JPS58114039A - スクリ−ンマスク製版方法 - Google Patents
スクリ−ンマスク製版方法Info
- Publication number
- JPS58114039A JPS58114039A JP20977481A JP20977481A JPS58114039A JP S58114039 A JPS58114039 A JP S58114039A JP 20977481 A JP20977481 A JP 20977481A JP 20977481 A JP20977481 A JP 20977481A JP S58114039 A JPS58114039 A JP S58114039A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- patterns
- thickness
- emulsion
- screen mask
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/12—Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(1) 発明の技術分野
本−明はスクリーン印刷用のスクリーンマスク1:、M
t、、特にハイブリッドIC等の基板にノくターン印刷
を行なうためのスクリーンマスクに関するものである。
t、、特にハイブリッドIC等の基板にノくターン印刷
を行なうためのスクリーンマスクに関するものである。
(2) 従来技術と問題点
第1図は従来のスクリーン印刷用のスクリーンマスクを
示t−であり、rcTj Vにおいて1はステンレス、
テトロン勢の1lIl線で形成したスクIJ−ン)ッシ
ュ、2は枠、3はパターン4を形成した感光乳剤をそれ
ぞれ示している。
示t−であり、rcTj Vにおいて1はステンレス、
テトロン勢の1lIl線で形成したスクIJ−ン)ッシ
ュ、2は枠、3はパターン4を形成した感光乳剤をそれ
ぞれ示している。
このスクリーンマスクの製法は、スクリーンメツシュl
に感光性乳剤3を一定の厚さに塗布し、乾燥級これにア
ートワークフィルムを重ねてill覚したのち、現像し
てパターン4となる部分の乳剤を除去して完成され゛る
。
に感光性乳剤3を一定の厚さに塗布し、乾燥級これにア
ートワークフィルムを重ねてill覚したのち、現像し
てパターン4となる部分の乳剤を除去して完成され゛る
。
このように形成されたスクリーンマスクでスクリーン印
刷な行なうと、@2図の如くスキージ5で押し出される
インク6の厚さはほぼ乳剤3の厚さに等しくなるため、
基板7の上し印刷されたパターン8の厚さはどの部分も
等しくなる。ところがハイブリッドICの回路の如、く
回路のある部分は他の部分よりも印刷される膜厚を厚く
(又は薄く)する必要がある場合には複数のスクリーン
マスクを用い印刷を何(ロ)かに分けて行なう必要があ
る。このため作業が繁雑になり、かつ印刷のずれを生じ
パターンの精度が低下する恐れがある。
刷な行なうと、@2図の如くスキージ5で押し出される
インク6の厚さはほぼ乳剤3の厚さに等しくなるため、
基板7の上し印刷されたパターン8の厚さはどの部分も
等しくなる。ところがハイブリッドICの回路の如、く
回路のある部分は他の部分よりも印刷される膜厚を厚く
(又は薄く)する必要がある場合には複数のスクリーン
マスクを用い印刷を何(ロ)かに分けて行なう必要があ
る。このため作業が繁雑になり、かつ印刷のずれを生じ
パターンの精度が低下する恐れがある。
(3)発明の目的
本発明は上記従来の欠点に鑑み、印刷するパターンの厚
さを場所により異なるようにすることができるスクリー
ンマスタを提供することを目的とするものである。
さを場所により異なるようにすることができるスクリー
ンマスタを提供することを目的とするものである。
(4) 発明の構成
そしてこの目的は本発明によれば、スクリーン印刷履用
メブシェの上に所要の厚さの感光性乳剤を塗布し、該乳
剤に対しアートワークフィルムを用いて露光した後現像
処理を行なうスクリーンマスク製版方法において、前記
工程を感光性乳剤の厚さ及び露光用アートワークフィル
ムを変えて複W1−行ない国−メツシュ上に乳剤膜厚の
異なる複数種−のパターンを形成することを特徴とする
メタ11−ンマスク製版方法を提供することによつ℃達
成される。
メブシェの上に所要の厚さの感光性乳剤を塗布し、該乳
剤に対しアートワークフィルムを用いて露光した後現像
処理を行なうスクリーンマスク製版方法において、前記
工程を感光性乳剤の厚さ及び露光用アートワークフィル
ムを変えて複W1−行ない国−メツシュ上に乳剤膜厚の
異なる複数種−のパターンを形成することを特徴とする
メタ11−ンマスク製版方法を提供することによつ℃達
成される。
(5) 発明の実施例
以下、本発明実施例を図面によって詳述する。
11N311!+は本発明のスクリーンマスク制版方法
を説明するための図であり、a〜・園は各工程なそれぞ
れ示す。
を説明するための図であり、a〜・園は各工程なそれぞ
れ示す。
同図5=おいて、9は枠、10は枠9に張設されたスク
リーンメッシュ、11及び14は感光性乳L12はアー
トワークフィルムなそれぞれ示す。
リーンメッシュ、11及び14は感光性乳L12はアー
トワークフィルムなそれぞれ示す。
II3図により本発明によるスクリーンマスク製版方法
を説明すると、先ず&図の如くスクリーンマスクslO
の上に所定の厚さに感覚性乳剤11を塗布する。次にb
図の如く感光性乳剤11の上藝ニアートワークフィルム
121’のせて露光する。
を説明すると、先ず&図の如くスクリーンマスクslO
の上に所定の厚さに感覚性乳剤11を塗布する。次にb
図の如く感光性乳剤11の上藝ニアートワークフィルム
121’のせて露光する。
次いで現像してc[Wの如く感光性乳剤11の不必要部
分を除去しパターンとなる部分13を形成する。
分を除去しパターンとなる部分13を形成する。
次にdllの如く第2回目の感光性乳剤14を食面に塗
布する。この場合の感覚性乳剤14の厚さは前回の感光
性乳剤11とは異なる厚さとする。
布する。この場合の感覚性乳剤14の厚さは前回の感光
性乳剤11とは異なる厚さとする。
次いでbaで用いたアートワークフィルムとはパターン
の異なる了−トワータフィルムな用いて露光・現俸して
・図に示す如くパターンとなる部分1st形成する。こ
のようにして厚さの異なるパターンとなる部分1例えば
パターン13は厚くパターン15は薄く形成される。な
′おd〜・の工程を感覚性乳剤の厚さを蜜えて複数回行
なえば複数種類の厚さのパターンを形成することができ
る。
の異なる了−トワータフィルムな用いて露光・現俸して
・図に示す如くパターンとなる部分1st形成する。こ
のようにして厚さの異なるパターンとなる部分1例えば
パターン13は厚くパターン15は薄く形成される。な
′おd〜・の工程を感覚性乳剤の厚さを蜜えて複数回行
なえば複数種類の厚さのパターンを形成することができ
る。
鶴41!Jは以上の本発明方法により形成されたスクリ
ーンマスタな用いて印刷する状態を説明する園であり、
同図−二おいて16は本発明方法により形成されたスク
リーンマスク、10はスクリーンメツシュ、13及び1
5はそのパターン、17は印刷ベース)、1gはスキー
ジ、1Gは印刷される基板、lsa及び15mは印刷さ
れたノくターンをそれぞれ示す。
ーンマスタな用いて印刷する状態を説明する園であり、
同図−二おいて16は本発明方法により形成されたスク
リーンマスク、10はスクリーンメツシュ、13及び1
5はそのパターン、17は印刷ベース)、1gはスキー
ジ、1Gは印刷される基板、lsa及び15mは印刷さ
れたノくターンをそれぞれ示す。
纂4図において、スクリーンマスク16を基板19に書
着させ、スキジー18を矢印方向に移動させればペース
ト17はスクリーンマスク&10を通してパターン13
及び16から押し出され基板19にパターン13a及び
15aな形成することができる。この場合パターン13
aは厚くノくターンtSaは薄く形成される。
着させ、スキジー18を矢印方向に移動させればペース
ト17はスクリーンマスク&10を通してパターン13
及び16から押し出され基板19にパターン13a及び
15aな形成することができる。この場合パターン13
aは厚くノくターンtSaは薄く形成される。
(6) 発明の効果
以上詳細に説明したように本発明のスクリーンマスク製
版方法は1個のスクリーンマスクに複数種類の厚さのパ
ターンを形成することを可能としたものであり、例えば
ノーイブリッドICの如き複数種類の厚さの導体パター
ンを要するような場合の印11に用いるスクリーンマス
クの作成に供し得るといった効果大なるものである。
版方法は1個のスクリーンマスクに複数種類の厚さのパ
ターンを形成することを可能としたものであり、例えば
ノーイブリッドICの如き複数種類の厚さの導体パター
ンを要するような場合の印11に用いるスクリーンマス
クの作成に供し得るといった効果大なるものである。
第1図は従来のスクリーンマスクを説明するための図、
第2図は従来のスフ11−ンマヌタによるスクリーン印
刷を説明するための図、概3園は本発明6二よるスクリ
ーンマスクの製版方法を説明するための図でありa〜・
はそれぞれ各工程を示す図、IN4図は本発明方法によ
り形成されたスIv−ンイスクC:よる印刷を説明する
ための図である。 図面において、9は枠、lOはスクリーンメッシュ、1
1及び14は感光性乳剤、12はアートワークフィルム
、13及び15はスクリーンマスクのパターン、13m
及び15mは印刷されたパターン、16はスクリーンマ
スク、17tt印刷ペースト、18はスキージ、19は
基板をそれぞれ示す。
第2図は従来のスフ11−ンマヌタによるスクリーン印
刷を説明するための図、概3園は本発明6二よるスクリ
ーンマスクの製版方法を説明するための図でありa〜・
はそれぞれ各工程を示す図、IN4図は本発明方法によ
り形成されたスIv−ンイスクC:よる印刷を説明する
ための図である。 図面において、9は枠、lOはスクリーンメッシュ、1
1及び14は感光性乳剤、12はアートワークフィルム
、13及び15はスクリーンマスクのパターン、13m
及び15mは印刷されたパターン、16はスクリーンマ
スク、17tt印刷ペースト、18はスキージ、19は
基板をそれぞれ示す。
Claims (1)
- 1、 スタリーシ印駒販用メツシュの上に所蚤の厚さの
感光性乳剤を塗布し、l[乳剤に対しアートワークフィ
ルムを用いて露光した後現像処理を行なうスクリーンマ
スタ製版方法1:おいて、餉配工1を感光性乳剤の厚さ
及び露光用アートワークフィルムを変えて複数1行ない
、同一メック。土に乳剤膜厚の興なる複数種類のパター
ンを形成することを特徴とするヌクリーンマスクMNj
t方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20977481A JPS58114039A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | スクリ−ンマスク製版方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20977481A JPS58114039A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | スクリ−ンマスク製版方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58114039A true JPS58114039A (ja) | 1983-07-07 |
Family
ID=16578382
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20977481A Pending JPS58114039A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | スクリ−ンマスク製版方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58114039A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0464402A2 (en) * | 1990-06-18 | 1992-01-08 | Asahi Glass Company Ltd. | A method of producing a screen for printing a heating line pattern and a method of forming a heating line pattern on a glass plate |
JPH0446443U (ja) * | 1990-08-27 | 1992-04-20 | ||
FR2750232A1 (fr) * | 1996-06-20 | 1997-12-26 | Solaic Sa | Support en forme de carte pour une pastille de circuit integre et les conducteurs associes |
US7472650B2 (en) * | 2005-05-31 | 2009-01-06 | International Business Machines Corporation | Nickel alloy plated structure |
-
1981
- 1981-12-28 JP JP20977481A patent/JPS58114039A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0464402A2 (en) * | 1990-06-18 | 1992-01-08 | Asahi Glass Company Ltd. | A method of producing a screen for printing a heating line pattern and a method of forming a heating line pattern on a glass plate |
US5240816A (en) * | 1990-06-18 | 1993-08-31 | Asahi Glass Company Ltd. | Method of producing a screen for printing a heating line pattern and a method of forming a heating line pattern on a glass plate |
JPH0446443U (ja) * | 1990-08-27 | 1992-04-20 | ||
FR2750232A1 (fr) * | 1996-06-20 | 1997-12-26 | Solaic Sa | Support en forme de carte pour une pastille de circuit integre et les conducteurs associes |
US7472650B2 (en) * | 2005-05-31 | 2009-01-06 | International Business Machines Corporation | Nickel alloy plated structure |
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