JPS58122680A - 彎曲カセツトシム及びその製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本充明はポリマー７−トにストレスパターンｔＧｆｌ起
し、／−トに所４の外形を与える方法に関し、ノートに
そのようなストレスパターン會与えて、それからカセッ
トのシムを形成する方法と、それから優られたシムの構
造の二つのｍ賛な相に関する。

、収対スプール型オーディオカセットは通にカセットの
側面とカセットのケースの間にシムを含んでいる。シム
の目的はカセッ）ｔｆ！用する閾、スツールが回転する
時、スツールの一部とスツールの周りに巻かれたテープ
の禍巷に対する＊＊を減らし、且つテーノｔスゾールに
曽ざつける時及び４！！戻す時、それに案内する事であ
る。遡苓シムはクリーゾング又はエンはシングにより形
成された多数の浮上９部分を何し、それはシムの櫨々の
部分に在り、シムの艮十方間或いはスツールの半径方間
等の種々の方間に延長でき、こｎらの浮上９部分はこれ
らの情ｔｉｌｋ助長しようとするもので、木国轡許第６
，８シ１，１５２号他幾つかの待計の明ａｔにこ７１ら
フリーズの槽々のパターンが配植されている。

然しなから、このようなシムの浮上り部分はスツールと
テープの渦巻を中心次層するのに好ｆしいシムのための
弾性度を常に備えているわσでな（、このシムの浮上り
部分は尚いＪ１１札来中威域を備える事があり、スツー
ルがＩｇｌ私してテープｔその１由に移動させる倍、ス
ツール又は含いたテープの部分に引掛る４があり、テー
プの不規則な運動倉引起して、テープから絖みとり扛る
１１！号のゆがみが生ずる。

本発明はポリマーシートにストレス’ｉｔ　−Ｅｉ　、
ｔて、それが通゛に所足の均一な表面プロフィル４を有
するようにする方法を礎供するもので、ノートはストレ
スを与えて、上記の先行技術の型のシムに見られる浮上
９部分の型にたよる事なく、高レベルのスツール中心決
定と、テープ粟内及びＪ＃−の減少を与える軒規な構造
を備えたシムを形成するのに用いられる。

本発明によれば、カセットのケースとスツールの１１４
１１面の闇に仲人される７ムｔｍえるもので、このシム
を工帰注伸紬ポリマー材料になり、スツールのｌ＃Ｉｉ
ｌ闇に−する７ムの第１圓を形成するシムの第１）−状
部分と、巣１層状品分の第１邸分と反対−の第２１−状
部分を含み、第１ノー状５部分を１第２層状部分に沿っ
て全ての方間にほぼ均一なストレスを与え、シムｔ？彎
曲して５ｇ１而を通常凸面にする。

シムに関してここで用いられる「ノー状部分」という川
崎は７ムの分離して児分けられる層を言及するのではな
く（シムがラミネート構造ｔ−侍っていれば可能だが）
、むしろその相対する王貴面に１４ｆｊｋシているシム
の部分を１及している。

二つのこのような彎曲したシムが一同し、スツールの対
問にその凸状第１面がスツールの一面に構台して位置し
た時、シムはスゾール倉その間の中Ｊｊｉ！−位置に！
１１１１１注押圧して、テープのスツールへの巻きつけ
及び４！Ｉき尿しの案内を改善するのに役に立つ。

７ムの弯曲プロフィルは７ムを作るポリマー材料の薄い
シート又はフィルムを弧状リッツ又、（エドーム面に引
出し、フィルムの一つのノー、状部分ｔその相対するノ
ー状部分よりも引押して永久変形する事ｔ−含む幾つか
の方法で生ずる事ができ、或いはフィルム而の一つｔ熱
処理する事も考えられる。

然しなから、好ましい方法は粒子又はビーズを少（とも
一つのフィルムに衝突烙せ、このようなノー状部分がで
きるまで絖げろ１糧を含む。

このような面突はｉ々の方法でなされるが、シムを作る
ポリマー材料の帝片倉小延な直径のガラス球（直径力（
Ｊ−（Ｊ　Ｌｌ　Ｉ　　Ｌｌ−Ｃ１ｕ　６　＃ｒａｍ）
ｉＬ　／　ｘ：　ルｉ＜逼して推進される乾謙送凰装置
のような仝虱圧力を介して推進される粒子陣を通して移
動させる工ｅ４を含む。

一つの動力レベルでのこのような衝突により衝突される
面ｔ−有する材料の層状部分の伸張は材料の対一層状部
分よりも大きく、衝突面に隣接するより伸張した層状部
分は相対する層状部分に沿って全ての方向にほぼ均一の
ストレスを与える。これにより材料はイｌし、備７ｉ１
！圓は帯片に沿って面状凸ｙＩｉｔなし、更にシムのよ
うな手延い部分ｔポリマー材料の帯片から切萌して、１
１Ｉｉｉ突面が球状凸状間ｔなすように弯曲する。

’ｒ’Ｐｍいエネルヂーレベルで帯片Ｋａ−？を衝突さ
せると又衝突される面と反対の帯片の層状部分の伸長か
はじま９、帯片材料はその彎曲を失ない、その次面は平
面となる。又更に尚いエネルイーレベルで帯片に粒子を
衝突させると、衝突される面と反対側の帯片の層状部分
が衝突面食Ｍする層状部分以上に伸張し、材料は彎曲し
、衝突面は凹状となる。

上記のような粒子との衝突に応答し、カセット用彎曲シ
ムを作るのに使用する過当な弾性伸−材性の例は炭本又
は黒鉛を充填してＩＸ４！された一電性及び＠ｆｆｊ注
質を備えた超−分子の簡比重のポリエチレンの薄いシー
ト又はフィルム、及び黒鉛を塗布しｄ磁性と６ｉ４嘴注
會備えたポリエチレンテレフタレートのようなポリエス
テルの４い／−ト又はフィルムを含む。このような材料
のフィルムから作られた／ムは尚い弾性係ｅｔ−何し、
それｔ押入するカセットのスツールとスツール上のテー
プの一巻を中心に押圧する。

上記の型のシムを形成する方法に有用な他、このような
博いポリマー７−ト又Ｖエフイルムの１＃突により、破
初その輔遺中にフィルムにｔまれだストレスにより好ま
しくない不馬−な訟面外形又を工波面金倚する博いポリ
マーシート又はフィルムに均一の平坦、凸状又は凹状−
１形成する方法全書える。通常この目的に浸用場れる方
法は粒子をフィルムの面の一つに衝突させて、その表向
の一つに＋４＊したフィルムの層状部分がその圏の衆国
に１ｍ−した層状部分に沿って全ての方間に々−なスト
レス會与えて、フィルムが上記のように凸状又は凹状の
所望の次面プロフィルｔ−封するようにする。この方法
は又次にフィルムの他の面に衝突させてフィルムの表向
に、特にフィルムの両面の表面不備を減少したい所でｍ
Ｎの形を与える。

次に本発明を添付の図ｔ−参照して更に一明するが、図
に８いて娩つかの図にわたって同様な符号が同様の部品
を示している。

図ｔ＃照して、第１図に符号１２で―体重に示された本
発明による一対のシム全会ひカセット１０を含む。

カセット１０は三部分ケース１４と、ケース１４内に軸
方向に平行に間ｖ４ｈｔおいて並んでｌｌ！１動自在に
設けられた二つのスツール１６と、対端部分をスツール
１６の周りに渦巻にらせんに巻いた長い磁化チー７’１
８と、スプール１６の間に延長するテープ１８の部分の
通路全形成する一対のローラ２０ｔｌ−含む装置と、ス
ツール１６の画一にスツールとケース１４の１１４１１
壁の闇に設けられ、スツール１６とテープの渦巻上ケー
スの両壁の閣の中央位置に押圧し、且つスツール１６＃
１囲にテープの渦巻の巻嵐力及び４災し運動するテープ
１８′に＊内し、史にスツール１６とチーｆ１Ｂが移１
ＩＪｊる表面のｍ嚢を減少する二つの／ム１２に一宮む
双対スツールカセットである。

本発明による７ム１２は第２図と第６図に蝦も良く示さ
れてＳ９、コーナーがまるくなっている点を除いてほぼ
黄万形會なし、その両縁に沿って中・υに位置し、ケー
ス１４円の位置づけボスト２４に一収谷する相対する位
置づげノツチ２２ｅ有し、且つ透明ケース１４１１１！
ｌしてスツール１６上のテープの一巻の大きさｔ児るｌ
１ｔ−μＪ峨にする中犬艮方形孔２６忙旬し、史にケー
ス１４のスツール１６へのアクセス開口ｊＯＩＩ４−に
位置した間噛倉おいた円形開口２８ｋＮする２番い（例
えば犀さＵ・１闘）弾性伸縮ポリマー材料である。シム
１２はスツール１６に隣接した第１層状部分と、ケース
１４にｍ媛する第２ノー伏部分を甘み、第１層状部分は
第２膚状部分に沿って竺ての方向にストレス【与え、シ
ムｉｚｔ＊曲し、その５１４１ノー伏部分の１ｆｆｉ常
凸状外１１！ＩＴ３６ｔ−形成する。シム１２がカセッ
ト１０にある時、シム１２は偏向して、シム１２の凹状
面３６はスプール１６の相対する１１４１１閾とスプー
ル１６周囲のテープ１８の渦巻に接合し、その結果シム
１２はスプール１６とテープの陶巻をケース１４の中犬
位−に′ｓ１！ｆ：押圧する。

シム１２に関してここに用いられる「ノー状部分」とい
う用−はシム１２の別々に充分げられる層を示すのでな
（（シムがラミネートｎ造を何すればａＪ舵だが２、そ
の相対する王ｊｌＬ圓に一儀して位置するシムの部分を
示すものである。

シム１２に作る方法が第４図に峡も良く示されている。

そこに図式的に水石れているように、この方法を工概し
て次の工程を富む１．即ち（ｌ１弾性伸幅ポリマー材料
の薄いシート又はフィルムを備える。それは図示のｙ口
＜供給ロール４２と４１取りロール４４０間に９！、＊
する材料のシート４０であり、ロール４２．４４０１ｇ
１転によりその間に伝ｉＭ石れる。（２）材料がプラテ
ン４１會遡り越す時、材料４０の少（とも−表面４６に
１１Ｉｉｉ突させ、材料４０のその表閣の一つに１４供
する層状部分がその表面の他に１４＋ｔｃする材料のノ
ー状部分に沿って全ての方向にストレスを与え、材料４
０が拘−に彎曲するようにする（図がの如（包囲体５０
内で公矧の粒子吹きつけ技術で、ノズル４８に一１１１
１ｔ、て空気圧力でなされるＪ、（３Ｍ／ム１２を材料
／−トからシム１２ｔ−切＃する。これＱ工区ボの如＜
ｉ＃！り４でなされる。

例として、（Ｊ、１ｍｍの厚さの次木光横超嶋分子尚比
直ポリエチレンであって、それ忙粒子で４１に夫名せて
テスト処理としてそれを７６６５℃のオープンで１０分
１司アニールした後（このアニールをエシムの耐用期間
中自然に生ずるアニールにほぼ寺しいフ、破大約６．４
ミリメートルの彎曲ｔｖＩｌえるポリエチレンが趙ｖ時
平圓から約３．［Ｊ−ｍに偏向した時、双対スプールカ
セットに１史用するのに痒茗に好都合である事がわかっ
た。

第５、第６及び第７図に図式的に示す通り、材料シート
４０の表面４６に第ルベルのエネルギーで粒子を衝突さ
せると、責突面４６に隣嶺したオ科４０の１１１１状部
分が材料４０の対面５６に両縁したｌ−状部分より以上
に伸・艮し、従って材料４０は彎曲し、憾って責１Ａ１
ｋｉ４６は凸状になシ、対面は凹状面となる（第５図ン
。衣ｍ４６に粒子ｔやや尚いレベルのエネルギーで淘突
させると、対面５６に１４−するノー状部分が備矢圓４
６に一嶺するノー状部分と殆ど同じに伸張し、便って材
料４０を工弯曲せず材料４０の肉王資面４６と５６も半
面となる（第６図、然しながら長い黄さの均一半面材料
ｔこの方法で形成するのは内磁である］。又戎１釦４６
に粒子をより尚いレベルのエネルギーで１央させると、
対面５６に隣砿するノー状部分が衝突面４６に１４捩す
るノー状部分より以上に１ＩＩＩ５１にシ、従って材料
４０は彎曲し、＃架間４６は凹状とな九対面５６は凸状
となる（２！ｇ７図ン。

本方法は従って材料ン−）ｋ−突向或いは衝突されない
面のいずれかに凸状、半面、又は凹状面’ｋｍえた所望
の形に造形するのに利用できる。材料７−トの一面で元
の仕上げｆ　ｅｌ！持し、同材料シートの対面に衝突さ
せる事によりそのｒｋＪｔ所望の叩く造形する事ができ
、この−は場合により望ｆしい。或いは、材料／−トの
一閑の元の仕−ヒげの凹凸を減らし、同時にその面を縁
子でそれと衝突させて造形する壜ができる。成る材料シ
ートの１央面はその元の仕上げよりも低いＭＩ憚係数倉
有するように見える。これＧ工凹凸の大きさの減少によ
り生ずる。更に又材料シートの１１ｑｌＩｊｌｌを同時
に又は就いて衝突させる躾によ＃）材ＰＦ／−）のＩｔ
ｉｔ−造形する事がｐ■龍であり、こｎも場合により望
ましい。

本方法の符にイ用を頑来はその一道中或いは所望の拘−
のストレスパターンτ材料に誘尋して所望の材料及び表
面形（飼えば凸状、十ＬＩＤ状又は凹状）ｔ″備える閾
、材料に＃Ｓ得された好ましくない均−又は不均一のス
）Ｌ／スを除く事である。粒子衝突により材料のストレ
スが生じて、でれが彎曲し、その表面は通常はぼ球状凸
面又は球状四国をな丁。材料が第４図に示すように音片
に＊央した時、然しなから、／−トは琳なる筒状凸ｌ又
は凹□面を長手軸に沿って達しただけであるが、シート
から部片に分離すると、面の５ボ状凹面文び６圓の１生
實が明らかとなる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による一対のシムを含むカセットの面図
で、祥細を示すため一部破断して示した図、第２図は第
１図に示したシムの一つの斜視図、本発明による方法を
示す図式図、第５図、第６図及び′ｔＡＺ図は第６図に
ボしたあ法に従って真なるレベルで傅いポリマーノート
材料に粒子に＃矢ちれた効米を図式的に示す図である。 １０：カセット　　　１２：７ム １４：ケース　　　　１ｂニスゾール １８：テープ　　　　２０：ｏ−ラ ３６：外Ｌｌ［Ｉ　　　　　　４０：ポリマー材料ノー
ト４６：シートの一つの而 ５６：／−）の他の面 代理人　洩　村　　　　皓 外４名

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １１３　　ケース（１４）と、咳ケース（１４）内に一
   列に１１７ｊ回に間隔ｔおいて回動目在にべけられた二
   つのスツール（１６）と、該スツール（１６）に−巻状
   ・にらせんに舎いた対４部分及びその閾に延長する部分
   を封する長いテープ（１８−と、該ケース上にあって横
   巻（１６）の閾に延長するテープ（１８）の部分のｌＩ
   ｉ回路を形成する手段と、該スプール（１６）の円層に
   該スツール（１６）とｄケース（１４）の閾に設げられ
   た一対の弾性伸−ボリマー材料の７ム（１２）と１にす
   むカセット（１０）において、該／ム（１２）が谷該ス
   ツール（１６）に１ｌｌｌ！曽した５１ＩＪ１ノ一状部
   分と一ケース（１４）に１４−シた第２層状部分を含み
   、該第１ノー状部分で［４２層状部分に沿って全方向に
   ストレスを与えて、ｄ第１）−状部分に通常凸状の外面
   （３６）ｋ形成し、咳シム（１２）は該ケース（１４）
   とスプール（１６）の閾に４注的に一同して核スツール
   （１６）′ｔ−その閾の中＊位置に押圧するようにした
   事’に’Ｆｆ像とするカセット。 （２）　　特許請求の範囲第１項記−のカセットにおい
   て、咳ポリマー材料が跋本光礪超尚分子−比ムポリマー
   であるｓｔ時ｍとするカセット。 （３）　　臀ｄ’Ｆ請求の軛囲第１項紀−のカセットに
   おいて、該ポリマー材料が黒１１１８４ｆＬ機ポリエス
   テルであるａｔ″籍倣とするカセット。 （４）　　カセット（１０）においてケース（１４）と
   スツール（１６）の１１＆１１面の闇に伸入されるシム
   （１２Ｊｋ形成する方法において、相対する向（４６、
   ５６）　ｔ−ｎするｓｓｉ＋ｍポリマー材料の７−ト（
   ４Ｇ）ｔ−媚え、ｄシー）（４０）の少な（とも一つの
   市（４６）に粒子を倫矢させて、面の一つ（４６）に１
   ｌｌ１１接するシート（４０）のノー状部分が池のｌ［
   １（５６）に−接する７−）　（４０）の層状一部分に
   沿って全ての方同にストレスを与＊て、７−）（４（１
   ）が均一に彎曲するまで続け、次にン−）（４０，Ｉｔ
   −切萌してシム（１２）ｋ形成する１根を含む４Ｉｔ−
   待機とする方法。 （５）籍ｄ’Ｆ縛求の４囲第４積配滅の方法において、
   −７−）（４０）の一つの面（４６）に粒子１ｍ突させ
   て、遁突面（４６ンが凸状になるｆで就ける事を峙値と
   する方法。 （６）時許祷求の４ｄ第４積記械の方法において、該シ
   ート（４０）の一つの面（４６）に粒子を面突させ、備
   突面（４６Ｊか凹状になるｆで枕ける、＃全特徴とする
   方法。