JP2551008B2 - Soft magnetic thin film - Google Patents

Soft magnetic thin film

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JP2551008B2 JP62163594A JP16359487A JP2551008B2 JP 2551008 B2 JP2551008 B2 JP 2551008B2 JP 62163594 A JP62163594 A JP 62163594A JP 16359487 A JP16359487 A JP 16359487A JP 2551008 B2 JP2551008 B2 JP 2551008B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、軟磁性薄膜に関し、特に高密度記録に好適
な性能を発揮する磁気ヘッドのコア等として使用される
軟磁性薄膜に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a soft magnetic thin film, and more particularly to a soft magnetic thin film used as a core or the like of a magnetic head exhibiting performance suitable for high density recording.

〔発明の概要〕[Outline of Invention]

本発明は、磁気ヘッドのコア等として使用される軟磁
性薄膜において、Feおよび/またはCoを主体とする合金
に0.1〜5原子%のDyを添加することにより、高飽和磁
束密度、低保磁力を有する軟磁性薄膜を提供するもので
ある。
The present invention provides a soft magnetic thin film used as a core of a magnetic head, etc., by adding 0.1 to 5 atomic% Dy to an alloy mainly composed of Fe and / or Co to obtain a high saturation magnetic flux density and a low coercive force. A soft magnetic thin film having:

さらに本発明は、上記Dyを添加した第1の軟磁性薄膜
層と面心立方構造を有する第2の軟磁性薄膜層とを積層
することにより、より一層優れた軟磁気特性を達成しよ
うとするものである。
Further, according to the present invention, by stacking the first soft magnetic thin film layer containing Dy and the second soft magnetic thin film layer having a face-centered cubic structure, it is attempted to achieve further excellent soft magnetic characteristics. It is a thing.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

たとえばオーディオテープレコーダやVTR(ビデオテ
ープレコーダ)等の磁気記録再生装置においては、記録
信号の高密度化や高品質化が進行しており、鉄等の強磁
性金属粉末を磁性粉とするいわゆるメタルテープや、強
磁性金属材料を真空薄膜形成技術によりベースフィルム
上に直接被着した、いわゆる蒸着テープ等が実用化され
ている。
For example, in magnetic recording / reproducing devices such as audio tape recorders and VTRs (video tape recorders), the density and quality of recorded signals are increasing, and so-called metal using ferromagnetic metal powder such as iron as magnetic powder. A tape and a so-called vapor-deposited tape in which a ferromagnetic metal material is directly deposited on a base film by a vacuum thin film forming technique have been put into practical use.

ところで、このような高保磁力を有する磁気記録媒体
の特性を十分に活かして良好な記録再生を行うために
は、磁気ヘッドのコア材料の特性として、高い飽和磁束
密度と低い保磁力を有することが必要である。
By the way, in order to make good use of the characteristics of the magnetic recording medium having such a high coercive force to perform good recording and reproduction, it is necessary that the core material of the magnetic head has a high saturation magnetic flux density and a low coercive force. is necessary.

このような要求に応える軟磁性材料として、これまで
に各種の材料が開発されており、単層膜あるいは積層膜
として使用されている。
Various materials have been developed as soft magnetic materials that meet such requirements, and are used as single-layer films or laminated films.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

FeCo系合金を上述のような材料の一つであり、これに
Si等の種々の元素を添加して優れた軟磁気特性を得る試
みがなされているが、諸条件の最適化や添加元素の種類
についてはいまだに多くの研究の余地がある。
FeCo alloy is one of the materials mentioned above.
Attempts have been made to obtain excellent soft magnetic characteristics by adding various elements such as Si, but there is still much room for research on optimization of various conditions and types of added elements.

そこで本発明は、FeCo系合金の軟磁気特性の改善を目
的とするもので、特に良好な磁気特性を有する軟磁性薄
膜の提供を目的とするものである。
Therefore, the present invention aims to improve the soft magnetic properties of FeCo-based alloys, and to provide a soft magnetic thin film having particularly good magnetic properties.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明にかかる軟磁性薄膜は、上述の目的を達成すべ
く提案されたものであり、Feおよび/またはCoを主体と
し、Dyを0.1〜5原子%含有してなることを特徴とする
ものである。
The soft magnetic thin film according to the present invention has been proposed to achieve the above-mentioned object, and is characterized by mainly containing Fe and / or Co and containing 0.1 to 5 atomic% of Dy. is there.

さらに本発明にかかる軟磁性薄膜は、Feおよび/また
はCoを主体とし、Dyを0.1〜5原子%含有してなる第1
の軟磁性薄膜層と面心立方構造を有する第2の軟磁性薄
膜層とを積層したことを特徴とするものである。
Further, the soft magnetic thin film according to the present invention is mainly composed of Fe and / or Co and contains Dy in an amount of 0.1 to 5 atomic%.
The soft magnetic thin film layer and the second soft magnetic thin film layer having a face-centered cubic structure are laminated.

ここで、上述のDyの組成範囲は軟磁気特性の観点から
設定されたものであり、この組成範囲外では良好な軟磁
気特性が期待できない。
Here, the above-mentioned composition range of Dy is set from the viewpoint of soft magnetic characteristics, and good soft magnetic characteristics cannot be expected outside this composition range.

また、Coの組成範囲も軟磁気特性の観点から60原子%
までであることが望ましい。
Also, the composition range of Co is 60 atomic% from the viewpoint of soft magnetic characteristics.
Preferably up to.

さらに上記軟磁性薄膜には、耐食性およい耐摩耗性を
向上させるために、全体の5原子%までの範囲でTi,Zr,
V,Nb,Ta,Cr,Mo,W,B,C,Si,Al,Ge,Gaの少なくとも1種を
第四の元素として添加しても良い。
Furthermore, in order to improve the corrosion resistance and the wear resistance, the soft magnetic thin film may contain Ti, Zr,
At least one of V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, B, C, Si, Al, Ge and Ga may be added as the fourth element.

したがって、上述のような第四の元素も含めた軟磁性
薄膜の組成はFeaCobDycMd(但し、a,b,c,dは各々組成比
を原子%として表し、Mは第四の元素を表す。)なる組
成式で示され、その組成範囲は0≦b≦60、0.1≦c≦
5、0≦d≦5、かつa+b+c+d=100の諸条件を
満たすものとなる。
Therefore, the composition of the soft magnetic thin film including the above-mentioned fourth element is Fe a Co b Dy c M d (where a, b, c, d are composition ratios expressed in atomic%, and M is the The composition range is 0≤b≤60, 0.1≤c≤
5, 0 ≦ d ≦ 5, and a + b + c + d = 100 are satisfied.

これらの軟磁性薄膜を作成するためには、通常スパッ
タリングが行われ、高周波マグネトロン・スパッタリン
グ、直流スパッタリング、対向ターゲット・スパッタリ
ング、イオンビーム・スパッタリング等の種々の方式が
適用可能であり、いずれも通常の条件で行うことができ
る。また、上述の第四の元素を添加する場合は、添加す
る元素とFeCoDy合金との合金をターゲットとして使用す
るか、またはFeCoDy合金からなるターゲットの上に添加
する元素のチップを置いてスパッタリングを行えば良
い。
In order to form these soft magnetic thin films, sputtering is usually performed, and various methods such as high-frequency magnetron sputtering, direct current sputtering, facing target sputtering, ion beam sputtering, etc. are applicable, and all of them are normal. It can be done under conditions. When adding the above-mentioned fourth element, the alloy of the element to be added and the FeCoDy alloy is used as the target, or the tip of the element to be added is placed on the target made of the FeCoDy alloy and sputtering is performed. I'm fine.

また、上記軟磁性薄膜の単層膜は主として体心立方構
造を有しているが、これをたとえばFeNi合金やFeCoNi合
金等の面心立方構造を有する磁性薄膜と積層すると、さ
らに良好な特性が得られることが実験的に確認されてい
る。ここで結晶構造の異なる薄膜同士を積層するのは、
層間拡散を防止し、種々の製造工程を経た後でも明瞭な
界面を維持することを考慮しているからである。このと
きの各薄膜の膜厚および積層枚数は、所望の磁気特性に
応じて適宜選択して良い。
Further, the single-layer film of the soft magnetic thin film mainly has a body-centered cubic structure, but if this is laminated with a magnetic thin film having a face-centered cubic structure such as FeNi alloy or FeCoNi alloy, even better characteristics are obtained. It has been experimentally confirmed that it can be obtained. Here, laminating thin films having different crystal structures is
This is because it is considered to prevent interlayer diffusion and maintain a clear interface even after various manufacturing steps. At this time, the thickness of each thin film and the number of laminated layers may be appropriately selected according to desired magnetic characteristics.

〔作用〕[Action]

本発明にかかる軟磁性薄膜においては、Feおよび/ま
たはCoを主体とする合金に0.1〜5原子%のDyが添加さ
れたことにより、単層膜として利用しても良好な磁気特
性を達成することが可能となる。
In the soft magnetic thin film according to the present invention, 0.1 to 5 atom% of Dy is added to the alloy containing Fe and / or Co as a main component to achieve good magnetic properties even when used as a single-layer film. It becomes possible.

さらに上述の軟磁性薄膜を第1の軟磁性薄膜層とし、
これを第2の軟磁性薄膜層と積層することにより、より
一層の磁気特性の改善が可能となる。
Furthermore, the above-mentioned soft magnetic thin film is used as a first soft magnetic thin film layer,
By stacking this on the second soft magnetic thin film layer, the magnetic characteristics can be further improved.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の好適な実施例について、図面を参照し
ながら説明する。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

まずFeCo薄膜へのDyの添加効果を調べるため、Fe60Co
40薄膜(数値は組成を原子%で表す。以下同じ。)、Fe
60Co38Dy2薄膜、および比較例としてDyと同じくランタ
ノイド系列に属するSmを添加した薄膜(Fe60Co38Sm2
膜)をそれぞれ2μmの膜厚に作成し、スパッタリング
終了時およびアニール終了時(450℃,1時間)における
軟磁気特性を測定した。Fe60Co40薄膜についての結果を
第1図(A)および第1図(B)に、Fe60Co38Dy2薄膜
についての結果を第2図(A)および第2図(B)に、
またFe60Co38Sm2薄膜についての結果を第3図(A)お
よび第3図(B)にそれぞれ示す。これらの各図におい
て、(A)はスパッタリング終了時の特性、(B)はア
ニール終了時の特性にそれぞれ対応するものである。
First, in order to investigate the effect of adding Dy to the FeCo thin film, Fe 60 Co
40 Thin film (numerical values indicate composition in atomic%. The same applies hereinafter), Fe
A 60 Co 38 Dy 2 thin film and, as a comparative example, a thin film (Fe 60 Co 38 Sm 2 thin film) added with Sm, which belongs to the same lanthanide series as Dy, were formed to have a film thickness of 2 μm, respectively, at the end of sputtering and after the annealing ( The soft magnetic properties at 450 ° C for 1 hour were measured. The results for the Fe 60 Co 40 thin film are shown in FIGS. 1 (A) and 1 (B), and the results for the Fe 60 Co 38 Dy 2 thin film are shown in FIGS. 2 (A) and 2 (B).
The results for the Fe 60 Co 38 Sm 2 thin film are shown in FIGS. 3 (A) and 3 (B), respectively. In each of these figures, (A) corresponds to the characteristic at the end of sputtering, and (B) corresponds to the characteristic at the end of annealing.

まずFe60Co40薄膜についてみると、第1図(A)から
わかるように、スパッタリング終了時において飽和磁束
密度は十分に高いが保磁力が大きい。この薄膜をアニー
ルした後では、第1図(B)からわかるように、保磁力
は小さくなるが飽和磁束密度は低下し、また透磁率も低
下するので、磁気ヘッドのコア材等への適用には不利で
ある。
First, regarding the Fe 60 Co 40 thin film, as can be seen from FIG. 1A, the saturation magnetic flux density is sufficiently high but the coercive force is large at the end of sputtering. After annealing this thin film, as can be seen from FIG. 1 (B), the coercive force decreases, but the saturation magnetic flux density decreases, and the magnetic permeability also decreases. Is a disadvantage.

次に、上述のFe60Co40薄膜の成分のうち、2原子%の
CoをDyで置換えたFe60Co38Dy2薄膜についてみると、第
2図(A)からわかるように、スパッタリング終了時に
おいて上述のFe60Co40薄膜とほぼ変わらない飽和磁束密
度および透磁率を維持しつつ、保磁力が効果的に低減さ
れていることがわかった。この薄膜をアニールした後で
も、第2図(B)からわかるように、飽和磁束密度を高
い値に維持しつつ、さらに保磁力が改善されていた。
Next, of the components of the above-mentioned Fe 60 Co 40 thin film,
Looking at the Fe 60 Co 38 Dy 2 thin film in which Co is replaced by Dy, as can be seen from FIG. 2 (A), the saturation magnetic flux density and magnetic permeability at the end of sputtering are almost the same as those of the Fe 60 Co 40 thin film described above. It was found that the coercive force was effectively reduced while maintaining it. Even after annealing this thin film, as can be seen from FIG. 2 (B), the coercive force was further improved while maintaining the saturation magnetic flux density at a high value.

また比較例として上記Dyの代わりにSmを2原子%添加
したFe60Co38Sm2薄膜についてみると、第3図(A)お
よび第3図(B)からわかるように、スパッタリング終
了時、アニール終了時のいずれにも軟磁性特性は現れ
ず、磁性材料としては使用できないことがわかった。
As a comparative example, looking at a Fe 60 Co 38 Sm 2 thin film in which Sm is added in an amount of 2 atom% instead of Dy, as can be seen from FIGS. 3 (A) and 3 (B), annealing is completed at the end of sputtering. It was found that the soft magnetic properties did not appear at any of the terminations, and it could not be used as a magnetic material.

以上、FeCo系合金からなる単層膜におけるDyの添加効
果が明らかとなったので、次にFeCoDy薄膜を第1の軟磁
性薄膜層とし、これを第2の軟磁性薄膜層と積層した積
層膜について考察した。
As described above, the effect of adding Dy in the single-layer film made of the FeCo alloy was clarified. Next, the FeCoDy thin film was used as the first soft magnetic thin film layer, and this was laminated with the second soft magnetic thin film layer. Was considered.

まず、上述の第2図(A)および第2図(B)に示し
た例と同じくFe60Co38Dy2の組成を有する第1の軟磁性
薄膜層と、Fe19Ni81の組成を有する第2の軟磁性薄膜層
とを膜厚を種々に変えて積層した積層膜について、スパ
ッタリング終了時における保磁力を測定した。この結果
を第4図に示す。なお、スパッタリングの条件はガス圧
4mTorr、積層膜の全厚は3.6μmである。
First, the first soft magnetic thin film layer having the composition of Fe 60 Co 38 Dy 2 and the composition of Fe 19 Ni 81 are used as in the example shown in FIGS. 2 (A) and 2 (B). The coercive force at the end of sputtering was measured for a laminated film in which the second soft magnetic thin film layer was laminated with various thicknesses. The results are shown in FIG. The sputtering conditions are gas pressure.
4 mTorr, total thickness of laminated film is 3.6 μm.

この図において、縦軸はFe60Co38Dy2薄膜の膜厚
(Å)を、横軸はFe19Ni81薄膜の膜厚(Å)をそれぞれ
示す。点線とこれらの両軸とで囲まれたL字形の領域
は、一方の薄膜の膜厚が他方の薄膜の膜厚に比べて十分
に大きいのでこの領域内に属する膜厚の組合せで積層構
造が達成されず、ほぼ合金相となることを表す。図中の
各点は測定された各積層膜の膜厚の組合せを示し、これ
らを略円弧状に結ぶ実線は保磁力(Hc)の等しい点を結
ぶ等Hc線である。また一点鎖線は飽和磁束密度(Bs)の
等しい点を結ぶ等Bs線である。
In this figure, the vertical axis represents the film thickness (Å) of the Fe 60 Co 38 Dy 2 thin film, and the horizontal axis represents the film thickness (Å) of the Fe 19 Ni 81 thin film. In the L-shaped region surrounded by the dotted line and these two axes, the film thickness of one thin film is sufficiently larger than the film thickness of the other thin film. It means that the alloy phase is not achieved and almost becomes an alloy phase. Each point in the figure shows a combination of the measured film thickness of each laminated film, and a solid line connecting these in a substantially arc shape is an Hc line connecting points having the same coercive force (Hc). The alternate long and short dash line is an iso-Bs line connecting points with the same saturation magnetic flux density (Bs).

この図から、概してFe60Co38Dy2薄膜に比べてFe19Ni
81薄膜の膜厚の大きい積層膜の方が低い保磁力を有する
傾向が認められた。
From this figure, it can be seen that Fe 19 Ni is generally compared to Fe 60 Co 38 Dy 2 thin film.
It was confirmed that the 81- thick laminated film tended to have lower coercive force.

次に、上述のFe60Co38Dy2薄膜とはFeとCoの組成をや
や変えたFe58Co40Dy2について、同様に種々に膜厚を変
えながらFe19Ni81薄膜との積層膜を作成し、スパッタリ
ング終了時における保磁力を測定した。この結果を第5
図に示す。なお、スパッタリングの条件はガス圧2.5mTo
rr、積層膜の全厚は1.8μmである。
Next, with respect to the above-mentioned Fe 60 Co 38 Dy 2 thin film, with respect to Fe 58 Co 40 Dy 2 in which the composition of Fe and Co was slightly changed, a laminated film with the Fe 19 Ni 81 thin film was similarly changed while variously changing the film thickness. It was created and the coercive force at the end of sputtering was measured. This result is the fifth
Shown in the figure. The sputtering conditions are gas pressure 2.5 mTo
rr, the total thickness of the laminated film is 1.8 μm.

この図において、縦軸はFe58Co40Dy2薄膜の膜厚
(Å)を、横軸はFe19Ni81薄膜の膜厚(Å)をそれぞれ
示す。記入事項は、前述の第4図と同じである。
In this figure, the vertical axis represents the film thickness (Å) of the Fe 58 Co 40 Dy 2 thin film, and the horizontal axis represents the film thickness (Å) of the Fe 19 Ni 81 thin film. The entries are the same as those in FIG. 4 described above.

この図から、両薄膜がほぼ等しい膜厚の場合に保磁力
が低く、Fe58Co40Dy2薄膜の膜厚が増大するにつれて保
磁力が増加する傾向が認められた。
From this figure, it was confirmed that the coercive force is low when the two thin films have almost the same film thickness, and the coercive force tends to increase as the film thickness of the Fe 58 Co 40 Dy 2 thin film increases.

以上、第4図と第5図ではFeCoDy系薄膜をFeNi系薄膜
と積層した例について述べたが、次にFeNi系薄膜に代わ
ってFeCoNi系薄膜を第2の軟磁性薄膜層として積層した
例について検討した。すなわち、第5図に示したFe58Co
40Dy2薄膜とFe30 Co35Ni35薄膜とを膜厚の組合せを変
えて積層し、スパッタリング後において保磁力を測定し
た。この結果を第6図に示す。なお、スパッタリング時
のガス圧は2.5mTorr、積層膜の全厚は1.8μmである。
The example of stacking the FeCoDy-based thin film with the FeNi-based thin film has been described above with reference to FIGS. 4 and 5. Next, an example of stacking the FeCoNi-based thin film as the second soft magnetic thin-film layer in place of the FeNi-based thin film investigated. That is, Fe 58 Co shown in FIG.
The 40 Dy 2 thin film and the Fe 30 Co 35 Ni 35 thin film were laminated by changing the combination of film thicknesses, and the coercive force was measured after sputtering. The results are shown in FIG. The gas pressure during sputtering is 2.5 mTorr, and the total thickness of the laminated film is 1.8 μm.

この図において、縦軸はFe58Co40Dy2薄膜の膜厚
(Å)を、横軸はFe30Co35Ni35薄膜の膜厚(Å)をそれ
ぞれ示す。各膜厚の組合せを示す点の上には、保磁力の
値が記入してある。この図からは、上述の第4図および
第5図ほどには膜厚と保磁力の系統的な関係は明らかで
はないが、概してFe58Co40Dy2薄膜に比べてFe30Co25Ni
45薄膜の膜厚の大きい軟磁性薄膜が低い保磁力を有する
傾向を示すことがわかった。
In this figure, the vertical axis represents the film thickness (Å) of the Fe 58 Co 40 Dy 2 thin film, and the horizontal axis represents the film thickness (Å) of the Fe 30 Co 35 Ni 35 thin film. The value of the coercive force is written above the point indicating the combination of each film thickness. From this figure, the systematic relationship between the film thickness and the coercive force is not clear as in FIGS. 4 and 5 above, but in general, compared with the Fe 58 Co 40 Dy 2 thin film, Fe 30 Co 25 Ni
It was found that soft magnetic thin films with a large thickness of 45 thin films tend to have low coercive force.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上の説明からも明らかなように、本発明にかかる軟
磁性薄膜はスパッタリング終了時における保磁力が十分
に低く、単層膜として磁気ヘッド等に使用した場合に
も、ガラス融着等の熱処理の過程で軟磁性特性を損なう
ことがない。
As is clear from the above description, the soft magnetic thin film according to the present invention has a sufficiently low coercive force at the end of sputtering, and even when it is used as a single-layer film in a magnetic head or the like, heat treatment such as glass fusion The soft magnetic properties are not impaired in the process.

また、上記軟磁性薄膜を第1の軟磁性薄膜層とし、こ
れを第2の軟磁性薄膜層と積層した積層膜として使用す
る場合には、軟磁気特性がより一層改善される。
Further, when the soft magnetic thin film is used as a first soft magnetic thin film layer and is used as a laminated film in which the soft magnetic thin film is laminated with the second soft magnetic thin film layer, the soft magnetic characteristics are further improved.

このような軟磁性特性を有する軟磁性薄膜を磁気ヘッ
ドに応用すれば、磁気ヘッドの帯磁が防止され、歪みが
少なくS/N比の高い良好な記録・再生が可能となる。
When a soft magnetic thin film having such soft magnetic properties is applied to a magnetic head, magnetization of the magnetic head is prevented, distortion is small, and good recording / reproduction with a high S / N ratio becomes possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図(A)および第1図(B)はFe60Co40薄膜のヒス
テリシス曲線を示す特性図であり、第1図(A)はスパ
ッタリング終了時、第1図(B)はアニール終了時の特
性をそれぞれ表すものである。第2図(A)および第2
図(B)はFe60Co38Dy2薄膜のヒステリシス曲線を示す
特性図であり、第2図(A)はスパッタリング終了時、
第2図(B)はアニール終了時の特性をそれぞれ表すも
のである。第3図(A)および第3図(B)はFe60Co38
Sm2薄膜のヒステリシス曲線を示す特性図であり、第3
図(A)はスパッタリング終了時、第3図(B)はアニ
ール終了時の特性をそれぞれ表すものである。第4図は
Fe60Co38Dy2薄膜とFe19Ni81薄膜との積層膜の保磁力の
膜厚依存性を示す特性図、第5図はFe58Co40Dy2薄膜とF
e19Ni81薄膜との積層膜の保磁力の膜厚依存性を示す特
性図、第6図はFe58Co40Dy2薄膜とFe30Co35Ni35薄膜と
の積層膜の保磁力の膜厚依存性を示す特性図である。
FIGS. 1 (A) and 1 (B) are characteristic diagrams showing hysteresis curves of Fe 60 Co 40 thin films. FIG. 1 (A) is at the end of sputtering, and FIG. 1 (B) is at the end of annealing. It represents the characteristics of each. 2 (A) and 2
FIG. 2B is a characteristic diagram showing the hysteresis curve of the Fe 60 Co 38 Dy 2 thin film, and FIG.
FIG. 2B shows the characteristics at the end of annealing. 3A and 3B show Fe 60 Co 38.
FIG. 3 is a characteristic diagram showing a hysteresis curve of an Sm 2 thin film,
FIG. 3A shows the characteristics at the end of sputtering, and FIG. 3B shows the characteristics at the end of annealing. Figure 4
Fe 60 Co 38 Dy 2 thin film and Fe 19 Ni 81 characteristic diagram showing the film thickness dependency of the coercive force of the laminated film of the thin film, Fig. 5 Fe 58 Co 40 Dy 2 thin film and the F
e 19 Ni 81 Characteristic diagram showing film thickness dependence of coercive force of laminated film with thin film, Fig. 6 is film of coercive force of laminated film of Fe 58 Co 40 Dy 2 thin film and Fe 30 Co 35 Ni 35 thin film It is a characteristic view which shows thickness dependence.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】Feおよび/またはCoを主体としDyを0.1〜
5原子%含有してなる軟磁性薄膜。
1. Fe and / or Co as a main component and Dy of 0.1 to
A soft magnetic thin film containing 5 atom%.
【請求項2】Feおよび/またはCoを主体としDyを0.1〜
5原子%含有してなる第1の軟磁性薄膜層と面心立方構
造を有する第2の軟磁性薄膜層とを積層したことを特徴
とする軟磁性薄膜。
2. Fe and / or Co as a main component and Dy of 0.1 to
A soft magnetic thin film comprising: a first soft magnetic thin film layer containing 5 atomic% and a second soft magnetic thin film layer having a face-centered cubic structure.
JP62163594A 1987-06-30 1987-06-30 Soft magnetic thin film Expired - Fee Related JP2551008B2 (en)

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