JPS5812271B2 - ２− オキソ −４− チカンジチオ −１− アゼチジンサクサンルイ ノ セイゾウホウ - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は一般式 （式中Ｒ，はアルキル基、Ｒ２はアシルアミノ基、Ｒ３
はカルボキシ基もしくはそのエステルもしくは塩類、Ｘ
は酸残基をそれぞれ意味する）で示される２・２−ジ置
換ペナムー３−カルボン酸類にチオアルカン酸、アリー
ルチオール、アラル２キルチオールまたは低級アルキル
基を有していてもよいチアジアゾールチオール、ペンゾ
チアゾールチオール、チアゾールチオール、キノリンチ
オールもしくはペンゾオキサゾールチオールまたはその
塩類を作用させて、一般式 ｛式中Ｒ２は前と同じ意味、Ｒ４はアルカノイルチオ基
、アリールチオ基、アラルキルチオ基または低級アルキ
ル基を有していてもよいチアジアゾリルチオ基、ペンゾ
チアゾリルチオ基、チアゾリルチオ基、キノリンチオ基
もしくはペンゾオキサゾリルチオ基、Ｒ５は−ＣＨ−Ｃ
＝ＣＨ２または（式中Ｒ，およびＲ３は前と同じ意 味）で示される基をそれぞれ意味する｝で示される２−
オキソー４一置換ジチオー１−アゼチジン酢酸類を得る
ことからなる２−！キソ−４−置換ジチオー１−アゼチ
ジン酢酸類の製造法に関するものである。

この発明の原料物質（Ｉ）の中、Ｘがハロゲンである化
合物は、例えば対応する２−メチル−２−アルキルー６
一置換ペナムー３−カルボン酸−１−オキサイド類もし
くはそのカルボキシ基におけるエステルもしくは塩類に
塩基の存在下にハロゲン化剤を作用させることにより製
造され、さらにこれらを置換反応に付すことによりその
他の原料物質が製造される。

原料物質（Ｉ）の定義において、Ｒ１ におけるアル
キル基としては、例えばメチル、エチル、プロビル、イ
ソプロビル、プチル等が挙げられ、Ｒ２のアシルアミノ
基におけるアシル基としては、脂肪族アシル、芳香環を
含むアシルまたは複素環を含むアシルのすべてを意味す
る。

さらに脂肪族アシルとしては飽和もしくは不飽和アルカ
ノイルであって側鎖を有しあるいは環状になっていても
よく、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、プチ
リル、インブチリル、バレリル、インバレリル、ピバロ
イル、アクリロイル、クロトノイル、２−メチルアクリ
ロイル、シクｐペンチルカルボニル、シクロヘキシルカ
ルボニル、シクロヘフチルカルホニル、サクシニル、シ
クロペンチルアセチル、シクロヘキシルアセチル、シク
ロヘプチルアセチル、シクロヘキシルプロピオニル、シ
クロヘプチルプロピオニル、ジヒドロベンソイル、２・
４・６一シクロヘブタトリエニルアセチル、ジヒドロフ
エニルアセチル等が挙げられ、またこれらの飽和もしく
は不飽和アルカノイルは酸素原子または硫黄原子で中断
されていてもよく、この様な基としては、例えばメトキ
シアセチル、メチルチオアセチル，２−７’ロペニルチ
オアセチル、シクロヘキシルチオアセチル、シクロヘキ
シルオキシアセチル、ジヒドロフエノキシアセチル、ジ
ヒドロフエニルチオアセチル、シクロペンチルオキシカ
ルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、ジヒドロ
フエノキシカルボニル、シクロヘプチルオキシ力ルボニ
ル等が挙げられる。

また芳香環を含むアシルとしてはベンゾイル、トルオイ
ル、ナフトイル、α一メチルナフトイル、フタロイル、
テトラヒドロナフトイル等のアリロイルおよびフエニル
アセチル、フエニルプロピオニル、フエニルブチリル、
トリルアセチル、キシリルアセチル、ナフチルアセチル
、テトラヒドロナフチルアセチル等のアラルカノイルの
両者を含み、またこのアラルカノイルのアルキル部分の
炭素原子は酸素原子または硫黄原子で置き変えられてい
てもよく、この様な基としては例えばフエノキシアセチ
ル、フエニルチオアセチル、ペンジルオキシカルボニル
、キシリルオキシカルボニル、ナフトキシカルボニル、
フエノキシカルボニル、２−フエノキシプロピオニル、
２−フエノキシプチリル等が挙げられる。

さらに複素環を含むアシルとしては、酸素原子、硫黄原
子、窒素原子その他のへテロ原子を少なくとも１個もし
くはそれ以上含む飽和もしくは不飽和複素単環もしくは
複素多環残基、例えばチェニル、ペンゾチェニル、フリ
ル、ヒラニル、５・６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル、イ
ソベンゾフラニル、クロメニル、キサンテニル、２Ｈ−
ピロリル、３Ｈ−ピロリル、ピロリル、イミダゾリル、
ピラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、ピ
リダジニル、イソインドリル、インドリル、インダゾリ
ル、キノリル、イソキノリル、イソキサゾリル、イソチ
アゾリル、オキサジアゾリル、ピロリジニル、ビロリニ
ル、イミダゾリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、
ジアゾリル、トリアゾリル、オキサゾリル、チアゾリル
、チアジアゾリル、テトラゾリル、ペンズオキサゾリル
、ペンズオキサジアゾリル、ペンゾチアゾリル、ペンゾ
チアジアゾリル、ペンゾトリアゾリル、ペンズイミダゾ
リル、シドノニル等の複素環を含む複素環カルボニルお
よび前記複素環もしくは複素環置換オキシもしくは複素
環置換チオもしくは複素環置換アミンもしくはＮ−アル
キル複素環置換アミノ等の基を置換分として有するアセ
チル、プロピオニル、プチリル、インブチリル、バレリ
ル、インバレリル、ピバロイル、アクリロイル、クロト
ノイル、２−メチルアクリロイル等のアルカノイル、例
えばＩＨ（もしくは２Ｈ）一テトラゾリルアセチル、チ
ェニルアセチル、チェニルプロピオニル、フリルアセチ
ル、ビペラジニルアセチル、ピロリジニルアセチル、ヒ
ロリシニルプロピオニル、ペンゾチアゾリルアセチル、
オキサゾリルアセチル、ペンズオキサゾリルアセチル等
が挙げられ、またこの複素環を置換分として有するアル
カノイルのアルキル部分は炭素原子または酸素原子また
は硫黄原子で置きかえられていてもよく、この様な基と
しては、例えばピリジルメトキシカルボニル、２−フリ
ルオキシカルボニル、８−キノリルオキシカルボニル等
が挙げられる。

さらにこれらの脂肪族アシル、芳香環を含むアシルまた
は複素環を含むアシルはその任意の位置に適当な置換分
を１個もしくはそれ以上有していてもよく、この様な置
換分としてはメチル、エチル、プロビル、イソプロビル
、■−プロペニル、２−プロペニル、シクロプロピル、
シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル等の
アルキル、メトキシ、エトキシ、プロボキシ、イソカポ
キン等のアルコキシ、メチルチオ、エチルチオ等のアル
キルチオ、フエニル、キシリル、トリル等のアリール、
ベンジル、フエネチル等のアラルキル、アミン、メルカ
プト、ニトロ、クロル、アシト、フルオル、フロム等の
ハロゲン、カルボキシ、スルホヒドロキシ、ヒドロキシ
アミノ、モノ（もしくはジ）メチルアミノ、モノ（もし
くはジ）エチルアミノ、モノ（もしくはジ）プロピルア
ミノ、モノ（もしくはジ）インプロピルアミン等のモノ
（もしくはジ）アルキルアミノ基、メトキシ、エトキシ
、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ等のアルコキ
シ基、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプ
ロピルチル、ブチルチオ等のアルキルチオ基等が挙げら
れ、さらにこの様な置換分を有する脂肪族アシル、芳香
族を含むアシルまたは複素環を含むアシルとしては、例
えばトリクロロエトキシカルボニル、トリフロモエトキ
シカルボニル、１−シクロプロビルエトキシ力ルボニル
、クロロアセチル、２−クロロピロピオニル、トリフル
オロアセチル、α−アミノフエニルアセチル、α−ヒド
ロキシフエニルアセチル、ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル， ０−７’ロモベンジルオキシカルボニル、
Ｏ−ニトロベンジルオキシ力ルボニル、ｐ−メトキシベ
ンジルオキシカルボニル、３・４−ジメトキシベンジル
オキシカルボニル、ｐ−ヒドロキシフエニルアセチル、
２−アミノー２−（５・６−ジヒドロー２Ｈ−ピランー
３−イル）アセチル、２−アミノー２−（ｐ−ヒドロキ
シフエニル）アセチル、２・６−ジメトキシベンゾイル
、３−フエニルー５−メチル−４−オキサゾリル力ルボ
ニル、３−（２−クロロフエニル）−５−メチル−４−
オキサゾリルカルボニル、３−（２・６−ジクロロフエ
ニル）−５−メチル−４−オキサゾリルカルボニル，３
−（２−Ｉ’ロロー６−フルオロフエニル）−５−メチ
ル−４−オキサゾリルカルボニル等が挙げられる。

またこの様なアシル基中に遊離のアミノ基、ヒドロキシ
基、メルカプト基、カルボキシ基等がある場合には、こ
の様なアミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボ
キシ基等が保護基で保護された場合も本発明の範囲に含
まれるものである。

ここにおいてアミン基の保護基としては通常アミン基と
して使用しうるすべての基を含み、例えばトリクロロエ
トキシカルボニル、トリブロモエトキシカルボニル、ペ
ンジルオキシカルボニル，ｐ−｝ルエンスルホニル、ｐ
−ニトロベンジルオキシ力ルボニル、０−プロモベンジ
ルオキシ力ルボニル、０−ニトロフエニルスルフエニル
、クロロアセチル、トリフルオロアセチル、ホルミル、
ビニルオキシカルボニル、第３級ブトキシカルボニル、
ｐ−メトキシベンジルオキシ力ルボニル、３・４−ジメ
トキシベンジルオキシカルボニル、（４−７エニルアソ
）ペンジルオキシカルボニル，４−（４−メトキシフエ
ニルアソ）ペンジルオキシカルボニル、ピリジン−１−
オキサイド−２−メトキシ力ルボニル、２−ピリジルメ
トキシ力ルボニル、２−フリルオキシカルボニル、ジフ
エニルメトキシ力ルボニル、１・１ −シメチルプロポ
キシカルボニル、インプロポキシカルボニル、１−シク
ロプロビルエトキシカルボニル、２−シアノー１・１−
ジメチルエトキシカルボニル、フタロイル、サクシニル
、１−アダマンチルオキシカルボニル、８−キノリルオ
キシカルボニル、インボルニルオキシカルボニル等のア
シル基が挙げられ、さらに、例えば、トリチル、２−ニ
トロフェニルチオ、２・４−シニトロフエニルチオ、ペ
ンジリデン、４−ニトロベンジリデン、２−ヒドロキシ
ベンジリテン、２−ヒドロキシ−５−クロロベンジリテ
ン、２−ヒドロキシ−１−ナフチルメチレン、３−ヒド
ロキシ−４−ピリジルメチレン、１−メトキシ力ルボニ
ル−２−プロピリデン、１−エトキシ力ルボニル−２−
プロピリテン、３−エトキシ力ルボニル−２−ブチリデ
ン、１−アセチル−２−プロヒリテン、１−ペンゾイル
−２−グロピリデン、１−（Ｎ−（２−メトキシフエニ
ル）カルバモイル｝−２−プロピリデン、１−｛Ｎ−（
４−メトキシフエニル）カルバモイル｝−２−プロピリ
デン、２−エトキシカルボニルシクロへキシリデン、２
−エトキシカルボニルシクロペンチリテン、２−アセチ
ルシクロへキシリデン、３・３−ジメチル−５−オキソ
シクロへキシリデン等の基（これらのうち例えば１−メ
トキシカルボニル−２−プロピリテンは１ーメトキシカ
ルボニル−１−プロペン−２−イルと表わされることが
あり、また例えば２−エトキシカルボニルシクロへキシ
リデンは２−エトキシ力ルボニル−１−シクロヘキセニ
ルと表わされることもある）、またジもしくはトリアル
キルシリル等のアシル基以外のアミノ基の保護基が挙げ
られる。

またヒドロキシ基およびメルカプト基の保護基としては
通常ヒドロキシ基およびメルカプト基の保護基として使
用し得るすべての基を含み、例えばホルミル、アセチル
、ペンジルオキシカルボニル、４−ニトロペンジルオキ
シ力ルボニル、４一ブロモベンジルオキシ力ルボニル、
４−メトキシベンジルオキシカルボニル、３・４−ジメ
トキシベンジルオキシカルボニル、４−（フエニルアゾ
）ペンジルオキシカルボニル，４−（４−メトキシフエ
ニルアソ）ペンジルオキシカルボニル、第３級ブトキシ
カルボニル、１・１−ジメチルプロポキシカルボニル、
イソプロボキシカルボニル、ジフエニルメトキシカルボ
ニル、２−ピリジルメトキシカルボニル、２・２・２−
トリクロロエトキシカルボニル、２・２・２−トリプロ
モエトキシカルボニル、３−ヨードプロボキシカルボニ
ル、２−フルフリルオキシカルボニル、１−７ダマンチ
ルオキシカルボニルボニル、１−シクロプロビルエトキ
シカルボニル、３−キノリルオキシカルボニル、トリフ
ルオロアセチル等のアシル基のほか、ベンジル、トリチ
ル、メトキシメチル、２一ニトロフエニルチオ、２・４
−シニトロフエニルチオ等の基が挙げられ、さらにカル
ボキシ基の保護基としては、通常のカルボキシ基の保護
基として使用し得るすべての基を含み、例えばそのエス
テル部分がメチル、エチル、プロビル、イソプロビル、
第３級プチル、ブチル、ベンジル、ジフエニルメチル、
トリフエニルメチル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキ
シベンジル、ベンゾイルメチル、アセチルメチル、ｐ−
ニトロベンゾイルメチル、ｐ−プロモベンゾイルメチル
、ｐ−メタンスルホニルベンゾイルメチル、フタルイミ
ドメチル、トリクロロエチル、トリプロモエチル、１・
１−ジメチル−２−プロビニル、アセトキシメチル、プ
ロピオニルオキシメチル、ピバロイルオキシメチル、１
・１−ジメチルプロビル、１・１−ジメチル−２−プロ
ペニル、３−メチル−３−ブテニル、サクシンイミドメ
チル、１−シクロプロビルエチル、３・５ −−）第３
級フチルー４−ヒドロキシベンジル、メチルスルフエ
ニルメチル、フエニルスルフエニルメチル、メチルチオ
メチル、フエニルチオメチル、ジメチルアミノメチル、
ピリジン−１−オキサイド−２−メチル、キノリン−１
−オキサイド−２−メチル、メチルスルフイニルメチル
、ジ（ｐ−メトキシフエニル）メチル、２−シアノー１
・１−ジメチルエチル等であるエステル、さらに特開昭
４６−７０７３号公報およびオランダ国公開公報第７１
０５２５９号に記載されている例えばジメチルジクロロ
シランの如きシリル化合物またはドイツ国公開公報第２
０６２９２５号に記載されている例えば、４塩化チタン
の如き非金属化合物でカルボキシ基が保護されている場
合等が例示される。

またＸにおける酸残基としては、例えば塩素、臭素、沃
素等のハロゲン、メタンスルホニルオキシ、ベンゼンス
ルホニルオキシ等のアシルオキシ等が挙げられるが、こ
れらに限定されるものではなく、その他の酸残基はすべ
て包含される。

またＲ３のカルボキシ基におけるエステルとしては活性
エステル及び非活性エステルのすべてを含み、例えば、
エステル部分が、メチル、エチル、プロビル、イソプロ
ビル、ブチル、第３級プチル、シクロヘキシル、シクロ
ヘプチル、ビニル、１一プロペニル、２−プロペニル、
１・１−ジメチル−２−７’ロペニル、３−７’テニル
、１・１−ジメチル−２−プロビニル等の飽和もし《は
不飽和アルキル、フエニル、キシリル、トリル、ナフチ
ル等のアリール、ベンジル、フエネチル等のアラルキル
、また前記飽和もしくは不飽和アルキルおよびアラルキ
ルのアルキル部分の炭素原子が硫黄原子、窒素原子、酸
素原子またはカルボニル等でおきかえられた、メトキシ
メチル、エトキシメチル、メチルチオエチル、メチルチ
オメチル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチ
ル、フエノキシメチル、フエニルチオメチル、メチルス
ルフエニルメチル、フエニルスルフエニルメチル、ベン
ソイルメチセ、トルオイルメチル等、さらにこれら上記
の基が適当な置換分、例えばシアン、ニトロ、フルオル
、クロル、ブロム等のハロゲン、メトキシ、エトキシ、
プロポキシ等のアルコキシ、アルカンスルホニル、フエ
ニルアゾ等を１個もし《はそれ以上有するクロロメチル
、プロモメチル、トリクロロエチル、シアンメチル、２
−シアノー１・１−ジメチルエチル、ｐ−ニトロフエニ
ル、２・４・５−トリクロロフエニル、２・４・６ −
｝ ！Ｊクロロフエニル、ペンタクロロフエニル、ｌ
）−メタンスルホニルフエニル、４−（フエニルアゾ）
フエニル、２・４−−）ニトロフエニル、ｐ−クロロベ
ンジル、０−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジル、
ｐ−ニトロベンジル、３・４・５−トリメトキシベンジ
ル、ビス（ｐ−メトキシフエニル）メチル、ペンタクロ
ロベンジル、トリクロロベンジル、３・５ − −）ｍ
３ 級７”チルー４−ヒドロキシベンジル、ｐ−ニト
ロフエニルチオメチル、ｐ−クロロフエニルチオメチル
、ｐ−ニトロペンソイルメチル、ｐ−クロロベンゾイル
メチル等、その他置換もしくは非置換チオアルコール、
Ｎ−ヒドロキシこはく酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフタル
イミド、テトラヒドロピラノール、１−シクロプロビル
エタノール、１−７エニル−３−メチル−５−ピラゾロ
ン、３−ヒドロキシピリ、ジン、２一ヒドロキシメチル
ピリジンーｌ−オキサイド、１−ヒドロキシビペリシン
、１−ヒドロキシ−２（ＩＨ）一ピリドン、ジメチルヒ
ドロキシルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン、クリ
コールアミド、８−ヒドロキシキノリン、オキシム、２
−ヒドロキシメチルキノリンー１−オキサイド等とのエ
ステルまたはカルボキシ基とメトキシアセチレン、エト
キシアセチレン、第３級プチルエチニルジメチルアミン
、第３級プチルエチニルジエチルアミン、エチルエチニ
ルジエチルアミン、２一エチル−５−（３−スルホフェ
ニル）イソキサゾリウムヒドロキサイド分子内塩あるい
は１・５・９・９・１０−ペンタクロル−９・１０−ジ
ヒドロアントラセン、９・９・１０−トリクロルー９・
１０−ジヒドロアントラセン、１・８・９・１ｏ・１０
−ペンタクロル−９・１０−ジヒドロアントラセン等の
９・１０・１０−トリハロゲノー９・１０−ジヒドロア
ントラセン誘導体等とのエステルが挙げられる。

この発明の反応は、原料物質（Ｉ）にチオアルヵン酸、
アリールチオール、アラルキルチオールまたは低級アル
キル基を有していてもよいチアジアゾールチオール、ペ
ンゾチアゾールチオール、チアゾールチオール、キノリ
ンチオールもしくはペンゾオキサゾールチオールまたは
その塩類を作用させることにより行なわれる。

この反応で使用されるチオアルカン酸、アリールチオー
ル、アラルキルチオールまたは低級アルキル基を有して
いてもよいチアジアゾールチオール、ペンゾチアゾール
チオール、チアゾールチオール、キノリンチオールもし
くはペンゾオキサゾールチオールとしては、例えばチオ
酢酸、チオフェノール、フェニルメタンチオール、チア
ゾールチオール、ペンゾチアゾールチオール、ペンゾオ
キサゾールチオール、チアジアゾールチオール、メチル
チアジアゾールチオール、エチルチオチアジアゾールチ
オール、キノリンチオール等が挙げられ、またこれらの
塩類としては例えばナトリウム塩、カリウム塩等が挙げ
られる。

この反応において、原料物質としてＸの酸残基がハロゲ
ンである化合物を使用した場合には、例えば塩基等のハ
ロゲンを除去する化合物の存在下に行なうと有利に進行
する場合がある。

この反応でチオアルカン酸、アリールチオール、アラル
キルチオール、低級アルキル基を有していてもよいチア
ジアゾールチオール、ペンゾチアゾールチオール、チア
ゾールチオール、キノリンチオールもしくはペンゾオキ
サゾールチオールとして液体のものを使用する場合には
溶媒を兼ねることができるが、通常アセトン、水、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、２塩化メチレン、クロロ
ホルム、燐酸緩衝液等のこの反応に悪影響を及ぼさない
溶媒中で行なわれる。

この発明のすべての反応において、反応中もしくは反応
の後処理中にカルボキシ基がそのエステルもしくは塩類
に変えられたりまたはカルボキシ基におけるエステルも
しくは塩類が遊離のカルボン酸に変る場合もこの発明の
範囲に含まれる。

この反応においては、この反応の目的物質とともにペナ
ム核を有する化合物が同時に生成することがあるが、副
生成物は常法により容易に除去することができる。

この発明の目的物質（■）は抗菌活性を有し医薬として
有用でありまた他の抗菌性物質を製造する合成中間体と
して有用である。

次にこの発明を実施例によって説明する。

実施例 １ ５−メチル−１・３・４−チアジアゾール−２一チオー
ル０．１６ｇをｐＨ６．５燐酸緩衝液５ｍｌおよびアセ
トン１０ｍｌの混液に溶解し、この溶液に２−プロモメ
チル−２−メチル−６−（２−フエニルアセトアミド）
ペナムー３−カルボン酸の２・２・２−Ｈクロロエチル
エステル０．５４ｇを加え、室温で３時間攪拌する。

反応液を酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を炭酸水素
ナトリウム水溶液、ついで水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。

溶媒を留去し、残渣をクロロホルムを展開溶媒としてシ
リカゲルカラムクロマトグラフイーに付し精製すると３
０ｒＩＬｌに分けたフラクションの第５〜９番目のフラ
クションからｍｐ１０８〜１０９℃の２−オキンー３−
（２−７エニルアセトアミド）−４−（５−メチル−１
・３・４−チアジアゾール−２−イル）ジチオーα−プ
ロペニルー１−アゼチジン酢酸の２・２・２−トリクロ
ロエチルエステル０．２４ｇを得る。

赤外線吸収スペクトル（ヌジョール） ３２８０，１７８８、１７６０、１６５４ｃｍ’核磁気
共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣＩ３、τ）８．０６（ｓ，
３Ｈ） ７．３ ２ （ ８， ３Ｈ） ６．３８（ｓ，２Ｈ） ５．２９、５．１ ７ （ＡＢｑ，２Ｈ）５．０ ０
（ ｓ， ＩＨ） ４．７３ 〜４．９２（ｍ，２Ｈ） ４．３ ８ 〜４．７ ０ （ｍ， ２Ｈ ）３．０
６（ｄ，ＩＨ） ２．７２（ｓ，５Ｈ） 実施例 ２ ２−メルカプトペンズチアゾール０．２０ｆｔをｐＨ６
．７燐酸緩衝液１５ｍｌ及びジオキサン１５Ｊ７Ｉｌの
混液に溶解し、この溶液に２−プロモメチル−２−メチ
ル−６−（２−フエニルアセトアミド）ヘナムー３−カ
ルボン酸の２・２・２−トリクロロエチルエステル０．
５４Ｓｉ’を加え、室温で７時間攪拌する。

ジオキサンを留去し、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル
層を２％炭酸カリウム水溶液で洗い、ついで水洗したの
ち硫酸マグネシウムで乾燥する。

溶媒を留去して得られる残渣をクロロホルムを展開溶媒
としてシリカゲルカラムクロマトグラフイーに付し精製
すると、３０ｒＩＬｌずつに分けたフラクションの第４
〜６番目のフラクションからｍｐ１４０〜１４１℃の２
−オキソー３−（２−フエニルアセトアミド）−４−（
ペンゾチアゾール−２−イル）シチオーα−プロペニル
ー１一アゼチジン酢酸の２・２・２−トリクロロエチル
エステル０．１（ｌを得る。

実施例 ３ ５−メチル−１・３・４−チアジアゾール−２一チオー
ル０．４７をｐＨ７．３の燐酸緩衝液２０ｍｌおよびア
セトン２０ｍｌの混液に溶かし、ついでこれに２−プロ
モメチル−２−メチル−６−（２−７エノキシアセトア
ミド）ペナムー３−カルボン酸のメチルエステル０．８
０ｇをアセトン１０ｍｌに溶かした溶液を加え、室温で
４時間攪拌する。

反応終了後反応液からアセトンを留去し、残留物を酢酸
エチルで抽出する。

抽出液を炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を留去する。

残留物をシリカゲル６０７を用いたカラムクロマトグラ
フイーに付し、クロロホルムで溶出する。

溶出する各フラクションを約３０ｍｌずつに分けると第
１１〜１３番目のフラクションから油状の２−オキソー
３−（２−フエノキシアセトアミド”）−４−（５−メ
チル−１・３・４−チアジアゾール−２−イル）ジチオ
ーα−プロペニルー１−アゼチジン酢酸のメチルエステ
ル０．２２／を得る。

赤外線吸収スペクトル（クロロホルム） ３４３０、１７７９、１７４２、１６９２儂−１核磁気
共鳴吸収スペクトル（ＣＤＣｌ３、τ）８．０ ７ （
ｓ， ３Ｈ ） ７．３ ６ （ ｓ， ３Ｈ ） ６．２２（ｓ，３Ｈ） ５．４ ３ （ ｓ， ２Ｈ） ５．０ ８ （ ｓ， ＩＨ） ４９ ５ （ Ｂｒｏａｄ Ｓ， Ｉ Ｈ ）４．８
５ （ Ｂｒｏａｄ Ｓ， ＩＨ ）４．８ 〜４．３
（ｍ， ２Ｈ） ３．２ 〜２．６ （ｍ， ５Ｈ） ２．４３（ｄ，ＩＨ） また上記フラクションの第８〜１０番目のフラクション
から油状の４・４−ジチオビス｛２−オキソー３−（２
−フエノキシアセトアミド）一α一−ｆロペニル−１−
アゼチジン酢酸のメチルエステル｝０．３０ｆを得る。

赤外線吸収スペクトル（液膜法） ３２８０、１７７０１ １７４０，１６８０傭−１核磁
気共鳴吸収スペクトル（ ＣＤＣ Ｉ，、τ）８．１
０ （ ｓ， ３Ｈ） ６．２８（ｓ，３Ｈ） ５．４ ５ （ ｓ， ２Ｈ ） ５．１３（ｓ、ＩＨ） ４９ ５ （ Ｂｒｏａｄ Ｓ， Ｉ Ｈ ）４．８
２ （ Ｂｒｏａｄ Ｓ， Ｉ Ｈ ）４．８〜４．４
（ｍ，２Ｈ） ３．２ 〜２．５ （ｍ， ５Ｈ ） ２．３３（ｄ，ＩＨ） 同様にして次の化合物を得る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中Ｒ，はアルキル基、Ｒ２はアシルアミノ基、Ｒ３
   はカルボキシ基もし《はそのエステルもしくは塩類、Ｘ
   は酸残基をそれぞれ意味する）で示される２・２−ジ置
   換ペナムー３−カルボン酸類にテオアルカン酸、アリー
   ルチオール、アラルキルチオールまたは低級アルキル基
   を有していてもよいチアジアゾールチオール、ペンゾチ
   アゾールチオール、チアゾールチオール、キノリンチオ
   ールもしくはペンゾオキサゾールチオールまたはその塩
   類を作用させて、一般式 ｛式中Ｒ２ は前と同じ意味、Ｒ４はアルカノイルチオ
   基、アリールチオ基、アラルキルチオ基または低級アル
   キル基を有していてもよいテアジアゾリルチオ基、ペン
   ゾチアゾリルチオ基、チアゾリルチオ基、キノリルチオ
   基もしくはペンゾオキサゾリルテオ基、Ｒ，はーＣＨ−
   Ｃ＝ＣＨ２または（式中Ｒ１およびＲ３は前と同じ意 味）で示される基をそれぞれ意味する｝で示される２−
   オキソー４−置換ジチオー１−アゼチジン酢酸類を得る
   ことを特徴とする２−オキソー４−置換ジチオー１−ア
   ゼチジン酢酸類の製造法。