
れによって限定されるものではない:例 1 ジフェニルアミン4−ジアゾニウムスルフェート111
LOgを濃硫酸80Iiに溶解し、この溶液を6℃の温
度KWA節する。この溶液に等温条件を維持しながら2
時−にわたってノぞラホル゛ムアルデヒド1.9gを徐
々に添加する。ノぐラホルムアルデヒドの添加が完結し
た後、この反応混合物を16時間老化し、その後に反応
生成物を硫酸塩として18.79の収量で単離する。
例 2
例1を繰り返すが、燐酸を硫酸あ代りに使用し、42℃
の温度を6℃の代りに使用する。全ての時間及び重量は
不変である。反応生成物を燐酸塩として18.9 、p
の収量で単離する。それぞれの場合には、温度を厳密に
制御するために注意深く行なわれる。
の温度を6℃の代りに使用する。全ての時間及び重量は
不変である。反応生成物を燐酸塩として18.9 、p
の収量で単離する。それぞれの場合には、温度を厳密に
制御するために注意深く行なわれる。
例 3
3−メトキシジフェニルアミン4−ジアゾニウムスルフ
ニー) 20. OIlを燐酸9.0.0 gに溶解し
、その後に温度を40 ”Cに調節し、40’Cで維持
スる。4.4−ビス−メトキシメチルジフェニルエーテ
ルxt7gを2〜1/2時間にわたって滴下法で徐々に
添加する。次に、この反応混合物を17時間老化する。
ニー) 20. OIlを燐酸9.0.0 gに溶解し
、その後に温度を40 ”Cに調節し、40’Cで維持
スる。4.4−ビス−メトキシメチルジフェニルエーテ
ルxt7gを2〜1/2時間にわたって滴下法で徐々に
添加する。次に、この反応混合物を17時間老化する。
前記の老化時間の完竺後、゛この生成物を燐酸塩として
よく知られた技術を使用して単離する。32.99の収
量が得られる。
よく知られた技術を使用して単離する。32.99の収
量が得られる。
例 4
4.4−ビス−メトキシメチルジフェニルエーテル25
. I Iiを等量の燐酸中でホモ縮合させる。この縮
合反応を30分間進行させ、その時間の間に温度を2重
℃で一定に維持する。このホモ縮合混合物を、既に3−
メトキシジフェニルアミン4−ジアゾニウムスルフェー
ト20.0gを燐#、90.0 gに溶解するこεによ
って得られた溶液に1〜1/2時間にわたって徐々に添
加する。この溶液は、最初に40℃であり、その後に同
じ温度で維持される。この反応生成物を燐酸塩として老
化の17時間後に単離する。
. I Iiを等量の燐酸中でホモ縮合させる。この縮
合反応を30分間進行させ、その時間の間に温度を2重
℃で一定に維持する。このホモ縮合混合物を、既に3−
メトキシジフェニルアミン4−ジアゾニウムスルフェー
ト20.0gを燐#、90.0 gに溶解するこεによ
って得られた溶液に1〜1/2時間にわたって徐々に添
加する。この溶液は、最初に40℃であり、その後に同
じ温度で維持される。この反応生成物を燐酸塩として老
化の17時間後に単離する。
43、49の収量が得られる。
例 5
ジフェニルアミン4−ジアゾニウムスルフニー)12N
及び2.5−ジメトキシ−4−トリルメルカプトベンゼ
ンジアゾニクムテトラクロル亜鉛酸塩68.5 、?を
濃硫酸aoo、pに添加する。一定の攪拌下で6℃に維
持しながら完全に溶解する場合には、ノ々ラホルムアル
デヒド3.7Iを2時間にわたって徐々に添加する。こ
の添加時間の間には、等温状態を保証するために注意を
払5べきである。酸の添加後、この反応スラリーを16
時間老化させる。老化時間の完結後、この生成物を酸か
ら硫酸塩として公知の分離技術を使用して単離する。7
8.6.9の収量が得られる。
及び2.5−ジメトキシ−4−トリルメルカプトベンゼ
ンジアゾニクムテトラクロル亜鉛酸塩68.5 、?を
濃硫酸aoo、pに添加する。一定の攪拌下で6℃に維
持しながら完全に溶解する場合には、ノ々ラホルムアル
デヒド3.7Iを2時間にわたって徐々に添加する。こ
の添加時間の間には、等温状態を保証するために注意を
払5べきである。酸の添加後、この反応スラリーを16
時間老化させる。老化時間の完結後、この生成物を酸か
ら硫酸塩として公知の分離技術を使用して単離する。7
8.6.9の収量が得られる。
例 6
ジフエニルアミン4−ジアゾニウムスルフニー) 15
.09を濃燐酸60.0 pに溶解する。次に、この温
度を42℃に調節する。この混合物に4,4’−ビス−
メトキシメチルジフェニルエーテル13.377を3時
間にわたって徐々に添加する。これは、尋温状態を維持
する程度に注意深ぐ行なうべきである。この添加が完結
した場合、この反応スラリーを17時間老化し、その後
にこの生成物を燐酸塩として単離する。得られる化合物
は、26.3 IIの収量を有し、その稜に濃硫111
10.0jlic溶解される。完全に′m解されかつ温
度が10℃に調節された後、2.5−ジブトキシ−4−
トリルメルカゾトベンゼンジアゾニウムテトラクロル亜
鉛酸塩2 B、 5 Iiを添加し、同様に溶解する。
.09を濃燐酸60.0 pに溶解する。次に、この温
度を42℃に調節する。この混合物に4,4’−ビス−
メトキシメチルジフェニルエーテル13.377を3時
間にわたって徐々に添加する。これは、尋温状態を維持
する程度に注意深ぐ行なうべきである。この添加が完結
した場合、この反応スラリーを17時間老化し、その後
にこの生成物を燐酸塩として単離する。得られる化合物
は、26.3 IIの収量を有し、その稜に濃硫111
10.0jlic溶解される。完全に′m解されかつ温
度が10℃に調節された後、2.5−ジブトキシ−4−
トリルメルカゾトベンゼンジアゾニウムテトラクロル亜
鉛酸塩2 B、 5 Iiを添加し、同様に溶解する。
パラホルムアルデヒド1.59を10℃の温度の維持に
十分に注意を払いながら2時間にわたって徐々に添加す
る。
十分に注意を払いながら2時間にわたって徐々に添加す
る。
パラホルムアルデヒドの全部を添加した後、このスラリ
ーを16時間老化させる。次に、この生成物を硫酸塩と
して54.7 Iiの収量で単離する。
ーを16時間老化させる。次に、この生成物を硫酸塩と
して54.7 Iiの収量で単離する。
例 7
2−クロル−5−(p−クロルフェノキシ)−4−ジメ
チルアミノベンゼンジアゾニウムテトラクロル亜鉛酸塩
16IIを濃硫酸に添加する。
チルアミノベンゼンジアゾニウムテトラクロル亜鉛酸塩
16IIを濃硫酸に添加する。
この溶液を10℃に調節し、その後に4−ジアゾジフェ
ニルアミン9.99を添加する。完全に溶解した後、ノ
ぞラホルムアルデヒド1.0 gを一定の温度を維持し
ながら2時間にわたって徐々K 添7111 jる。次
に、このスラリーを18時間にわたって老化し、その後
にこの生成物を25.59の収量を有する硫酸塩として
単離する。
ニルアミン9.99を添加する。完全に溶解した後、ノ
ぞラホルムアルデヒド1.0 gを一定の温度を維持し
ながら2時間にわたって徐々K 添7111 jる。次
に、このスラリーを18時間にわたって老化し、その後
にこの生成物を25.59の収量を有する硫酸塩として
単離する。
例 8
例3に記載の生成物15gを濃硫酸60gに溶解する。
この混合物に2.5−ジブトキシ−4−トリルメルカゾ
トベンゼンジアゾニウムテトラクロル亜鉛酸塩7.5&
を添加する。このスラリーを10℃に調節し、その後に
バラホルムアルデヒF O,5gを2時間にわたって徐
々に添加する。次に、このスラリーな17時間老化させ
る。この生成物は、硫酸塩として単離され、21、71
!の収量を有する。
トベンゼンジアゾニウムテトラクロル亜鉛酸塩7.5&
を添加する。このスラリーを10℃に調節し、その後に
バラホルムアルデヒF O,5gを2時間にわたって徐
々に添加する。次に、このスラリーな17時間老化させ
る。この生成物は、硫酸塩として単離され、21、71
!の収量を有する。
例9〜例24
次の実施例は、例1〜例8の生成物を使用した場合に得
られる結果を表に纒めている。浸漬法で試験する場合に
は、1.0 (W/W )%の溶液を室温で使用する。
られる結果を表に纒めている。浸漬法で試験する場合に
は、1.0 (W/W )%の溶液を室温で使用する。
処理時間は60秒間である。
陰極1!着法を使用して試験するためKは、試験すべき
ジアゾニウム化合物の1.0 (W/W )%の溶液を
ビーカー中で両側からs、ocrrLの距離をもって2
つの鉛電極間に装入する。DC回路の陰極は、アルミニ
ウムから作られている。陽極は、2つの鉛電極から作ら
れている。30、vのDC電圧を使用する。
ジアゾニウム化合物の1.0 (W/W )%の溶液を
ビーカー中で両側からs、ocrrLの距離をもって2
つの鉛電極間に装入する。DC回路の陰極は、アルミニ
ウムから作られている。陽極は、2つの鉛電極から作ら
れている。30、vのDC電圧を使用する。
使用されるアルミニウム表面を、3003合金アルミニ
ウムの腐蝕しかつ掃除した表面をポリビニルホスホン酸
101 / lで電解処理することKよって得る。陽極
は、アルミニウムからなり、aOVのDCの起電力(E
MF)は、約a s o q 、A”の重量を有するフ
ィルムを得るために使用される。
ウムの腐蝕しかつ掃除した表面をポリビニルホスホン酸
101 / lで電解処理することKよって得る。陽極
は、アルミニウムからなり、aOVのDCの起電力(E
MF)は、約a s o q 、A”の重量を有するフ
ィルムを得るために使用される。
浸漬法及び陰極電着法の双方の場合、処理後の板は、十
分に洗浄され、吸取って乾燥される。
分に洗浄され、吸取って乾燥される。
例9〜例24
10 1 陰極電着 113 295 − 陽極での沈
澱11 2 浸漬 239 265 6.000 満足
12 2 陰極電着 120 310 70,000
陽極での沈澱13 3 浸漬 102 170 − 満
足15 4 浸漬 145〇 −弱い画像17 5 浸
漬 136 265 15.000満足18 5 陰極
電着 24 305 105,000 満 足19 6
浸漬 51 270 − 満足20 6 陰極電着
10 295 − 満 足21 7 浸漬 154 2
15 − 満足22′7 陰極電着 47 235 −
満 足238 浸漬 46 255 14.000満
足24 8 陰極電着 12 280 115,000
満 足中サブトラクティブ現象及び着肉後に21段の
シュタウファー(5tauffer)階段型光学楔を使
用してペタ6を生じるために露光に使用されるエネルギ
ー。
澱11 2 浸漬 239 265 6.000 満足
12 2 陰極電着 120 310 70,000
陽極での沈澱13 3 浸漬 102 170 − 満
足15 4 浸漬 145〇 −弱い画像17 5 浸
漬 136 265 15.000満足18 5 陰極
電着 24 305 105,000 満 足19 6
浸漬 51 270 − 満足20 6 陰極電着
10 295 − 満 足21 7 浸漬 154 2
15 − 満足22′7 陰極電着 47 235 −
満 足238 浸漬 46 255 14.000満
足24 8 陰極電着 12 280 115,000
満 足中サブトラクティブ現象及び着肉後に21段の
シュタウファー(5tauffer)階段型光学楔を使
用してペタ6を生じるために露光に使用されるエネルギ
ー。
+裏地をスカミングし始める前に許容しうる、ゾレセン
シクイズされた板を100℃で焼付ける時間@)。満足
な実施には、約1年間の保存寿命に変える少なくとも1
20分間が必要とされる。
シクイズされた板を100℃で焼付ける時間@)。満足
な実施には、約1年間の保存寿命に変える少なくとも1
20分間が必要とされる。
例 25
例1を反応混合物の老化までの記載を含めて繰り返す。
次に、この反応混合物を水600 mlに添加し、この
生成物をp−)ルエンスルホン酸の塩として沈殿させる
。この沈殿物を単離し、乾燥する。173gの収量が得
られる。
生成物をp−)ルエンスルホン酸の塩として沈殿させる
。この沈殿物を単離し、乾燥する。173gの収量が得
られる。
ジアゾ化合物の1、o (W/W )%の溶液をエチレ
ングリコールモノメチルエーテルを用いて得ることを試
みることができるが、ジアゾ化合物は適度に不溶性であ
ることが判明する。次に、1、0 (W/W )%の浴
液を脱イオン化水を使用して得、この場合可溶性は、良
好であることが判明する。公知技術を使用して陽極酸化
されかつ親水化された、石英スラリーでしぼ付けされた
アルミニウムシートなジアゾ水溶液で回転塗布する。こ
の乾燥した板をその後に水銀蒸気光源に300ミリジュ
ール/−の積算エネルギーで露光する。この板は、水道
水だけで現像され、枚葉紙オフセット印刷機上で作業す
る。印刷されたコピーは、21段のシュタウファー(S
tauffer)階段型光学楔でペタ5を生じ、この板
は、12000枚の認容し5るコピーな生産する。
ングリコールモノメチルエーテルを用いて得ることを試
みることができるが、ジアゾ化合物は適度に不溶性であ
ることが判明する。次に、1、0 (W/W )%の浴
液を脱イオン化水を使用して得、この場合可溶性は、良
好であることが判明する。公知技術を使用して陽極酸化
されかつ親水化された、石英スラリーでしぼ付けされた
アルミニウムシートなジアゾ水溶液で回転塗布する。こ
の乾燥した板をその後に水銀蒸気光源に300ミリジュ
ール/−の積算エネルギーで露光する。この板は、水道
水だけで現像され、枚葉紙オフセット印刷機上で作業す
る。印刷されたコピーは、21段のシュタウファー(S
tauffer)階段型光学楔でペタ5を生じ、この板
は、12000枚の認容し5るコピーな生産する。
例 26
例1を再び繰り返すが、4−ジアゾジフェニルアミンス
ルフェートを2.5−ジェトキシ−4−ジアゾトリルメ
ルカプトベンゼン塩化亜鉛塩に変える。硫酸中の/eラ
ホルムアルデヒドと6℃で結合されかつ16時間老化さ
せた生成物を脱イオン化水aOO*に添加し、I) −
トルエンスルホン酸の塩として沈殿させる。この沈殿物
を単離し、乾燥する。17.69の収量が得られる。
ルフェートを2.5−ジェトキシ−4−ジアゾトリルメ
ルカプトベンゼン塩化亜鉛塩に変える。硫酸中の/eラ
ホルムアルデヒドと6℃で結合されかつ16時間老化さ
せた生成物を脱イオン化水aOO*に添加し、I) −
トルエンスルホン酸の塩として沈殿させる。この沈殿物
を単離し、乾燥する。17.69の収量が得られる。
ジアゾ化合物の1.0 (W/W )%の溶液を脱イオ
ン化水を用いて得ることを試みることができるが、ジア
ゾ化合物は、適度に不溶性であることが判明する。次に
、1.0 (W/W )%の溶液をエチレングリコール
モノメチルエーテルヲ使用して得、この場合溶解性は良
好であることが判明する。公知の技術を使用して陽極酸
化されかつ親水化された、石英スラリーを用いてしぼ付
けされたアルミニウムシートを溶剤のジアゾ溶液で回転
塗布する。乾燥した、板をその後に水銀蒸気光源に30
0ミリジユール/dの積算エネルギーで露光する。この
板は、水道水だけで現像され、枚葉紙オフセット印刷機
上で作業する。
ン化水を用いて得ることを試みることができるが、ジア
ゾ化合物は、適度に不溶性であることが判明する。次に
、1.0 (W/W )%の溶液をエチレングリコール
モノメチルエーテルヲ使用して得、この場合溶解性は良
好であることが判明する。公知の技術を使用して陽極酸
化されかつ親水化された、石英スラリーを用いてしぼ付
けされたアルミニウムシートを溶剤のジアゾ溶液で回転
塗布する。乾燥した、板をその後に水銀蒸気光源に30
0ミリジユール/dの積算エネルギーで露光する。この
板は、水道水だけで現像され、枚葉紙オフセット印刷機
上で作業する。
印刷されたコピーは、21段のシュタウファー(,5t
auffer)階段型光学楔上でペタ7を生じるように
思われるが、裏地は苛酷にスヵミングされている。非画
像部のスカミレグのために、印刷能力に関して測定する
ことができない。
auffer)階段型光学楔上でペタ7を生じるように
思われるが、裏地は苛酷にスヵミングされている。非画
像部のスカミレグのために、印刷能力に関して測定する
ことができない。
例 27
例5を反応混合物の老化までの記載を含めて繰り返す。
次に、この反応混合物を脱イオン化水31に溶解し、I
)−)ルエンスルホン酸の塩として沈殿させる。
)−)ルエンスルホン酸の塩として沈殿させる。
1、0 (W/W )%の溶液は1.脱イオン化水及び
エチレングリコールモノメチルエーテルの双方を用いて
得ることができる。公知技術を使用して陽極酸化されか
つ親水化された、石英スラリーを−いてしぼ付けされた
アルミニウムシートを溶剤のジアゾ溶液で回転塗布する
。乾燥した板をその後に水銀蒸気光源に3ooミリジユ
ール/ crlの&算エネルギーを用いて露光する。こ
の板は、水道水だけで現像され、枚葉紙オフセット印刷
機で作業する。印刷されたコピーは、21段のシュタウ
ファー(5tauffer)階段型光学楔でペタ9を生
じ、この板は、50000枚を越える認容12うるコピ
ーを生韮する。
エチレングリコールモノメチルエーテルの双方を用いて
得ることができる。公知技術を使用して陽極酸化されか
つ親水化された、石英スラリーを−いてしぼ付けされた
アルミニウムシートを溶剤のジアゾ溶液で回転塗布する
。乾燥した板をその後に水銀蒸気光源に3ooミリジユ
ール/ crlの&算エネルギーを用いて露光する。こ
の板は、水道水だけで現像され、枚葉紙オフセット印刷
機で作業する。印刷されたコピーは、21段のシュタウ
ファー(5tauffer)階段型光学楔でペタ9を生
じ、この板は、50000枚を越える認容12うるコピ
ーを生韮する。
本発明の有用性及び利点は、前記実施例から判明しうる
。例8〜例24は、刊行物に記載の代表例のジアゾ化合
物を使用する。ジアゾ化合物とは熱間に、次の一般的な
首切を行なうことができる。陰極電着法を使用して得ら
れた板は、長い印刷能力を有し、良好に老化し、浸漬法
を使用して得られたそれぞれの対照を露光するよりも少
ない適当な露光のためのエネルギーを必要とする。
。例8〜例24は、刊行物に記載の代表例のジアゾ化合
物を使用する。ジアゾ化合物とは熱間に、次の一般的な
首切を行なうことができる。陰極電着法を使用して得ら
れた板は、長い印刷能力を有し、良好に老化し、浸漬法
を使用して得られたそれぞれの対照を露光するよりも少
ない適当な露光のためのエネルギーを必要とする。
刊行物に記載の化合物を越えて本発明による共縮合物の
1つの利点は、電位を使用した際の大きい安定性である
。例10.例121例14及び例16は、望ましくない
低下又は沈殿を有したが、これとは異なり例181例2
09例22及び例24は、同様の現像を全(示さない。
1つの利点は、電位を使用した際の大きい安定性である
。例10.例121例14及び例16は、望ましくない
低下又は沈殿を有したが、これとは異なり例181例2
09例22及び例24は、同様の現像を全(示さない。
例24及び例18〜例12、ならびに例23及び例17
〜例11を比較する場合(この場合、2つの新規のジア
ゾ化合物は、それぞれ陰極電着法及び浸漬法を使用して
公知のジアゾ化合物と対比される)VCは、印刷性能の
明確な改善が存在することが判明しうる。
〜例11を比較する場合(この場合、2つの新規のジア
ゾ化合物は、それぞれ陰極電着法及び浸漬法を使用して
公知のジアゾ化合物と対比される)VCは、印刷性能の
明確な改善が存在することが判明しうる。
更に、新規のジアゾ化合物を刊行物に記載のものと対比
させる場合、適当な露光減少を生じるために必要とされ
るエネルギーと同様に老化可能性の相当する減少が存在
することが例9〜例16に明らかである。例17〜例2
4は、老化可能性の比例損失なしに高速の系を証明する
。
させる場合、適当な露光減少を生じるために必要とされ
るエネルギーと同様に老化可能性の相当する減少が存在
することが例9〜例16に明らかである。例17〜例2
4は、老化可能性の比例損失なしに高速の系を証明する
。
例25は、〔A)型ジアゾ単量体だけを使用し、短い印
刷性能を生じる。例26は、(B) fJl ジアゾを
使用し、水現像不可能である。例27は、縮合〔A”l
−[:B]ジアゾ型を使用し、それは、水現像可能性
及び良好な印刷能力の長さを生じる。
刷性能を生じる。例26は、(B) fJl ジアゾを
使用し、水現像不可能である。例27は、縮合〔A”l
−[:B]ジアゾ型を使用し、それは、水現像可能性
及び良好な印刷能力の長さを生じる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式A1及び弐A2: 〔上記式中、町及びR2は、同一か又を↓異なり、C1
〜C2アルキル基、C1〜C4アルコキシ基、ハロゲン
原子又はジメチルアミノ基であり; R3は−H,−CH,、−C11−OCH3、−0CH
2CH,−であり; R4は−1(、−CH,、−ciであり;であり、この
場合 Rは、CH2及びc(cH,)、からなる基から選択さ
れ、 Mは、芳香族炭化水素、ジアリールエーテル、ジアリー
ルスルフィド、ジアリールジスルフィド、ジアリールス
ルホン、ジアリールアミン、ジアリールケトン及びジア
リールジケトンからなる基から選択された芳香族基であ
り、 bは、0であるか又は1〜約9の整数であり、 Dは、−CH2−又は−CH2−0−0H2−からなる
基から選択され、 Tは、Rと同じものであるか又はDが−CH2−である
場合には、H,2−ヒドロキシ−ゾロビー2−イル、ヒ
ドロキシメチル、(c、〜C。 アルコキシ)メチル、アセトキシメチル、クロルメチル
及びブロムメチルから選択すh t、:−末端基であり
、Dが一〇)I、−0−CH2−である場合には、Hで
あり; Xはジアゾニウム塩のアニオンであり;Yは一洲−1o
−4−o 又は−〇−であり;2は−5−1−〇−又は
−NHCO−であり;この場合単位A、十A2の会計は
、平均で2〜160であり、A1:A2の比は、0.1
25 : 1〜8:lである〕で示される、二価の員R
5によって結合した、それぞれの繰り返し単位を有する
感光性重縮合生成物。 λ YがNHである、特許請求の範囲第1項記載の縮合
生成物。 3、ZがSである、特許請求の範囲第1項記載の縮合生
成物。 五 り、かつMがジフェニルエーテル基である、特許請求の
範囲第1項記載の縮合生成物。 5、 支持体及び感光層からなる感光性記録材料におい
て、この層が式A1及び式A2:〔上記式中、R1及び
R2は、同一か又は異なり、01〜C2アルキル基、C
1〜c4アルコキシ基、ハロゲン原子又はジメチルアミ
ノ基であり; R8は−H,−0M3、−CI、−0CR,、−0CH
,CH3−であり; R4は−H,−CH3、−CIであり;R6は−CH,
−1〉CQH3−1−R3−1−R−轟)6−R−であ
り、この場合 Rは、CH,及びC(C)I、)、からなる基から選択
され、 Mは、芳香族炭化水素、ジアリールエーテル、ジアリー
ルスルフィド、ジアリールジスルフィド、ジアリールス
ルホン、ジアリールアミン、ジアリールケトン及びジア
リールジケトンからなる基から選択された芳香族基であ
り、 bは、0であるか又は1〜約9の整数であり、 Dは、−CH2−又は−CH27O−CH2−からなる
基から選択され、 Tは、Rと同じものであるか又はDが−Cn、−である
場合には、Hl 2−ヒドロキシ−プロビー2−イル、
ヒドロキシメチル、(C1〜C4アルコキシ)メチル、
アセトキシメチル、クロルメチル及びブロムメチルから
選択さレタ末端基であり、Dが−CH2−0−CH,−
である場合には、Hであり; Xはジアゾニウム塩のアニオンであり;Yは−NH−1
o−1il−o 又は−〇−であり;2は−5−1−〇
−又は−NHCO−であり;コノ場合単位A1+A2の
会計は、平均で2〜160であり、A、 :A2の比は
、0.125 : 1〜8:1である〕で示される、二
価の員R8によって結合した、それぞれは繰り返し単位
を有する感光性重縮合生成物を感光性化合物として含有
することを特徴とする、感光性記録材料。 6、 感光層がさらに高分子結合剤を含有する、特IF
’F請求の範囲第5項記載の記録制別。 7、 支持体がアルミニウム板である、特許請求の範囲
第5項記載の記録材料。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/519,443 US4533620A (en) | 1982-03-18 | 1983-08-02 | Light sensitive co-condensates |
US519443 | 1983-08-02 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6043650A true JPS6043650A (ja) | 1985-03-08 |
Family
ID=24068330
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59000357A Pending JPS6043650A (ja) | 1983-08-02 | 1984-01-06 | 感光性重縮合生成物及び該縮合生成物を含有する感光性記録材料 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4533620A (ja) |
EP (1) | EP0135616B1 (ja) |
JP (1) | JPS6043650A (ja) |
BR (1) | BR8400577A (ja) |
CA (1) | CA1212667A (ja) |
DE (1) | DE3381382D1 (ja) |
FI (1) | FI834770A (ja) |
ZA (1) | ZA84152B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0194587A2 (de) * | 1985-03-15 | 1986-09-17 | Hoechst Aktiengesellschaft | Lichtempfindliches Diazoniumsalz-Polykondensationsprodukt und damit hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4771005A (en) * | 1983-06-27 | 1988-09-13 | Erez Forensic Technology Ltd. | Reagents, test kits and methods for the detection of cannabinoids |
IT1264010B (it) * | 1993-04-06 | 1996-09-06 | Policondensato fotosensibile per lastre litografiche negative | |
DE69608734T2 (de) * | 1995-02-15 | 2000-11-23 | Agfa-Gevaert N.V., Mortsel | Diazo-Aufzeichnungselement mit verbesserter Lagerstabilität |
GB9700882D0 (en) | 1997-01-17 | 1997-03-05 | Horsell Graphic Ind Ltd | Lithographic plate precursor |
US6638679B2 (en) | 2001-07-12 | 2003-10-28 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Photosensitive compositions having mixtures of alkoxy and non-alkoxy diazonium salt containing compounds |
US8343707B2 (en) | 2005-07-29 | 2013-01-01 | Anocoil Corporation | Lithographic printing plate for in-solidus development on press |
US8377630B2 (en) * | 2005-07-29 | 2013-02-19 | Anocoil Corporation | On-press plate development without contamination of fountain fluid |
EP1910897A4 (en) * | 2005-07-29 | 2010-12-22 | Anocoil Corp | PRINTING PLATE THAT CAN BE IMAGED FOR PRESS DEVELOPMENT |
US8137897B2 (en) * | 2005-07-29 | 2012-03-20 | Anocoil Corporation | Processless development of printing plate |
US8133658B2 (en) * | 2005-07-29 | 2012-03-13 | Anocoil Corporation | Non-chemical development of printing plates |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL273556A (ja) * | 1961-01-25 | |||
NL168631C (nl) * | 1969-05-20 | 1982-04-16 | Hoechst Ag | Registreermateriaal bestaande uit een drager waarop een laag is aangebracht die een lichtgevoelig condensatieprodukt van een diazoniumverbinding bevat. |
US3867147A (en) * | 1969-05-20 | 1975-02-18 | Hoechst Co American | Light-sensitive diazo compounds and reproduction material employing the same |
US3849392A (en) * | 1969-05-20 | 1974-11-19 | Kalle Ag | Process for the production of polycondensation products of aromatic diazonium compounds |
US4132553A (en) * | 1977-03-24 | 1979-01-02 | Polychrome Corporation | Color proofing guide |
DE2834059A1 (de) * | 1978-08-03 | 1980-02-14 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zu seiner herstellung |
JPS5525093A (en) * | 1978-08-10 | 1980-02-22 | Polychrome Corp | Storageestable lithography print plate |
US4299907A (en) * | 1978-08-10 | 1981-11-10 | Polychrome Corporation | Storage stable photosensitive diazo lithographic printing plates |
FR2493547A1 (fr) * | 1980-11-06 | 1982-05-07 | Schaeffer Andre | Films polyesters heliographiques ou a dessin, realises a partir de dispersions aqueuses |
US4343884A (en) * | 1980-12-29 | 1982-08-10 | Andrews Paper & Chemical Co., Inc. | Diazotype developing process and acidic developer with amine base salt |
US4414311A (en) * | 1982-03-18 | 1983-11-08 | American Hoechst Corporation | Cathodic deposition of light sensitive components |
BE894612A (de) * | 1982-10-06 | 1983-01-31 | Horst H Kosche | Wasserquellbare schichten auf unterlagen oder im schichtenverbund |
-
1983
- 1983-08-02 US US06/519,443 patent/US4533620A/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-12-07 EP EP83112298A patent/EP0135616B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1983-12-07 DE DE8383112298T patent/DE3381382D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1983-12-23 FI FI834770A patent/FI834770A/fi not_active Application Discontinuation
-
1984
- 1984-01-06 CA CA000444814A patent/CA1212667A/en not_active Expired
- 1984-01-06 JP JP59000357A patent/JPS6043650A/ja active Pending
- 1984-01-09 ZA ZA84152A patent/ZA84152B/xx unknown
- 1984-02-10 BR BR8400577A patent/BR8400577A/pt unknown
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0194587A2 (de) * | 1985-03-15 | 1986-09-17 | Hoechst Aktiengesellschaft | Lichtempfindliches Diazoniumsalz-Polykondensationsprodukt und damit hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
EP0194587A3 (de) * | 1985-03-15 | 1988-01-13 | Hoechst Aktiengesellschaft | Lichtempfindliches Diazoniumsalz-Polykondensationsprodukt und damit hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BR8400577A (pt) | 1985-06-11 |
DE3381382D1 (de) | 1990-05-03 |
EP0135616A3 (en) | 1987-01-28 |
EP0135616B1 (de) | 1990-03-28 |
FI834770A (fi) | 1985-02-03 |
ZA84152B (en) | 1985-09-25 |
FI834770A0 (fi) | 1983-12-23 |
EP0135616A2 (de) | 1985-04-03 |
US4533620A (en) | 1985-08-06 |
CA1212667A (en) | 1986-10-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3849392A (en) | Process for the production of polycondensation products of aromatic diazonium compounds | |
JPS59101651A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
JPS60182437A (ja) | 感光性組成物 | |
JPS6043650A (ja) | 感光性重縮合生成物及び該縮合生成物を含有する感光性記録材料 | |
DE2024243B2 (de) | Verfahren zur Herstellung Diazoniumgruppen enthaltender, lichtempfindlicher Kondensationsprodukte und diese Kondensationsprodukte enthaltendes lichtempfindliches Kopiermaterial | |
US4337307A (en) | Light-sensitive diazo composition and material with branched polyurethane resin | |
JPH0784444B2 (ja) | 光開始強酸源としての熱安定性カルバゾールジアゾニウム塩 | |
US4661432A (en) | Light-sensitive, diazonium group-containing polycondensation product, process for its production, and light-sensitive recording material containing this polycondensation product | |
US4614701A (en) | Photocurable diazo or azide composition with acrylic copolymer having hydroxy and amino groups on separate acrylic monomer units | |
US3595656A (en) | Reprographic materials containing a water-insoluble azidochalcone | |
CA1281581C (en) | Process for producing an aqueous developable photographic element | |
PL97540B1 (pl) | Swiatloczuly material kopiowy | |
EP0419095A2 (en) | Radiation sensitive compositions | |
US4758497A (en) | Photosensitive naphthoquinone diazide sulfonyl ester compounds for the fabrication of lithographic plates and photosensitive sheet construction with the compounds | |
US4618562A (en) | Aqueous developable lithographic printing plates containing an admixture of diazonium salts and polymers and composition therefor | |
US3230087A (en) | Light-sensitive polymeric diazonium and azidoacrylamido reproduction materials and process for making plates therefrom | |
US4595648A (en) | Radiation-sensitive plates formed using diazonium salts | |
US4299907A (en) | Storage stable photosensitive diazo lithographic printing plates | |
EP0318820B1 (de) | Verfahren zur anodischen Oxidation der Oberfläche von Aluminium oder Aluminiumlegierungen | |
FI87609C (fi) | Foerbaettringar vid eller haenfoerande sig till foer straolning kaensligt material | |
GB2029592A (en) | Storage stable lithographic printing plates | |
WO1989001871A1 (en) | Pre-sensitized lithographic printing plate production | |
US5206349A (en) | Aromatic diazo compounds and photosensitive compositions using the same | |
US4812384A (en) | Light-sensitive polycondensation product containing diazonium groups, process for the preparation thereof, and light-sensitive recording material containing this polycondensation product | |
JP3393919B2 (ja) | カラーフィルター形成用ポジ型レジスト組成物 |