JPS58125390A - ガルバノメ−タ光走査型レ−ザ加工装置 - Google Patents
ガルバノメ−タ光走査型レ−ザ加工装置Info
- Publication number
- JPS58125390A JPS58125390A JP57006944A JP694482A JPS58125390A JP S58125390 A JPS58125390 A JP S58125390A JP 57006944 A JP57006944 A JP 57006944A JP 694482 A JP694482 A JP 694482A JP S58125390 A JPS58125390 A JP S58125390A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- galvanometer
- axis
- position signal
- perturbation
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/073—Shaping the laser spot
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はガルバノメータ光走査型レーザ加工装置Kll
する40であゐ。
する40であゐ。
レーザビームを二次元に移動させる仁とは、レーザ加工
外どO応用に不可入電技術であ、9、XYテーブル上に
固定された反射鏡を利用する方法とガルバノメータの回
転軸上に取〉付けられた反射鏡の回転を利用すゐ方法の
二りがある。前者は広い移動箱8にわたり、高い位置精
度で微小スポットを得ることが可能であ〉、又、後者は
極めて高速度の移動が可能である。レーザ加工装置の内
でも需要の多い、厚膜ハイブリッドIC中抵抗モジ為−
ルのレーザトリミングの場合高速性が要求される。すな
わちトリミングすべ1i抵抗から抵抗への位置決め時の
レーザビームの移動、レーザビームを照射しながら抵抗
体をカッティングする際の移動に高適性が求められる。
外どO応用に不可入電技術であ、9、XYテーブル上に
固定された反射鏡を利用する方法とガルバノメータの回
転軸上に取〉付けられた反射鏡の回転を利用すゐ方法の
二りがある。前者は広い移動箱8にわたり、高い位置精
度で微小スポットを得ることが可能であ〉、又、後者は
極めて高速度の移動が可能である。レーザ加工装置の内
でも需要の多い、厚膜ハイブリッドIC中抵抗モジ為−
ルのレーザトリミングの場合高速性が要求される。すな
わちトリミングすべ1i抵抗から抵抗への位置決め時の
レーザビームの移動、レーザビームを照射しながら抵抗
体をカッティングする際の移動に高適性が求められる。
この場合にはガルバノメータによ〕光を走査する方法が
優れてか夕、立ち上9時の加速度数10G、移動速度数
m7秒が容重に得られ、広く11Mされている。
優れてか夕、立ち上9時の加速度数10G、移動速度数
m7秒が容重に得られ、広く11Mされている。
とζろで最近、こうしたレーザトリミングや試料KEI
ット番号などを印字するレーザマーキングなどO応用で
は5通常加工幅はsO声m@度であるがよシ広い加工幅
を要求する事例が多くなってhる。たとえばレーザトリ
ミングの例では高圧回路に使用するハイブリッドICな
どでは耐圧が要求される為トリミングした加工幅が広い
ことを必要とする。1&レーザフーキングでは印字した
文字を見やすくする為、更に広い加工幅を求めるなどで
ある。
ット番号などを印字するレーザマーキングなどO応用で
は5通常加工幅はsO声m@度であるがよシ広い加工幅
を要求する事例が多くなってhる。たとえばレーザトリ
ミングの例では高圧回路に使用するハイブリッドICな
どでは耐圧が要求される為トリミングした加工幅が広い
ことを必要とする。1&レーザフーキングでは印字した
文字を見やすくする為、更に広い加工幅を求めるなどで
ある。
加工幅を広くすゐ為には、集光レンズによって集光した
レーザビームのスポット径を大きくすゐことが簡単には
考えられるが、スポット径を大きくすることKより、パ
ワー密度が低下し、加工能力が低下し%抵抗が十分切新
されない、あるいは文字が不鮮明になるといった欠点が
生じ喪。
レーザビームのスポット径を大きくすゐことが簡単には
考えられるが、スポット径を大きくすることKより、パ
ワー密度が低下し、加工能力が低下し%抵抗が十分切新
されない、あるいは文字が不鮮明になるといった欠点が
生じ喪。
本発明の目的は、かかる従来のこういう九欠点を除き、
加工特性を保持しながら、広い加工幅が得られるガルバ
ノメータ光走査雛レーザ加工装置を提供することである
。
加工特性を保持しながら、広い加工幅が得られるガルバ
ノメータ光走査雛レーザ加工装置を提供することである
。
本発明によれば、ムービングコイル型ガルバノメータの
回転軸上に取シ付けられた反射鏡を位置信号によって回
転させ反射鏡に入射したレーザ光の反射光を移動させて
加工を行うガルバノメータ光走査履レーザ加工装置にお
いて、互いに直交する1対のガルバノメータとガルバノ
メータのそれぞれの位置信号に微小は正弦摂動と余弦摂
動を重畳する回路とを含み、レーザ光の走査に微小な円
または楕円運動を伴わせ、加工特性を改讐したことを特
長とす本ガルバノメーメ光走査瀝レーザ加工装置が得ら
れる。
回転軸上に取シ付けられた反射鏡を位置信号によって回
転させ反射鏡に入射したレーザ光の反射光を移動させて
加工を行うガルバノメータ光走査履レーザ加工装置にお
いて、互いに直交する1対のガルバノメータとガルバノ
メータのそれぞれの位置信号に微小は正弦摂動と余弦摂
動を重畳する回路とを含み、レーザ光の走査に微小な円
または楕円運動を伴わせ、加工特性を改讐したことを特
長とす本ガルバノメーメ光走査瀝レーザ加工装置が得ら
れる。
次に本発明について図面を参照しながら詳細に説明する
。111図は本発I!()−実ll11nであるガルバ
ノメータ光走査型レーザ加工親電の構成例である。
。111図は本発I!()−実ll11nであるガルバ
ノメータ光走査型レーザ加工親電の構成例である。
レーザ発振−11から発射されたレーザ光はビームエク
スパン’51”−12,X軸ガルバノメータ13、Y軸
ガルバノメータ14.により高速のビーム移動が行われ
対物レンズ1sおよび90’ 反射鏡16を経て試料
17Kj[射される。X軸ガルバノ・メータの回転角を
制御す、&X軸位置信号18は、X軸ガルパノメーメド
ライバ19のヲ経テ。
スパン’51”−12,X軸ガルバノメータ13、Y軸
ガルバノメータ14.により高速のビーム移動が行われ
対物レンズ1sおよび90’ 反射鏡16を経て試料
17Kj[射される。X軸ガルバノ・メータの回転角を
制御す、&X軸位置信号18は、X軸ガルパノメーメド
ライバ19のヲ経テ。
X軸ガルバノメータ13に加えられ、試料面でのX座標
を制御し、同様に、X軸位置信号20はY軸ガルバノメ
ータドライバ19を経て、Y軸ガルバノメータ14に加
えられ、試料面でのyssを制御する。X軸ガルバノメ
ータドライバ19の入力にはX軸位置信号18の他に微
小な正弦摂動si−nwt信号22が重畳されゐ一方Y
軸ガルバノメータドライバ210入力にはX軸位置信号
20の他に微小な余弦摂動corwt信号23が重畳さ
れる。
を制御し、同様に、X軸位置信号20はY軸ガルバノメ
ータドライバ19を経て、Y軸ガルバノメータ14に加
えられ、試料面でのyssを制御する。X軸ガルバノメ
ータドライバ19の入力にはX軸位置信号18の他に微
小な正弦摂動si−nwt信号22が重畳されゐ一方Y
軸ガルバノメータドライバ210入力にはX軸位置信号
20の他に微小な余弦摂動corwt信号23が重畳さ
れる。
このような摂動が、X軸、Y軸に重畳される結果、試料
面でのX、Y面内の光走査には1重畳される正弦摂動、
余弦摂動の大きさく応じて、円運動。
面でのX、Y面内の光走査には1重畳される正弦摂動、
余弦摂動の大きさく応じて、円運動。
楕円運動が伴う仁とくなる。すなわち小さな円運動をし
ながら位置信号で指定される方向にレーザ光が走査され
る。このようすを模式的に示したのが第2図である。第
2図(1)は従来の摂動のない場合の加工軌跡であシ、
第2図(b)は本発明による加工軌跡である。?:、の
ようにするととKより、広い加工幅が得られる。tた円
運動であシ、進行方向に往復する成分がある為、同じ点
に何回かレーザ光を照射することになる。このため従来
に比べて、レーザ光の加工能力が増し、同一のレーザパ
ワーで4より良い加工特性が得られる。このX軸、Y軸
に加えられる摂動の振幅を適!1に選ぶことKよL加工
軌跡幅を制御でき、またくシ返し照射の条件も制御でき
るので加工特性4制御できる。
ながら位置信号で指定される方向にレーザ光が走査され
る。このようすを模式的に示したのが第2図である。第
2図(1)は従来の摂動のない場合の加工軌跡であシ、
第2図(b)は本発明による加工軌跡である。?:、の
ようにするととKより、広い加工幅が得られる。tた円
運動であシ、進行方向に往復する成分がある為、同じ点
に何回かレーザ光を照射することになる。このため従来
に比べて、レーザ光の加工能力が増し、同一のレーザパ
ワーで4より良い加工特性が得られる。このX軸、Y軸
に加えられる摂動の振幅を適!1に選ぶことKよL加工
軌跡幅を制御でき、またくシ返し照射の条件も制御でき
るので加工特性4制御できる。
第1図は本発明の一実施例であるガルバノメータ図であ
る。 11・・・・・・レーザ発振器、12・・・・・・ビー
ムエクスパ:/f、l 3,14・・・・・・X軸Y軸
ガルバノメータ、15・・・・・・対物レンズ、16・
・・・・・90反射鏡、17・・・・・・試料、18.
20・・・・・・位置信号、19,21・・・・・・ガ
ルバノメータドライバs 2 L 23・・・・・
・印加摂動信号である。 J’1 第 IGa (η) 茅 2 図
る。 11・・・・・・レーザ発振器、12・・・・・・ビー
ムエクスパ:/f、l 3,14・・・・・・X軸Y軸
ガルバノメータ、15・・・・・・対物レンズ、16・
・・・・・90反射鏡、17・・・・・・試料、18.
20・・・・・・位置信号、19,21・・・・・・ガ
ルバノメータドライバs 2 L 23・・・・・
・印加摂動信号である。 J’1 第 IGa (η) 茅 2 図
Claims (1)
- ムービングコイル型ガルバノメータの回転軸上に取り付
けられた反射鏡を位置信号によりて回転させ、反射鏡に
入射したレーザ光の反射光を移動させて加工を行うガル
バノメータ光走査型レーザ加工装置において、互いに直
交する1対のガルバノメータとガルバノメータのそれぞ
れの位置信号に微小な正弦摂動と余弦摂動を重畳する回
路とを含み、レーザ光の走査に微小な円または楕円運動
を伴わせ加工特性を改善し九ことを特徴とするガルバノ
メータ光走査−レーザ加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57006944A JPS58125390A (ja) | 1982-01-20 | 1982-01-20 | ガルバノメ−タ光走査型レ−ザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57006944A JPS58125390A (ja) | 1982-01-20 | 1982-01-20 | ガルバノメ−タ光走査型レ−ザ加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58125390A true JPS58125390A (ja) | 1983-07-26 |
JPS6230879B2 JPS6230879B2 (ja) | 1987-07-04 |
Family
ID=11652344
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57006944A Granted JPS58125390A (ja) | 1982-01-20 | 1982-01-20 | ガルバノメ−タ光走査型レ−ザ加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58125390A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08192286A (ja) * | 1995-01-11 | 1996-07-30 | Sumitomo Electric Ind Ltd | レーザビームスピンナ |
JP2013091095A (ja) * | 2011-10-27 | 2013-05-16 | Mitsubishi Materials Corp | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 |
CN105555465A (zh) * | 2014-02-25 | 2016-05-04 | 松下知识产权经营株式会社 | 激光焊接方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54116356A (en) * | 1978-03-03 | 1979-09-10 | Hitachi Ltd | Welding method by laser |
-
1982
- 1982-01-20 JP JP57006944A patent/JPS58125390A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54116356A (en) * | 1978-03-03 | 1979-09-10 | Hitachi Ltd | Welding method by laser |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08192286A (ja) * | 1995-01-11 | 1996-07-30 | Sumitomo Electric Ind Ltd | レーザビームスピンナ |
JP2013091095A (ja) * | 2011-10-27 | 2013-05-16 | Mitsubishi Materials Corp | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 |
CN105555465A (zh) * | 2014-02-25 | 2016-05-04 | 松下知识产权经营株式会社 | 激光焊接方法 |
EP3020502A4 (en) * | 2014-02-25 | 2016-09-14 | Panasonic Ip Man Co Ltd | LASER WELDING |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6230879B2 (ja) | 1987-07-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA1166050A (en) | Laser beam scanning system | |
CN101419336A (zh) | 一种振镜式激光三维扫描系统 | |
JPH02104487A (ja) | レーザ加工装置 | |
KR20060131849A (ko) | 가상 레이저 마킹 시스템 및 방법 | |
WO1992002331A1 (en) | Yag laser working machine for precision working of thin film | |
JP2003136270A (ja) | レーザ加工装置 | |
JPS58125390A (ja) | ガルバノメ−タ光走査型レ−ザ加工装置 | |
JPS60106686A (ja) | レ−ザ・マ−キング装置 | |
JPH0780674A (ja) | レーザ加工方法及びレーザ加工装置 | |
RU2283738C1 (ru) | Установка для лазерной обработки | |
JPH08189817A (ja) | 三次元画像計測装置 | |
JPS6213120B2 (ja) | ||
Arnone | The laser-plotter: a versatile lithographic tool for integrated optics and microelectronics | |
JPS60121423A (ja) | レ−ザビ−ム偏向装置 | |
JPH01130894A (ja) | レーザ加工装置 | |
JPS62203117A (ja) | 光ビ−ムのスキヤンニング装置 | |
CN118465903B (zh) | 光栅尺的加工方法、装置及系统 | |
JPS6258833B2 (ja) | ||
JP2677711B2 (ja) | 薄膜精密加工用のyagレーザ加工機 | |
JPH0333246B2 (ja) | ||
Weick | Laser generation of conductor patterns | |
JPH02121789A (ja) | 光走査レーザー加工装置 | |
JPH01289592A (ja) | レーザ加工装置 | |
JPS6258834B2 (ja) | ||
Li | Precision laser scribing machine |