JPS5812699B2 - 高温金属イオン源装置 - Google Patents
高温金属イオン源装置Info
- Publication number
- JPS5812699B2 JPS5812699B2 JP14468377A JP14468377A JPS5812699B2 JP S5812699 B2 JPS5812699 B2 JP S5812699B2 JP 14468377 A JP14468377 A JP 14468377A JP 14468377 A JP14468377 A JP 14468377A JP S5812699 B2 JPS5812699 B2 JP S5812699B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion source
- melting point
- graphite
- cylindrical graphite
- generation chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は材料合成、加工を目的とする高融点金属の大量
イオンを得るための工業用の高温金属イオン源装置に関
するものである。
イオンを得るための工業用の高温金属イオン源装置に関
するものである。
従来イオン源を工業における生産手段として使用するに
は、基本的に各種各様の利用に応え得る濃富な機能を備
えることが必要である。
は、基本的に各種各様の利用に応え得る濃富な機能を備
えることが必要である。
即ち、工業用イオン源としての本質的条件としては、稼
動時間が長いこと、安定性が高いこと、単純・堅牢な構
造であることが要望され、更に性能的には、大量のイオ
ンの発生が可能であること、いかなる元素イオンでも自
由に発生できること、更に金属、特に高融点金属を其の
ままイオン材料として使用できることも望まれている。
動時間が長いこと、安定性が高いこと、単純・堅牢な構
造であることが要望され、更に性能的には、大量のイオ
ンの発生が可能であること、いかなる元素イオンでも自
由に発生できること、更に金属、特に高融点金属を其の
ままイオン材料として使用できることも望まれている。
其の理由としては、イオン源がどのような元素イオンで
も、連続して大量に供給することができれば、最終的に
は、イオン自体で単体或は化合物等任意に物質合成が可
能となるからである。
も、連続して大量に供給することができれば、最終的に
は、イオン自体で単体或は化合物等任意に物質合成が可
能となるからである。
また、その際高融点金属をそのままイオン原料として使
用することができれば、より多くの種類の金属イオンを
大量に得ることができるだけでなく、生産原価を大幅に
引き下げるという大きな利点が生れるからである。
用することができれば、より多くの種類の金属イオンを
大量に得ることができるだけでなく、生産原価を大幅に
引き下げるという大きな利点が生れるからである。
現在までに使用されているイオン源としては、物性解析
用、分析用、イオン注入用等の極めて精密なものから、
原子核・核融合研究用、更に、動力機関用等の強力なも
のまで、各種各様に製作され、利用されているが、未だ
前記した様な工業用イオン源としての条件を一括して満
足するものは見あたらないのが現状である。
用、分析用、イオン注入用等の極めて精密なものから、
原子核・核融合研究用、更に、動力機関用等の強力なも
のまで、各種各様に製作され、利用されているが、未だ
前記した様な工業用イオン源としての条件を一括して満
足するものは見あたらないのが現状である。
その理由としては、高精度のものは得られる電流が本質
的に少く、これに反して、大電流のものは気体イオンに
限られており、継続的に固体の大量イオンを発生するこ
とが困難であるからである。
的に少く、これに反して、大電流のものは気体イオンに
限られており、継続的に固体の大量イオンを発生するこ
とが困難であるからである。
結局、物質合成・加工を行うことを目的とする工業用イ
オン源の場合には、固体イオン原料を気化−イオン化さ
せる段階において、特別な工夫が必要となる。
オン源の場合には、固体イオン原料を気化−イオン化さ
せる段階において、特別な工夫が必要となる。
例えば、物質の合成には今一歩能力的に劣るが、同位体
分離とか、イオン注入等の用に供されているものに、フ
リーマン型イオン源がある。
分離とか、イオン注入等の用に供されているものに、フ
リーマン型イオン源がある。
此のイオン源の心臓部は、円筒型イオン生成室の側壁に
耐熱性の低い筒型坩堝を横倒しT字型に接触させたもの
である。
耐熱性の低い筒型坩堝を横倒しT字型に接触させたもの
である。
普通イオン生成室からのイオンの引出しは、約1mm直
径の小円孔を通して行なうのであるが、此のイオン源で
はイオン生成室のイオン引出口を長矩形のスリットに形
成して、実質開口面積を増加することにより、1乃至3
mA程度のイオン電流を得ることに成功したもので、通
常大電流型と称せられている。
径の小円孔を通して行なうのであるが、此のイオン源で
はイオン生成室のイオン引出口を長矩形のスリットに形
成して、実質開口面積を増加することにより、1乃至3
mA程度のイオン電流を得ることに成功したもので、通
常大電流型と称せられている。
しかしながら、物質を実用速度、例えば10〜30分程
度の速度で合成するには、少くとも10mAは必要であ
るので、此の程度のイオン電流では、未だ十分とは云え
ない。
度の速度で合成するには、少くとも10mAは必要であ
るので、此の程度のイオン電流では、未だ十分とは云え
ない。
また、此のイオン源を使って金属材料、とりわけ高融点
金属を気化−イオン化することは、本質的に不可能であ
る。
金属を気化−イオン化することは、本質的に不可能であ
る。
即ち、此のイオン源は最初から何等かの手段を講ずるこ
とにより、目的イオンが得られれば良いとの考え方に立
って、イオン源の構造、材質、耐熱、電気絶縁上問題の
ある高融点金属を、イオン原料として使用することを避
け、イオン源は飽くまで低温で動作させることを前提に
設計、製作されているからである。
とにより、目的イオンが得られれば良いとの考え方に立
って、イオン源の構造、材質、耐熱、電気絶縁上問題の
ある高融点金属を、イオン原料として使用することを避
け、イオン源は飽くまで低温で動作させることを前提に
設計、製作されているからである。
実際に、此の種の在来型イオン源の動作温度は、およそ
1000℃以下であり、通常その上限は摂氏数百度であ
る。
1000℃以下であり、通常その上限は摂氏数百度であ
る。
此のため、使用される金属材料は、此の動作温度に見合
った低融点金属、例えばIn(融点156℃)、Se(
融点217℃)、Sn(融点231℃)、Bi(融点2
70℃)、Cd(融点321℃)、Pb(融点327℃
)、Zn(融点419℃)、Te(融点452℃)、S
b(融点630℃)、Mg(融点651℃)、Al(融
点658℃)、等に限られている。
った低融点金属、例えばIn(融点156℃)、Se(
融点217℃)、Sn(融点231℃)、Bi(融点2
70℃)、Cd(融点321℃)、Pb(融点327℃
)、Zn(融点419℃)、Te(融点452℃)、S
b(融点630℃)、Mg(融点651℃)、Al(融
点658℃)、等に限られている。
従って、此の型のイオン源で高融点金属のイオンを得よ
うとすれば、他に特別の工夫を凝らすことになる。
うとすれば、他に特別の工夫を凝らすことになる。
即ち、熱分解性の化合物を利用して、高融点金属原子の
気化−イオン化を容易にすることである。
気化−イオン化を容易にすることである。
これは確かに効果的な方法であり、非常に多種類の元素
イオンも得られ、工業上利用性が高いと考えられるが、
一方、化合物を用いることによる弊害が発生するという
欠点がある。
イオンも得られ、工業上利用性が高いと考えられるが、
一方、化合物を用いることによる弊害が発生するという
欠点がある。
一般に、熱分解性金属化合物においては、金属とこれと
結合する化合物成分(一般に気体が多い)との比率は、
金属が少い。
結合する化合物成分(一般に気体が多い)との比率は、
金属が少い。
気化−イオン化の過程を経て得られるイオン量は、不必
要な化合物成分イオンの方が圧倒的に多く目的とする金
属イオンの生成能率は悪い。
要な化合物成分イオンの方が圧倒的に多く目的とする金
属イオンの生成能率は悪い。
其の結果として、生成イオンの純度を著しく損うことに
なる。
なる。
加えて、此れ等の不要化合物イオン、或は其の中性原子
は化学的に極めて活発であり、装置構造、真空系統、電
気系統に対する障害や化学的反応損傷を起すという欠点
がある。
は化学的に極めて活発であり、装置構造、真空系統、電
気系統に対する障害や化学的反応損傷を起すという欠点
がある。
また、此の横倒しT型構造のものでは、原料金属の充填
量も少く、融液流出のおそれもあるので、連続に大量の
イオンを必要とする工業用イオン源としての適格性に欠
ける。
量も少く、融液流出のおそれもあるので、連続に大量の
イオンを必要とする工業用イオン源としての適格性に欠
ける。
ここに於て、本発明は、此の様な従来のイオン源に附随
する欠陥を、直接的な方法で解決し、物質合成・加工を
行なう本格的工業用イオン源の実現に成功したものであ
る。
する欠陥を、直接的な方法で解決し、物質合成・加工を
行なう本格的工業用イオン源の実現に成功したものであ
る。
即ち、イオン源に独特の構造と方式を採用して、徹底し
た高温化を図り、その強烈な気化力によって、高融点金
属を自由に蒸発・気化させ、高圧蒸気となし、これを高
温で能率よくイオン化して、高融点金属の大量イオンを
発生することを可能にした。
た高温化を図り、その強烈な気化力によって、高融点金
属を自由に蒸発・気化させ、高圧蒸気となし、これを高
温で能率よくイオン化して、高融点金属の大量イオンを
発生することを可能にした。
その際必要としたイオン源高温化の手段は、その発想を
タンマン炉における黒鉛発熱体の高温安定性と、高温発
生能力に求めた。
タンマン炉における黒鉛発熱体の高温安定性と、高温発
生能力に求めた。
タンマン炉は高温技術の分野では、地位の確立した高温
炉であり、高温耐熱材料、高融点結晶等の合成、溶融、
処理に化学的戚力を発揮しており、3000℃の高温の
発生も極めて容易である。
炉であり、高温耐熱材料、高融点結晶等の合成、溶融、
処理に化学的戚力を発揮しており、3000℃の高温の
発生も極めて容易である。
従って、此の卓越した機能を積極的にイオン源に導入し
、それ自体でイオン源を製作すれば、徹底した高温化を
実現することができる。
、それ自体でイオン源を製作すれば、徹底した高温化を
実現することができる。
この発想から、2本の黒鉛タンマン管をそれぞれ蒸発坩
堝及びイオン生成室とに使い分けて組合せ、高温型イオ
ン源基体を形成することにより、1000℃乃至250
0℃の高温での連続運転と10mA以上の金属イオン電
流の発生を可能とする本発明に到達したものである。
堝及びイオン生成室とに使い分けて組合せ、高温型イオ
ン源基体を形成することにより、1000℃乃至250
0℃の高温での連続運転と10mA以上の金属イオン電
流の発生を可能とする本発明に到達したものである。
即ち、本発明は、筒型黒鉛坩堝及び筒型黒鉛イオン生成
室を黒鉛管により橋絡してH型構造のイオン源基体とな
し、前記筒型黒鉛イオン生成室に熱電子放出用フィラメ
ントを内蔵せしめ、前記筒型黒鉛坩堝及び筒型黒鉛イオ
ン生成室にそれぞれ独立した電源を設けて個別に加熱お
よび制御を行なうようにしたことにより、1000℃以
上2500℃以下の範囲の高温度で連続して高融点金属
を自由に蒸発、イオン化させ、10mA以上の大量の金
属イオン電流を発生する黒鉛製H型イオン源基体を有す
る高温金属イオン源装置により構成される。
室を黒鉛管により橋絡してH型構造のイオン源基体とな
し、前記筒型黒鉛イオン生成室に熱電子放出用フィラメ
ントを内蔵せしめ、前記筒型黒鉛坩堝及び筒型黒鉛イオ
ン生成室にそれぞれ独立した電源を設けて個別に加熱お
よび制御を行なうようにしたことにより、1000℃以
上2500℃以下の範囲の高温度で連続して高融点金属
を自由に蒸発、イオン化させ、10mA以上の大量の金
属イオン電流を発生する黒鉛製H型イオン源基体を有す
る高温金属イオン源装置により構成される。
更に本発明は上記高温金属イオン源基体の筒型黒鉛イオ
ン生成室に於て、大イオン電流の発生とフィラメント着
脱交換を容易にするため、長U字型の熱電子放出用フィ
ラメントを内蔵することにより構成される。
ン生成室に於て、大イオン電流の発生とフィラメント着
脱交換を容易にするため、長U字型の熱電子放出用フィ
ラメントを内蔵することにより構成される。
又本発明は運転中フィラメント短絡の原因となる金属蒸
気の碍子面凝縮を避け、且つフィラメントの脱着及び筒
型黒鉛イオン生成室の管理を容易にするため、脱着自在
の横窩型フィラメント保持室を筒型黒鉛イオン生成室の
上端に設けることによっても構成される。
気の碍子面凝縮を避け、且つフィラメントの脱着及び筒
型黒鉛イオン生成室の管理を容易にするため、脱着自在
の横窩型フィラメント保持室を筒型黒鉛イオン生成室の
上端に設けることによっても構成される。
尚筒型黒鉛イオン生成室から取出す金属イオン電流量の
増大を目的として必要により2個以上の長矩形開口を筒
型黒鉛イオン生成室前面に併列密集して設けることによ
っても構成可能である。
増大を目的として必要により2個以上の長矩形開口を筒
型黒鉛イオン生成室前面に併列密集して設けることによ
っても構成可能である。
以下図面を参照して本発明を実施例について説明する。
第1図は本発明の実施例における黒鉛製H型イオン源基
体及びその動作を示す概念説明図、第2図は横窩型フィ
ラメント保持室の構造を示す一部破砕の拡大斜視図、第
3図は黒鉛製H型イオン源基体の一部破砕の拡大斜視図
、第4図は黒鉛製H型イオン源基体を実装した高温金属
イオン源装置の側断面図、第5図は第4図の黒鉛製H型
イオン源基体における加熱温度上昇特性を示す線図であ
る。
体及びその動作を示す概念説明図、第2図は横窩型フィ
ラメント保持室の構造を示す一部破砕の拡大斜視図、第
3図は黒鉛製H型イオン源基体の一部破砕の拡大斜視図
、第4図は黒鉛製H型イオン源基体を実装した高温金属
イオン源装置の側断面図、第5図は第4図の黒鉛製H型
イオン源基体における加熱温度上昇特性を示す線図であ
る。
まず第1図は本発明が意図する高温金属イオン源装置の
中核をなす基体構造体、即ち黒鉛製イオン源基体を示し
ており、此の黒鉛製イオン源基体の形状から、これを以
下単にH型イオン源基体31と記す。
中核をなす基体構造体、即ち黒鉛製イオン源基体を示し
ており、此の黒鉛製イオン源基体の形状から、これを以
下単にH型イオン源基体31と記す。
此のH型イオン源基体31は、基本的には2本の黒鉛筒
を用い、一方を筒型黒鉛蒸発坩堝1とし、他方を筒型黒
鉛イオン生成室2として両者を黒鉛製の橋絡管3で直結
、橋絡してH型構造を形成したものである。
を用い、一方を筒型黒鉛蒸発坩堝1とし、他方を筒型黒
鉛イオン生成室2として両者を黒鉛製の橋絡管3で直結
、橋絡してH型構造を形成したものである。
筒型黒鉛蒸発坩堝1は、内部に高融点金属20を収納、
密閉し、電源21によって直接通電加熱して、溶解及び
蒸発させ、高圧蒸気を発生することができる。
密閉し、電源21によって直接通電加熱して、溶解及び
蒸発させ、高圧蒸気を発生することができる。
また、筒型黒鉛イオン生成室2は筒型黒鉛蒸発坩堝1の
電源21とは独立した別個の電源22によって、それ自
体を通電加熱し、黒鉛製の橋絡管3を通して送られてき
た高圧蒸気を高温励起しつつ、同時に内蔵した長U字型
タングステン・フィラメント5から放出される高エネル
ギー電子の衝撃により、効率よく、その高圧蒸気をイオ
ン化して大量の高融点金属20のイオンを生成し、長矩
形開口4から放出する。
電源21とは独立した別個の電源22によって、それ自
体を通電加熱し、黒鉛製の橋絡管3を通して送られてき
た高圧蒸気を高温励起しつつ、同時に内蔵した長U字型
タングステン・フィラメント5から放出される高エネル
ギー電子の衝撃により、効率よく、その高圧蒸気をイオ
ン化して大量の高融点金属20のイオンを生成し、長矩
形開口4から放出する。
なお、ここで長U字型タングステン・フィラメント5に
は、フィラメント電源23及び放電電源24が設げられ
ている。
は、フィラメント電源23及び放電電源24が設げられ
ている。
高融点金属20の蒸気発生に当って、融点が1000℃
以上のものを高融点金属20として分類すれば、大電流
イオンを発生するのに必要な加熱温度と蒸気圧は個々の
金属に固有の値となる。
以上のものを高融点金属20として分類すれば、大電流
イオンを発生するのに必要な加熱温度と蒸気圧は個々の
金属に固有の値となる。
此の直立型の筒型黒鉛蒸発坩堝1の最高耐熱温度は約2
500℃であるので、Au(融点1063℃)、Cu(
融点1083℃)、Mn(融点1247℃)、Be(融
点1278℃)、Si(融点1420℃)、Ni(融点
1450℃)、Co(融点1489℃)、Fe(融点1
535℃)、Pd(融点1555℃)、U(融点168
9℃)、Cr(融点1777℃)、Ti(融点1788
℃)、V(融点1800℃)、Th(融点1842℃)
、Nb(融点1950℃)、Rh(融点1966℃)、
Hf(融点2227℃)、B(融点2300℃)、Ir
(融点2454℃)等の高融点金属20を溶解蒸発させ
ることは容易である。
500℃であるので、Au(融点1063℃)、Cu(
融点1083℃)、Mn(融点1247℃)、Be(融
点1278℃)、Si(融点1420℃)、Ni(融点
1450℃)、Co(融点1489℃)、Fe(融点1
535℃)、Pd(融点1555℃)、U(融点168
9℃)、Cr(融点1777℃)、Ti(融点1788
℃)、V(融点1800℃)、Th(融点1842℃)
、Nb(融点1950℃)、Rh(融点1966℃)、
Hf(融点2227℃)、B(融点2300℃)、Ir
(融点2454℃)等の高融点金属20を溶解蒸発させ
ることは容易である。
通常mA以上の大電流を得るには、イオン化に当って、
イオン化蒸気の圧力を10−3Torr可及的に10−
2Torr以上の圧力に上昇する必要がある。
イオン化蒸気の圧力を10−3Torr可及的に10−
2Torr以上の圧力に上昇する必要がある。
融点が1000℃以上の高融点金属20の場合、融点以
下での蒸気圧は低いので、此の蒸気圧に到達するために
は、金属の融点を越えて、加熱、蒸発を促進しなげれば
ならない。
下での蒸気圧は低いので、此の蒸気圧に到達するために
は、金属の融点を越えて、加熱、蒸発を促進しなげれば
ならない。
そこで本発明による筒型黒鉛蒸発坩堝1の直接通電加熱
方式によれば、全く難な<2500℃以上の高温度を発
生することができ、大イオン電流を発生するために必要
な高圧蒸気を容易に得ることが出来る。
方式によれば、全く難な<2500℃以上の高温度を発
生することができ、大イオン電流を発生するために必要
な高圧蒸気を容易に得ることが出来る。
また本発明では筒型黒鉛蒸発坩堝1を直立型としたので
、大量の金属原料を充填することも可能となり、同時に
融液の流出を防ぎ、長時間の蒸気発生にも耐えることが
出来る。
、大量の金属原料を充填することも可能となり、同時に
融液の流出を防ぎ、長時間の蒸気発生にも耐えることが
出来る。
しかしながら、此の様に優れた加熱能力を持つ筒型黒鉛
蒸発坩堝1であるにも拘らず、これは高密度黒鉛坩堝に
限られることを黒鉛素材の選定の際特に留意している。
蒸発坩堝1であるにも拘らず、これは高密度黒鉛坩堝に
限られることを黒鉛素材の選定の際特に留意している。
即ち、万一筒型黒鉛蒸発坩堝1と高融点金属20の融液
とが相互に反応を起すおそれのある場合、或は高融点金
属20の融解に伴い、これを収容する筒型黒鉛蒸発坩堝
1の通電加熱状態に不均一や異変が現れる場合は筒型黒
鉛蒸発坩堝1に同質の自立型内坩堝を使用して、これを
回避する等の工夫が必要でああ。
とが相互に反応を起すおそれのある場合、或は高融点金
属20の融解に伴い、これを収容する筒型黒鉛蒸発坩堝
1の通電加熱状態に不均一や異変が現れる場合は筒型黒
鉛蒸発坩堝1に同質の自立型内坩堝を使用して、これを
回避する等の工夫が必要でああ。
次に筒型黒鉛イオン生成室2においても、その黒鉛に直
接通電して超高温とし、金属蒸気の電離を促進する方法
をとっており、この方法は圧力の高い蒸気を電離して、
大イオン電流を得ようとする場合極めて有効である。
接通電して超高温とし、金属蒸気の電離を促進する方法
をとっており、この方法は圧力の高い蒸気を電離して、
大イオン電流を得ようとする場合極めて有効である。
これは蒸気の凝縮を防ぎ、且つ、イオン化に必要な励起
エネルギーを供給出来るからである。
エネルギーを供給出来るからである。
従って、筒型黒鉛イオン生成室2の加熱温度は筒型黒鉛
蒸発坩堝1の温度より、可及的に高温にする必要がある
。
蒸発坩堝1の温度より、可及的に高温にする必要がある
。
此の状態で高温濃密金属蒸気を電離するのは、長U字型
タングステン・フィラメント5から放出加速された熱電
子群である。
タングステン・フィラメント5から放出加速された熱電
子群である。
次に第2図において本発明の横窩型フィラメント保持室
7について説明する。
7について説明する。
この横窩型フィラメント保持室7に長U字型タングステ
ン・フィラメント5を取付け、これ等を一体として、筒
型黒鉛イオン生成室2の上端に嵌込み、脱着自在構造に
している。
ン・フィラメント5を取付け、これ等を一体として、筒
型黒鉛イオン生成室2の上端に嵌込み、脱着自在構造に
している。
此の長字型タングステン・フィラメント5の採用により
、熱電子放出量は従来のものに較べて倍増する。
、熱電子放出量は従来のものに較べて倍増する。
又長U字型タングステン・フィラメント5は筒型黒鉛イ
オン生成室2か6遮蔽された横窩型フィラメント保持室
7の横窩部のBN絶縁碍子8を貫通する2本の十分長い
タングステン或はグラファイト製のステム9の先端に嵌
込んで固定されている。
オン生成室2か6遮蔽された横窩型フィラメント保持室
7の横窩部のBN絶縁碍子8を貫通する2本の十分長い
タングステン或はグラファイト製のステム9の先端に嵌
込んで固定されている。
此の構造はBN絶縁碍子8面での金属蒸気による凝縮・
短絡の問題を解消する。
短絡の問題を解消する。
更に、横窩型フィラメント保持室7を脱着自在にしたの
で、長U字型タングステン・フィラメント5の脱着及び
筒型黒鉛イオン生成室2の保守、点検等運転性は向上し
、実際に、これ等の改善はイオン生成能力と稼動時間の
増大に顕著な効果を示し、本発明の高温金属イオン源基
体の重要な特徴の一つとなっている。
で、長U字型タングステン・フィラメント5の脱着及び
筒型黒鉛イオン生成室2の保守、点検等運転性は向上し
、実際に、これ等の改善はイオン生成能力と稼動時間の
増大に顕著な効果を示し、本発明の高温金属イオン源基
体の重要な特徴の一つとなっている。
第3図に示すH型イオン源基体31は超高密度黒鉛を使
って製作されており、筒型黒鉛蒸発坩堝1の寸法は、外
径25mm×内径20mm×長さ130mmで上部に原
料金属素材を充填するための坩堝蓋6を取りつけてある
。
って製作されており、筒型黒鉛蒸発坩堝1の寸法は、外
径25mm×内径20mm×長さ130mmで上部に原
料金属素材を充填するための坩堝蓋6を取りつけてある
。
金属蒸気を筒型黒鉛イオン生成室2へ送る黒鉛製の橋絡
管3は、外径15mm×内径10mm×長さ30mmで
、その両端は筒型黒鉛蒸発坩堝1と筒型黒鉛イオン生成
室2の壁を貫いて嵌込まれ、両空間を短絡している。
管3は、外径15mm×内径10mm×長さ30mmで
、その両端は筒型黒鉛蒸発坩堝1と筒型黒鉛イオン生成
室2の壁を貫いて嵌込まれ、両空間を短絡している。
また筒型黒鉛イオン生成室2の寸法は、外径35mm×
内径30mm×長さ95mmで、その上端には第2図で
示した脱着自在の縦60mmX横40mm×高さ30m
mの横窩型フィラメント保持室7が取付けられている。
内径30mm×長さ95mmで、その上端には第2図で
示した脱着自在の縦60mmX横40mm×高さ30m
mの横窩型フィラメント保持室7が取付けられている。
この横窩型フィラメント保持室7に取付けられた長U字
型タングステン・フィラメント5の概略寸法は、径1.
6mm×延長長さ約160mmで、材質は高純度タング
ステンである。
型タングステン・フィラメント5の概略寸法は、径1.
6mm×延長長さ約160mmで、材質は高純度タング
ステンである。
また、此の筒型黒鉛イオン生成室2の前面には、幅2m
m×長さ5.0mmのイオン引出用の長矩形開口4が設
けてあり、長U字型タングステン・フィラメント5の2
本の長い直線部と長矩形開口4とは、互に平行に、且つ
H型イオン源基体31のイオンビーム発生軸線上に直立
して並んでいる。
m×長さ5.0mmのイオン引出用の長矩形開口4が設
けてあり、長U字型タングステン・フィラメント5の2
本の長い直線部と長矩形開口4とは、互に平行に、且つ
H型イオン源基体31のイオンビーム発生軸線上に直立
して並んでいる。
この長矩形開口4を複数個、併列密集して設け、イオン
引出量の増大を計ることも有効である。
引出量の増大を計ることも有効である。
なお、第3図では、フィラメント保持室上蓋10を上部
に取外した状態で示している。
に取外した状態で示している。
第4図は、上述のH型イオン源基体31を有するイオン
源をイオン源筺体42内に取付けた状態を示しており、
H型イオン源基体31は、イオン源磁極41の極間に自
立姿勢で保持されている。
源をイオン源筺体42内に取付けた状態を示しており、
H型イオン源基体31は、イオン源磁極41の極間に自
立姿勢で保持されている。
此の状態で、加熱電力端子34から油冷給電銅管33、
黒鉛板腕32を経て、必要量の電力を供給すると、H型
イオン源基体31のみが高温に加熱される。
黒鉛板腕32を経て、必要量の電力を供給すると、H型
イオン源基体31のみが高温に加熱される。
更に第5図は第4図に示すH型イオン源基体331が加
熱される際の加熱温度上昇特性を示す線図であり、縦軸
に筒型黒鉛蒸発坩堝1の温度T(℃)を示し、横軸に加
熱電力E(KW)を示しており、夫々の融点に対応して
金属名を化学記号で記載している。
熱される際の加熱温度上昇特性を示す線図であり、縦軸
に筒型黒鉛蒸発坩堝1の温度T(℃)を示し、横軸に加
熱電力E(KW)を示しており、夫々の融点に対応して
金属名を化学記号で記載している。
例えば、約7KWの加熱電力Eを供給して、数分後には
筒型黒鉛蒸発坩堝1の温度Tが約2000℃に到達し、
そのまま20時間の連続運転に耐え、更にそれ以後の運
転にも何等支障がないことが実際に確認された。
筒型黒鉛蒸発坩堝1の温度Tが約2000℃に到達し、
そのまま20時間の連続運転に耐え、更にそれ以後の運
転にも何等支障がないことが実際に確認された。
その際予め、約20PのSi金属粒(融点1420℃)
を筒型黒鉛蒸発坩堝1に充填して置き、高融点金属20
イオンの生成を試みた結果、加熱電力端子34から、1
0V,350A(3.5κW)の電力を投入することに
より、数分間で直立型の筒型黒鉛蒸発坩堝1の中のSi
金属粒20は完全に融解し、液化した。
を筒型黒鉛蒸発坩堝1に充填して置き、高融点金属20
イオンの生成を試みた結果、加熱電力端子34から、1
0V,350A(3.5κW)の電力を投入することに
より、数分間で直立型の筒型黒鉛蒸発坩堝1の中のSi
金属粒20は完全に融解し、液化した。
此の時、光高温計により、確認した温度は1500℃で
あった。
あった。
従って、Siの蒸気圧は2×10−3Torr以上の高
圧に達している筈である。
圧に達している筈である。
更に加熱電力Eを増加して、約2400℃に保持した結
果、Si原料の激して消耗と噴気蒸着が瞬時に起った。
果、Si原料の激して消耗と噴気蒸着が瞬時に起った。
この事はSi蒸気圧特性より推定して、明らかに10T
orr以上の高圧蒸気が発生し、通常の電子衝撃法によ
るイオン化の限界を越えたものと推測することができた
。
orr以上の高圧蒸気が発生し、通常の電子衝撃法によ
るイオン化の限界を越えたものと推測することができた
。
Si蒸気圧を8×10−3Torr近傍、即ち、直立型
の筒型黒鉛蒸発坩堝1の温度を1600℃に保つと同時
に、筒型黒鉛イオン生成室2に対しても、通電加熱を行
ない2000℃とし、内蔵する長U字型タングステン・
フィラメント5にIOOA通電してイオン化衝撃電子を
群発放出すると、100乃至200Vの放電電圧と10
0ガウスの垂直磁場の作用により、筒型黒鉛イオン生成
室2内には、多量のSiイオンが励発され、大量のイオ
ン電流を引出すことが出来た。
の筒型黒鉛蒸発坩堝1の温度を1600℃に保つと同時
に、筒型黒鉛イオン生成室2に対しても、通電加熱を行
ない2000℃とし、内蔵する長U字型タングステン・
フィラメント5にIOOA通電してイオン化衝撃電子を
群発放出すると、100乃至200Vの放電電圧と10
0ガウスの垂直磁場の作用により、筒型黒鉛イオン生成
室2内には、多量のSiイオンが励発され、大量のイオ
ン電流を引出すことが出来た。
此のイオン電流は、20KVという比較的低いイオン引
出電圧でも、優に20mAを超え、さらにイオン引出電
圧を35KVに上昇すると、イオン電流は56mAと著
るしい増大を示した。
出電圧でも、優に20mAを超え、さらにイオン引出電
圧を35KVに上昇すると、イオン電流は56mAと著
るしい増大を示した。
これ等の値はイオン源駆動用高圧電源の容量に制限され
たものであり、従って、電源を改増することにより、更
に100mA程度の大電流が得られることは確実である
。
たものであり、従って、電源を改増することにより、更
に100mA程度の大電流が得られることは確実である
。
以上の事実から本発明の高温金属イオン源基体が物質合
成加工を目的とする工業用イオン源としての適格性を十
分に備えるものであることが理解できる。
成加工を目的とする工業用イオン源としての適格性を十
分に備えるものであることが理解できる。
従って、本発明の特徴はイオン源を工業生産の広範な利
用に供するため、耐熱性導電材料を使用して、直立H型
構造に構成し、更にイオン生成室に長U字型フィラメン
トを採用したことにあり、此の結果従来の技術では為し
得なかった次の効果を発生することができる。
用に供するため、耐熱性導電材料を使用して、直立H型
構造に構成し、更にイオン生成室に長U字型フィラメン
トを採用したことにあり、此の結果従来の技術では為し
得なかった次の効果を発生することができる。
(1)筒型黒鉛蒸発坩堝においては、直接通電加熱が可
能となり、高融点金属を自由に溶融、蒸発させ、高圧蒸
気を発生させることが出来るという効果が得られる。
能となり、高融点金属を自由に溶融、蒸発させ、高圧蒸
気を発生させることが出来るという効果が得られる。
更に直立型として、原料金属の大量充填を可能とし金属
融液の溢流を防止し、長時間連続運転を可能とする効果
がある。
融液の溢流を防止し、長時間連続運転を可能とする効果
がある。
(2)筒型黒鉛イオン生成室においては、そのイオン生
成室の直接通電加熱により、高濃度蒸気を加熱励起し、
高融点金属イオンの大量発生を可能とした。
成室の直接通電加熱により、高濃度蒸気を加熱励起し、
高融点金属イオンの大量発生を可能とした。
更に長U字型タングステン・フィラメントを採用し、熱
電子放出量を倍加することにより、イオン生成能力を強
化して、金属イオンの大電流の発生を可能とする点で効
果がある。
電子放出量を倍加することにより、イオン生成能力を強
化して、金属イオンの大電流の発生を可能とする点で効
果がある。
また横窩型フィラメント保持室を設け、フィラメント絶
縁部品への金属蒸気の凝縮・短絡を防止すると共に長時
間運転を可能とし、さらにフィラメント保持室を脱着式
とし、フィラメントの装脱着、イオン生成室の点検、管
理を簡便化し、運転性を向上する。
縁部品への金属蒸気の凝縮・短絡を防止すると共に長時
間運転を可能とし、さらにフィラメント保持室を脱着式
とし、フィラメントの装脱着、イオン生成室の点検、管
理を簡便化し、運転性を向上する。
(3)H型構造イオン源基体を採用することにより、蒸
発坩堝とイオン生成室の加熱電力系統を分離・独立させ
ることができ、これにより、金属蒸気の発生及び蒸気加
熱・励起温度の調節とを自由・独立に制御して高出力の
運転を可能とする上で効果がある。
発坩堝とイオン生成室の加熱電力系統を分離・独立させ
ることができ、これにより、金属蒸気の発生及び蒸気加
熱・励起温度の調節とを自由・独立に制御して高出力の
運転を可能とする上で効果がある。
第1図は本発明の実施例における黒鉛製H型イオン源基
体及びその動作を示す概念説明図、第2図は横窩型フィ
ラメント保持室の構造を示す一部破砕の拡大斜視図、第
3図は黒鉛製H型イオン源基体の一部破砕の拡大斜視図
、第4図は黒鉛製H型イオン源基体を実装した高温金属
イオン源装置の側断面図、第5図は第4図の黒鉛製H型
イオン源基体における加熱温度上昇特性を示す線図であ
る。 1・・・・・・筒型黒鉛蒸発坩堝、2・・・・・・筒型
黒鉛イオン生成室、3・・・・・・橋絡管、4・・・・
・・長矩形開口、5・・・・・・長U字型タングステン
・フィラメント、7゜゜゜・・・横窩型フィラメント保
持室、20・・・・・・高融点金属、21,22・・・
・・・加熱電源、23・・・・・フィラメント電源、3
1・・・・・・H型イオン源基体。
体及びその動作を示す概念説明図、第2図は横窩型フィ
ラメント保持室の構造を示す一部破砕の拡大斜視図、第
3図は黒鉛製H型イオン源基体の一部破砕の拡大斜視図
、第4図は黒鉛製H型イオン源基体を実装した高温金属
イオン源装置の側断面図、第5図は第4図の黒鉛製H型
イオン源基体における加熱温度上昇特性を示す線図であ
る。 1・・・・・・筒型黒鉛蒸発坩堝、2・・・・・・筒型
黒鉛イオン生成室、3・・・・・・橋絡管、4・・・・
・・長矩形開口、5・・・・・・長U字型タングステン
・フィラメント、7゜゜゜・・・横窩型フィラメント保
持室、20・・・・・・高融点金属、21,22・・・
・・・加熱電源、23・・・・・フィラメント電源、3
1・・・・・・H型イオン源基体。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 筒型黒鉛坩堝及び筒型黒鉛イオン生成室を黒鉛管に
より橋絡して、H型構造のイオン源基体となし、前記筒
型黒鉛イオン生成室に熱電子放出用フィラメントを内蔵
せしめ、上記筒型黒鉛坩堝及び筒型黒鉛イオン生成室に
それぞれ独立した電源を設けて、個別に加熱及び制御を
行なうことを特徴とする黒鉛製H型イオン源基体を有す
る高温金属イオン源装置。 2 高温度で連続して高融点金属を自由に蒸発・イオン
化させて、大量の金属イオン電流を発生する際の温度範
囲が1000℃以上2500℃以下である特許請求の範
囲第1項記載の高温金属イオン源装置。 3 熱電子放出用フィラメントが長U字型である特許請
求の範囲第1項記載の高温金属イオン源装置。 4 長U字型の熱電子放出用フィラメントを内蔵する筒
型黒鉛イオン生成室上端に、脱着自在の横窩型フィラメ
ント保持室を設けた特許請求の範囲第3項記載の高温金
属イオン源装置。 5 筒型黒鉛イオン生成室前面に2個以上の長矩形開口
を併列密集して設けた特許請求の範囲第1項記載の高温
金属イオン源装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14468377A JPS5812699B2 (ja) | 1977-12-01 | 1977-12-01 | 高温金属イオン源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14468377A JPS5812699B2 (ja) | 1977-12-01 | 1977-12-01 | 高温金属イオン源装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5477073A JPS5477073A (en) | 1979-06-20 |
JPS5812699B2 true JPS5812699B2 (ja) | 1983-03-09 |
Family
ID=15367820
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14468377A Expired JPS5812699B2 (ja) | 1977-12-01 | 1977-12-01 | 高温金属イオン源装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5812699B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0066474B1 (en) * | 1981-06-02 | 1986-03-26 | Ibt-Dubilier Limited | Dispenser for ion source |
FR2520553A1 (fr) * | 1982-01-22 | 1983-07-29 | Cameca | Appareil d'optique electronique comportant des elements en graphite pyrolytique |
JP2711250B2 (ja) * | 1988-07-14 | 1998-02-10 | 東京エレクトロン株式会社 | イオン注入装置 |
-
1977
- 1977-12-01 JP JP14468377A patent/JPS5812699B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5477073A (en) | 1979-06-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US2754259A (en) | Process and apparatus for growing single crystals | |
JP2002117780A5 (ja) | ||
JPH05171423A (ja) | 真空蒸着用偏向電子銃装置 | |
JPH0645870B2 (ja) | 真空中で材料を蒸発する方法および装置 | |
US3955118A (en) | Cold-cathode ion source | |
JPS5812699B2 (ja) | 高温金属イオン源装置 | |
JP3452458B2 (ja) | 薄膜形成装置 | |
US2677060A (en) | Ion source | |
JP2712539B2 (ja) | 電子ビーム蒸着源 | |
JPH0757617A (ja) | 熱電子発生源 | |
JP2593292Y2 (ja) | 金属イオン源輻射リフレクタ構造 | |
JP3174313B2 (ja) | 薄膜形成装置 | |
JPH01290758A (ja) | 酸化物薄膜の製造方法 | |
JPS6116731B2 (ja) | ||
JP2716715B2 (ja) | 薄膜形成装置 | |
JPS602745B2 (ja) | イオン源装置 | |
JP2000011853A (ja) | 電子銃、その長寿命化方法、電子機器 | |
JP2002260541A (ja) | 液体金属イオン源 | |
JPH0542603Y2 (ja) | ||
JPH0160888B2 (ja) | ||
JPS59207600A (ja) | プラズマ電子銃を利用した溶解炉 | |
JP2005005236A (ja) | プラズマ発生装置 | |
Lucas | Some Characteristics of Tantalum Films | |
JPH0520894B2 (ja) | ||
JPH0254759A (ja) | 薄膜形成装置 |