JPS58118033A - Production of magnetic recording medium - Google Patents

Production of magnetic recording medium

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Publication number
JPS58118033A
JPS58118033A JP21203581A JP21203581A JPS58118033A JP S58118033 A JPS58118033 A JP S58118033A JP 21203581 A JP21203581 A JP 21203581A JP 21203581 A JP21203581 A JP 21203581A JP S58118033 A JPS58118033 A JP S58118033A
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JP
Japan
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layer
magnetic layer
internal stress
magnetic
ground layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP21203581A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Osamu Kawamoto
修 河本
Takahiro Yamamoto
隆洋 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS58118033A publication Critical patent/JPS58118033A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/85Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition

Landscapes

  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent the generation of curls when a magnetic layer film is formed, by controlling the working pressure when a ground layer is coated with vapor phase on a flexible substrate and then a magnetic layer is coated with vapor phase on the ground layer and defining the internal stresses as positive and negative codes adversely to each other between the ground layer and the magnetic layer. CONSTITUTION:A ground layer is coated on a nonmagnetic and flexible substrate by various types of vapor-phase coating processes. This ground layer generally has about 50-5,000Angstrom thickness. A magnetic layer is formed on the ground layer. In this case, a sputtering process is applied in terms of the medium characteristics and the advantage of production. For the internal stress of both layers, the coating is performed on a rigid substrate with the same conditions as an actual case. In this case, the internal stress is measured and decided so that it shows the positive and negative codes adversely to each other between both layers. As a result, the generation of curls can be reduced. In particular, the curls can be virtually eliminated if both layers have positive and negative codes adversely to each other and at the same time the production of the absolute value and the film thickness of one layer is equivalent to about 50-150% product of the other layer.

Description

【発明の詳細な説明】 ■ 発明の背景 IA技術分野 本発明は磁気記録媒体の製造方法に関する。[Detailed description of the invention] ■ Background of the invention IA technology field The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic recording medium.

更に詳しくは、連続薄膜形の磁気記録媒体の製造方法の
改良に関する。
More specifically, the present invention relates to an improvement in a method for manufacturing a continuous thin film magnetic recording medium.

rB先行技術 近年、真空蒸着、スパッタリング、イオンル−ティング
等の気相被着法により、金属磁性薄膜を磁性層とする連
続薄膜形の磁気記録媒体が注目を集めている。
rB Prior Art In recent years, continuous thin film magnetic recording media in which a magnetic layer is a metal magnetic thin film have attracted attention using vapor phase deposition methods such as vacuum evaporation, sputtering, and ion routing.

しかし、このような媒体において、例えば長尺の高分子
成型物等からなる可撓性の基体上に、気相被着法により
磁性層薄膜を形成すると、媒体の巾方向等にカールと称
される屈曲が生じ、周波数特性が悪く、また走行性が悪
く、さらにはいわゆるテープの鳴きが発生し、極端な場
合には、カセットハーフに巻込めないという不都合が生
じる。
However, in such media, when a thin magnetic layer is formed by vapor phase deposition on a flexible substrate made of a long polymer molded material, etc., curling occurs in the width direction of the media. This causes the tape to bend, resulting in poor frequency characteristics, poor running performance, and even so-called tape squealing, and in extreme cases, the inconvenience of not being able to wind the tape into the cassette half.

このような事情についてさらに詳細に説明するならば、
気相被着法として最も多用されている蒸着法では、磁性
層の成膜に際し、磁性層が内側になるようなカールが多
発する。 この場合、このカールは被着の際の熱変形と
いうよりは、成膜が収縮力をもつように行われるための
ものであると思料されるものである。
To explain this situation in more detail,
In the vapor deposition method, which is the most commonly used vapor phase deposition method, when forming a magnetic layer, curling occurs frequently in such a way that the magnetic layer is on the inside. In this case, this curl is thought to be due to the fact that the film is formed with shrinkage force rather than due to thermal deformation during deposition.

このような蒸着の際のカールを解消するためには、従来
、磁性層被着後、応力を加え、磁性層に1種のヒビ割れ
を生じさせたり、熱処理を行って、基体側を収縮させた
りしている。 しかし、これらはいずれも成膜の際のカ
ールを防止できるものではな(、生産性その他の点で欠
点が多い。
In order to eliminate such curling during vapor deposition, conventional methods have been to apply stress after the magnetic layer has been deposited to cause a type of crack in the magnetic layer, or to perform heat treatment to shrink the substrate side. I'm doing it. However, none of these methods can prevent curling during film formation (and has many drawbacks in terms of productivity and other aspects).

なお、蒸着以外のその他の被着法、スパッタリンク、イ
オンンV−ディング等によるときにも、成膜の際のカー
ルはきわめて大きな問題であり、その十分な防止策は未
だ実現していない。
Note that curling during film formation is a very serious problem even when using other deposition methods other than vapor deposition, such as sputter linking and ion V-ding, and a sufficient preventive measure has not yet been realized.

■ 発明の目的 本発明は、このような実状に鑑みなされたものであって
、磁性層成膜の際のカールを防止できる方法を提供する
ことを、その主たる目的とする。
(2) Purpose of the Invention The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and its main purpose is to provide a method that can prevent curling during the formation of a magnetic layer.

本発明者らは、このような目的につき鋭慧研究を行った
結果、気相被着条件、特にアルゴンガス等の動作圧力に
よって、被着脱の成膜の際に生じる薄膜の内部応力が制
御できること、そして、可撓性基体に下地層を気相被着
し、この下地層上に磁性層を気相被着する際、両者にお
ける動作圧力を制御することにより、容易に両薄膜の内
部応力を異ならしめろことができ、そのときカールが所
望のとおり解消できることを見出し、本発明をなすに至
ったものである。
As a result of in-depth research for this purpose, the present inventors have found that the internal stress of the thin film that occurs during deposition and desorption can be controlled by gas phase deposition conditions, especially the operating pressure of argon gas, etc. Then, when depositing an underlayer on a flexible substrate in a vapor phase and depositing a magnetic layer on this underlayer in a vapor phase, the internal stress of both thin films can be easily reduced by controlling the operating pressure in both. The present inventors have discovered that curls can be eliminated as desired when the curl is tightened, leading to the present invention.

すなわち、本発明は、可撓性基体上に、下地層を気相被
着し、当該下地層上に磁性層を気相被着するに際し、上
記下地j−と磁性層との気相被着の際の動作圧力を制御
して、上記下地層の内部応力と、上記磁性層の内部応力
とが正負逆の符号となるようにすることを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法である。
That is, in the present invention, when an underlayer is deposited on a flexible substrate in a vapor phase and a magnetic layer is deposited on the underlayer in a vapor phase, the above-mentioned underlayer j- and the magnetic layer are deposited in a vapor phase. This method of manufacturing a magnetic recording medium is characterized in that the operating pressure at this time is controlled so that the internal stress of the underlayer and the internal stress of the magnetic layer have opposite signs.

■ 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。 
本発明において用いる基体は非磁性で可撓性のイ)ので
あって、特に、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミド
等の高分子成形物のフィルムが好適である。 この場合
、その厚さは任意のものとすることができる。
■Specific structure of the invention The specific structure of the present invention will be explained in detail below.
The substrate used in the present invention is non-magnetic and flexible (i), and films of polymer moldings such as polyester, polyimide, polyamide, etc. are particularly suitable. In this case, the thickness can be arbitrary.

本発明においては、このような可撓性基体上に、下地層
を被層する。
In the present invention, a base layer is coated on such a flexible substrate.

下地ノーは非磁性であればよ(、各種金属、例えばアル
ミニウム、銀、銅、クロム、チタン、マンガン、マダイ
・シウム、スズ、鉛等、するいは各種合金、Si 、 
Ge等の各種牛金属、さらには、5I02At、、03
、’I’i02、Bi2O3、MyF2等の各種化合物
など、いずれであってもよい。
The base material must be non-magnetic (various metals such as aluminum, silver, copper, chromium, titanium, manganese, red sium, tin, lead, etc., or various alloys, Si,
Various metals such as Ge, 5I02At, 03
, 'I'i02, Bi2O3, MyF2, and other various compounds.

また、これらを2層以上積層することもできる。Moreover, two or more layers of these can also be laminated.

ただ、後述のように、磁性層をCo −Ni −Pまた
はCo −P系合金層とするときには、アルミニウム、
クロム、チタン、マグネシウム、するいはこれらの合金
、特にアルミニウム合金、クロム合金、チタン合金ある
いはマグネシウム合金であることが好ましい。
However, as described later, when the magnetic layer is made of Co-Ni-P or Co-P alloy layer, aluminum,
Preferably, it is chromium, titanium, magnesium, or an alloy thereof, particularly an aluminum alloy, a chromium alloy, a titanium alloy, or a magnesium alloy.

このような下地層を用いて、その上に上記のような組成
の#膜磁性層を形成するときには、他の下地層を用いる
ときと比較して、機械的強度が向上し、負荷を印加した
後の残留伸びがきわめて小さくなる。 また、下地層を
形成しないときには、B−11ループを測定したとき、
その形状が、連続被着擾手方向に亘って変化し、しばし
ばBHループの減磁曲線上に2つ以上の変曲点が生じ、
適旧バイアスの決定が離しくなる不都合もきわめて少な
くなる。
When using such an underlayer and forming a #film magnetic layer with the above composition on it, the mechanical strength is improved compared to when using other underlayers, and it is easier to apply a load. The subsequent residual elongation becomes extremely small. In addition, when the base layer is not formed, when measuring the B-11 loop,
Its shape changes over the direction of continuous deposition, often resulting in two or more inflection points on the demagnetization curve of the BH loop,
The inconvenience of having to wait too long to decide on the old bias is also greatly reduced.

この場合、アルミニウム合金としては、アルミニウムを
主成分とする各種合金いずれであってもよいが、特に、
Si 、 Cu、 Mn%Zn、 CrおよびM2のう
ちの少なくとも1種を25wt%以下、好ましくは0.
1〜25wt%、より好ましくは1〜20wt%含むも
のが好適である。
In this case, the aluminum alloy may be any of various alloys whose main component is aluminum, but in particular,
At least one of Si, Cu, Mn%Zn, Cr and M2 is contained in an amount of 25 wt% or less, preferably 0.
It is suitable that it contains 1 to 25 wt%, more preferably 1 to 20 wt%.

また、クロム合金としては、クロムを主成分とする各種
合金いずれであってよいが、特に、MOlTi 、 F
e%CoオよびNi )うちの少なくとも1種を、5Q
wt%以下、好ましくは0,1〜5Qwt%、より好ま
しくは1〜5 Q wt%含むものが好適である。
Further, as the chromium alloy, any of various alloys containing chromium as a main component may be used, but in particular, MOLTi, F
At least one of e%Co and Ni) is added to 5Q
It is suitable that the content is less than or equal to 0.1 Qwt%, preferably 0.1 to 5 Qwt%, and more preferably 1 to 5 Qwt%.

さらに、チタン合金としては、チタンを主成分とする各
種合金いずれであってもよいが、特に、At、Mn、V
、CrおよびFeノうちの少なくとも1種を、4. Q
 wt%以下、好ましくは0.1〜4Qwt%、より好
ましくは1〜3Qwt%含むものが好適である。
Further, the titanium alloy may be any of various alloys containing titanium as a main component, but especially At, Mn, V
, Cr and Fe; 4. Q
It is suitable that the content is less than or equal to wt%, preferably 0.1 to 4 Qwt%, more preferably 1 to 3 Qwt%.

加えて、マグネシウム合金としては、マグネシウムを主
成分とする各種合金いずれであってもよいが、特に、A
t、 Zn 、 Z、r 、 Mnおよび希土類元素の
うち01種以上を、3Qwt%以下、好ましくは01〜
30W[%、より好ましくは1〜20wt%宮むものか
好適である。
In addition, the magnesium alloy may be any of various alloys whose main component is magnesium, but in particular A
01 or more of t, Zn, Z, r, Mn and rare earth elements at 3Qwt% or less, preferably from 01 to
30W [%, more preferably 1 to 20 wt%] is suitable.

さらに、磁性層を、Co −PまたはCo −N1−p
系のスパッタ#:膜とするときには、上記した下地層の
うち、”アルミニウムM、クロム合金、チタン合金また
はマグネシラノ・合金であることが好ましい。
Furthermore, the magnetic layer is Co-P or Co-N1-p.
Sputtering system #: When forming a film, among the above-mentioned underlayers, aluminum M, chromium alloy, titanium alloy, or magnesilano alloy is preferable.

このような場合、保磁力が向上する。 また磁性層表面
の表向性が良好であり、ヘッドタッチが向上し、置載の
出力がきわめて高い。 そして、残留のびがきわめて少
なく、B Hルーズの変形もきわめて少ない等、総合的
にみて、きわめて良好な特性を発揮する。
In such a case, the coercive force is improved. In addition, the surface of the magnetic layer has good surface properties, improves head touch, and provides extremely high placement output. Overall, it exhibits extremely good characteristics, such as extremely little residual elongation and extremely little deformation of the BH loose.

このような下地層は、一般に50〜5000A程度の厚
さに形成される。
Such a base layer is generally formed to have a thickness of about 50 to 5000 Å.

下地層の形成は、真空蒸着、スパッタリング、イオノブ
レーティング等種々の気相被着法によることができる。
The underlayer can be formed by various vapor deposition methods such as vacuum deposition, sputtering, and ionoblating.

このような下地層上には、磁性層が形成される。A magnetic layer is formed on such an underlayer.

磁性層の組成としては、Co−Ni糸、Co −tte
系、Co −1to系、Co −P系、Co −Ni 
−P系、Mn −At、糸許柚々のものであってよい。
The composition of the magnetic layer is Co-Ni yarn, Co-tte
system, Co-1to system, Co-P system, Co-Ni
-P type, Mn-At, and Itokiyu.

また磁性層の厚さについては、特に制限はなく、磁気記
録媒体がアナログ記録を行うものであるか、あるいはど
σ)ような用途が等に応じ、種々の厚さとすればよい。
The thickness of the magnetic layer is not particularly limited, and may be varied depending on whether the magnetic recording medium performs analog recording or the intended use.

 ただ、通常は、500A〜数μm程度の厚さの連続薄
膜として形成されるものである。
However, it is usually formed as a continuous thin film with a thickness of about 500A to several μm.

磁性層の形成法は、気相被着法に従い、垂直入射蒸着な
いし斜め蒸着等の蒸着、スパッタリング、イオンフレー
ティング等の中から選択される。
The method for forming the magnetic layer is selected from vapor deposition such as perpendicular incidence vapor deposition or oblique vapor deposition, sputtering, ion plating, etc. according to a vapor phase deposition method.

この場合、磁性層の形成は、媒体特性と、製造上の有利
さからすると、スパッタリングにより行うことが好まし
い。
In this case, the magnetic layer is preferably formed by sputtering in view of medium characteristics and manufacturing advantages.

スパックリンクにより、磁性層を形成するときには、そ
の組成は、特性上、Co −PまたはCo→i −P系
合金であることが好ましい。
When a magnetic layer is formed by spuck linking, the composition thereof is preferably Co--P or Co->i--P based alloy.

Co −PまたはCo −Ni −P系合金の組成とし
ては、XP(,1μしXはCo、もしくはc。
The composition of the Co-P or Co-Ni-P alloy is XP (, 1μ, where X is Co or c.

too−y Y およびNiまたはこれらと他の蓋移金属元素の1種以上
との組合せである。)と衣わされるものであることが好
ましい。 この場合、X中におけるCo / (Co−
1−Ni ) 重量比X&″!、oまたは35M址%以
下であることが好ましい。  35重童%を超えると、
磁気特性、thに保磁力Hcが低下してしまうからであ
る。 この場合、保磁力HCO点テ、x ′b: 0〜
30 L量%、特にo〜28N量%であれば、より好ま
しい結果を得る。
too-y Y and Ni or a combination thereof with one or more other metal transfer metal elements. ) is preferable. In this case, Co/(Co-
1-Ni) Weight ratio X&''!, o or 35% or less is preferable. If it exceeds 35%,
This is because the magnetic properties th and the coercive force Hc decrease. In this case, the coercive force HCO point, x'b: 0~
More preferable results can be obtained if the amount is 30 L amount %, especially o to 28 N amount %.

一方、y、すなわちP含量は、0より大で、8重量%以
下であることが好ましい。 8重量%を超えると、やは
り磁気特性、特に保磁力f(cが低下してしまう。 こ
の場合、保磁力Hc。
On the other hand, y, that is, the P content, is preferably greater than 0 and 8% by weight or less. If it exceeds 8% by weight, the magnetic properties, especially the coercive force f(c) will decrease. In this case, the coercive force Hc.

点では、yが1〜8重景%、より好ましくは1.5〜7
重量%であれば、好ましい結果を得る。
For points, y is 1-8%, more preferably 1.5-7
% by weight gives preferable results.

なお、上記のようなCo −PまたはCo−N1−P系
合金中には、更に、例えばCo、Ni以外の他の遷移金
禍元累等、例えばFe、 Cr、 Mn、Moなとの1
種見、上が、全体の10重量%以下の範囲で含有されて
も、しい。
In addition, in the above-mentioned Co-P or Co-N1-P alloy, other transition metal elements other than Co and Ni may be added, such as Fe, Cr, Mn, Mo, etc.
It is also possible for the above ingredients to be contained in an amount of 10% by weight or less of the total weight.

一方、スパッタリングを用いる場合、スパッタリング方
式としては、いわゆるRFスパッタであっても、又いわ
ゆるDCスパッタであってもよく、その装置構成も2惨
、4極等いずれであってもよい。 史には、いわゆるマ
グネトロンスパッタを用いてもよく、又場合によっては
、Pを含むガスを流しながら行う、いわゆる反応性スパ
ッタによることもできる。
On the other hand, when sputtering is used, the sputtering method may be so-called RF sputtering or so-called DC sputtering, and the device configuration may be either two-pole or four-pole. For this purpose, so-called magnetron sputtering may be used, and in some cases, so-called reactive sputtering, which is performed while flowing a gas containing P, may also be used.

用いるターゲットとじては、通常の場合は、Co −N
1−P等の焼結体などを用いればよい。
The target used is usually Co-N
A sintered body such as 1-P may be used.

一方、衝撃イオンのイオン源としては、通常、Ar、K
r、Xeなどの不活性ガス等を用いればよい。 そして
、これらの不活性ガスは、動作時において、 2X10
−2J’orr以上の圧力に維持することか好ましい。
On the other hand, as an ion source for impact ions, Ar, K
An inert gas such as r, Xe, etc. may be used. And these inert gases are 2X10 during operation.
It is preferable to maintain the pressure at -2 J'orr or higher.

 このような圧力未満では、得られる磁性博膜の磁気特
性、特に保磁力Heが低下してしまうからである。  
一方、動作時の圧力を上げれば、スパッタレートは低下
してしまう。 こσ)ため、動作時の圧力は、一般にf
iX1+]”〜2X]0 ”l’orr程度とすること
が好ま1−い。
This is because if the pressure is less than this, the magnetic properties of the obtained magnetic film, especially the coercive force He, will deteriorate.
On the other hand, if the operating pressure is increased, the sputtering rate will decrease. Therefore, the pressure during operation is generally f
It is preferable to set it to about iX1+]'' to 2X]0''l'orr.

このような前徒において、本発明においては、下地層お
よび磁性層の一被着の1躾の動作圧力を制御して、磁性
層の内部応力と下地層の内部応力とが正負逆の符号とな
るようにする。
In this case, in the present invention, the operating pressure for one deposition of the underlayer and the magnetic layer is controlled so that the internal stress of the magnetic layer and the internal stress of the underlayer have opposite signs. I will make it happen.

この場合、面層の内部応力は、実際と同一条件にて、剛
性の基板上に被着を行って、その際の内部応力を測定し
、両者が正負逆になるよう決定される。 このような内
部応力の測定は、ヤング率既知の剛性の基板を用い、上
記のように被着を行ったのち、いわゆる片もち法により
、基板のソリを測定し、算出される。
In this case, the internal stress of the surface layer is determined by depositing it on a rigid substrate under the same conditions as in reality and measuring the internal stress at that time so that the positive and negative values are reversed. Such internal stress is measured by using a rigid substrate with a known Young's modulus, adhering it as described above, and then measuring the warpage of the substrate by the so-called single-stick method.

このような場合、両層の内部応力が正負逆の符弓となり
さえすれば、カールは格段と減少するが、特K、正負逆
であり、一方の絶対値と膜厚との積が、他方のそれの5
0〜150%程度であると、カールはほとんどなくなる
In such a case, if the internal stresses in both layers were to have opposite signs, the curl would be significantly reduced. 5 of that
If it is about 0 to 150%, curls will almost disappear.

磁性層と下地層との内部応力を正負逆にするには、気相
被着の成膜動作圧力の制御によって行うことができる。
The internal stress between the magnetic layer and the underlayer can be reversed in polarity by controlling the film-forming pressure in vapor phase deposition.

すなわち、例えばRFスパッタリングによるときには、
2〜4 X 10  ” Torrの動作力では、はぼ
面方向内部応力はOとなる。 そして、これ以上の動作
圧では内部応力が負となり、収縮力となり、またこれ以
下の動作圧では内部応力が正となり、伸長力となる。
That is, for example, when using RF sputtering,
At an operating force of 2 to 4 x 10 ” Torr, the internal stress in the plane direction becomes O. At operating pressures above this, the internal stress becomes negative and becomes a contraction force, and at operating pressures below this, the internal stress becomes O. becomes positive and becomes an extensional force.

従って、磁性層および下地層のいずれか一方ヲ2X10
  ”Torr以下の圧力にてスパッタリングにより形
成するときには、他方の成膜は4×1.0 ”Torr
以上の圧力にてスパッタリングを行えばよい。
Therefore, either the magnetic layer or the underlayer is 2×10
When forming the other film by sputtering at a pressure of 4×1.0 Torr or less,
Sputtering may be performed at the above pressure.

なお、他のスパッタリングや蒸着、イオンブレーティン
グによるときも、面方向の内部応力がOとなる条件は、
上記とほぼ同様の動作圧力であり、これは実験により容
易に求めることができる。
In addition, when using other sputtering, vapor deposition, and ion blating, the conditions for the internal stress in the plane direction to be O are as follows:
The operating pressure is almost the same as above, and this can be easily determined by experiment.

このような後、必要に応じ、保護層を設層したり、所定
の形状加工等を施し、磁気記録媒体が製造される。
After this, if necessary, a protective layer is provided, a predetermined shape processing, etc. are performed, and a magnetic recording medium is manufactured.

このようにして製造される本発明における磁気記録媒体
は、アナログないし、ディジタルの磁気記録を行う、各
種磁気デー1、フレキシブルディスク等として、有用で
ある。
The magnetic recording medium of the present invention manufactured in this way is useful as various magnetic data 1, flexible disks, etc. for performing analog or digital magnetic recording.

■ 発明の具体的効果 本発明によれば、カールはきわめて小さくなる。■Specific effects of the invention According to the invention, the curl is extremely small.

本発明者らは、本発明の効果を確認するため種々実験を
行った。 以下にその1例を示す。
The present inventors conducted various experiments to confirm the effects of the present invention. An example is shown below.

実験例1 可撓性基体として、連続長尺の6μ悔厚のポリエチレン
テレフタレートフィルムを用意した。
Experimental Example 1 A continuous long polyethylene terephthalate film with a thickness of 6 μm was prepared as a flexible substrate.

このフィルム4種K、一つには、何ら下地層を形成せず
、また他の3棟には、下記表1に示される動作アルゴン
圧にてDCスパッタによりAt下地層を2500A厚に
て形成した。
For these four types of films, one has no base layer formed, and the other three have an At base layer of 2500A thickness formed by DC sputtering at the operating argon pressure shown in Table 1 below. did.

次いで、これらの上に、対応する焼結体を用い、(C0
Q85NiQ5 )96 P4組成の磁性層を、)tF
スパッタにより、下記表1に示される動作アルゴン圧力
にて、3500A厚に形成した。
Next, a corresponding sintered body is used on top of these, and (C0
Q85NiQ5 )96 P4 composition magnetic layer, )tF
It was formed to a thickness of 3500 Å by sputtering at the operating argon pressure shown in Table 1 below.

表    1 動作アルゴン圧力(Torr ) 下地層    磁性層 本発明   5X10−3 7X10 ”比較1   
       7X10−2比較2   3X10→ 
 7X10 ”比較3   7XlO−27XIQ −
2次に、上記各試料の下地層または磁性層スパッタリン
ク条件と全く同一の条件にて、スライドグラス上にスパ
ッタリングを行い、片もち法にて、ソリを測定し、それ
ぞれの内部応力を測定した。 結果を表2に示す。 こ
の場合、内部応力の負符号は、面方向収縮力であること
を表わし、正符号は前方向伸長力であることを表わす。
Table 1 Operating argon pressure (Torr) Underlayer Magnetic layer Invention 5X10-3 7X10'' Comparison 1
7X10-2 comparison 2 3X10→
7X10” Comparison 3 7XlO-27XIQ −
2. Next, sputtering was performed on a slide glass under exactly the same conditions as the underlayer or magnetic layer sputter link conditions of each sample above, warpage was measured using the single-stick method, and the internal stress of each was measured. . The results are shown in Table 2. In this case, the negative sign of the internal stress represents a planar contraction force, and the positive sign represents a forward expansion force.

表   2 内部応力(dyne la! ) 下地層     磁性層 本発明 +8XlOI′  −8;109比較1  −
    −8X109 比較2   =o     −8XI09比戟3 −8
X10”   −8X10gさらに、上記各試料につき
、それぞれを3.81■幅、70m長にスリットし、マ
イクロカセットテープMC−90を作製した。
Table 2 Internal stress (dyne la!) Underlayer Magnetic layer Invention +8XlOI'-8; 109 comparison 1 -
-8X109 Comparison 2 =o -8XI09 Higeki 3 -8
Further, each of the above samples was slit to a width of 3.81 cm and a length of 70 m to prepare a microcassette tape MC-90.

これら各マイクロカセットテープにつき、カールの曲率
半径、QdB入力での315 Hzと10KHzの周波
数特性および片面45分分間性時の鳴きの数を測定した
。 結果を下記表3に示す。
For each of these microcassette tapes, the radius of curvature of the curl, the frequency characteristics of 315 Hz and 10 KHz at QdB input, and the number of cries during sexual intercourse for 45 minutes on one side were measured. The results are shown in Table 3 below.

表    3 カール  周波数特性    テープ 曲率半径  I QKHz / 315Hz  鳴 き
(P++)    (dB)     (回)本発明 
  の   +50 比較1   23   −     6比較2   2
0    +1     5比較3    8  −1
0    10表3に示される結果から、本発明の効果
が明白である。
Table 3 Curl frequency characteristics Tape curvature radius I QKHz / 315Hz Squeal (P++) (dB) (times) Invention
+50 Comparison 1 23 - 6 Comparison 2 2
0 +1 5 comparison 3 8 -1
0 10 From the results shown in Table 3, the effects of the present invention are clear.

さらに、上記本発明のサンプルにつき、下地層アルミニ
ウムを、重量%にて、At −1,2Mn、At−4M
?−0.8Mn−Q、3  Si、   Cr−25)
’e  −] 5Mo 、 Ti −5At−3Mn 
、およびMグー10 At−0,IMnKかえて、他は
全く同様に作製したところ、上記と全く同等の結果を得
た。
Furthermore, for the sample of the present invention, the base layer aluminum was At-1,2Mn, At-4M in weight percent.
? -0.8Mn-Q, 3Si, Cr-25)
'e-] 5Mo, Ti-5At-3Mn
, and M Goo 10 At-0, IMnK were produced in exactly the same manner except for the above, and results completely equivalent to those described above were obtained.

他方、各テープの保磁力1−1cを測定したところ、下
記表4に示される値を得た。 なお、表4には下地層な
しの場合の値も併記される。
On the other hand, when the coercive force 1-1c of each tape was measured, the values shown in Table 4 below were obtained. Note that Table 4 also shows the values without the base layer.

次に、これら各テープに8 K11z 、 OdBのシ
グナルを記録した後、再生しくテープ速度4.76゜/
5ec)、C−90テープでの出力変動中(VU)を測
定し、主として磁性層膜厚のバラツキに起因する出力変
動の大小を評価した。 結果を表4に示す。
Next, after recording an 8K11z, OdB signal on each of these tapes, the tape speed for playback was set to 4.76°/
5ec), the output fluctuation (VU) of the C-90 tape was measured, and the magnitude of the output fluctuation mainly caused by variations in the thickness of the magnetic layer was evaluated. The results are shown in Table 4.

また主として、表面性の何如によって生じるヘッドタッ
チを評価するため、14KHzMOLを測定した。 結
果を表4に示す。
In addition, 14 KHz MOL was measured primarily to evaluate head touch caused by surface properties. The results are shown in Table 4.

次いで、テープ強度を評価するため、各テープを1m表
に裁断し、その一端を固定してつるし、他端に、200
vの荷重を1分間かけ、その後の伸びを測定した。 こ
のようにして測定した残留伸び(%)を、表4に示す1
、これとは別に、磁性層の接着性を評価するため、谷カ
セットテープに記録を行った後、25℃、相対湿度60
%にて、4.76cm/ Secの走行を500回行い
、その後再生して、5dB以下のレベル低下が何回ある
かを測定した。 結果を表4に示す。
Next, in order to evaluate the tape strength, each tape was cut into 1 m squares, one end of which was fixed and hung, and the other end was
A load of v was applied for 1 minute, and the elongation was measured thereafter. The residual elongation (%) measured in this way is shown in Table 4.
, Separately, in order to evaluate the adhesion of the magnetic layer, after recording on a valley cassette tape, it was heated at 25°C and a relative humidity of 60°C.
%, the track was run at 4.76 cm/Sec 500 times, and then played back to measure how many times the level decreased by 5 dB or less. The results are shown in Table 4.

さらに、これとは別に、デー11巻につき、80mおと
に90箇所ザンプリンクして、そのBHループを測定し
、BHループの減磁曲線に2つ以上の変曲点があられれ
る変形箇所の数を測定した。 結果を表4に示す。
Separately, we also measured the BH loops at 90 points every 80m for 11 volumes of data, and identified deformed points where the demagnetization curve of the BH loop had two or more inflection points. The number was measured. The results are shown in Table 4.

11開昭58−118033 (6) 表4に示される結果から、At、Cr、’riないしM
2合金下地層のすぐれた効果があきらかである。
11 1985-118033 (6) From the results shown in Table 4, At, Cr, 'ri or M
The excellent effects of the 2-alloy base layer are obvious.

実験例2 下記表5に示されるようにして、各種サンプルを作製し
、表5に示される結果を得た。
Experimental Example 2 Various samples were prepared as shown in Table 5 below, and the results shown in Table 5 were obtained.

表5に示される結果から本発明にオ6げる各種合金下地
層の効果が明日である。
The results shown in Table 5 demonstrate the effects of various alloy underlayers according to the present invention.

なお、これら各ヅンブルは、保磁力、出力変動rlJ、
] 4 KHz MOL、残留伸び、接着劣化、BHル
ーグ変形とも、きわめて良好な特性を示した。
In addition, each of these dimensions includes coercive force, output fluctuation rlJ,
] 4 KHz MOL, residual elongation, adhesion deterioration, and BH Rogue deformation all showed extremely good characteristics.

実験例3 下記表6に示されるようにして各抽ザングルを作製し、
表6に示される結果を得た。
Experimental Example 3 Each drawing circle was prepared as shown in Table 6 below,
The results shown in Table 6 were obtained.

表6に示される結果から、本発明の効果が明白である。From the results shown in Table 6, the effects of the present invention are clear.

代理人  弁理士  石 井 陽 − 04) 手続″Ir1i正書く自発) 特許庁長官  島 1)春 樹 殿 1、事件の表示 昭和56年特許願第212035号 2、発明の名称 磁気記録媒体の製造方法 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 住所   東京都中央区日本橋−丁目13番1号氏名(
名称)  (306)東京電気化学111i株式会社代
表者   索 野 福次部 4、代理人〒104 住所  東京都中央区築地二丁目15番14号明細書 6、補正の内容
Agent Patent Attorney Akira Ishii - 04) Procedure ``Ir1i (properly written voluntarily) Commissioner of the Japan Patent Office Shima 1) Haruki Tono1, Indication of the case 1982 Patent Application No. 2120352, Name of the invention Method for manufacturing magnetic recording media 3. Relationship with the case of the person making the amendment Patent applicant address: 13-1 Nihonbashi-chome, Chuo-ku, Tokyo Name (
(Name) (306) Tokyo Denki Kagaku 111i Co., Ltd. Representative: Fukujibe Sakuno 4, Agent: 104 Address: 2-15-14 Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo Specification 6, Contents of amendment

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 可撓性基体上に、下地層を気相被着し、当該下地層上に
磁性層を気相被着するに際し、上記下地層と磁性層との
気相被着の際の動作圧力を制御して、上記下地層の内部
応力と、上記磁性層の内部応力とが正負逆の符号となる
ようにすることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
When depositing a base layer on a flexible substrate in a vapor phase and depositing a magnetic layer on the base layer in a vapor phase, controlling the operating pressure during vapor phase deposition between the base layer and the magnetic layer. A method of manufacturing a magnetic recording medium, characterized in that the internal stress of the underlayer and the internal stress of the magnetic layer have opposite signs.
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