JPS58112298A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JPS58112298A JPS58112298A JP56213466A JP21346681A JPS58112298A JP S58112298 A JPS58112298 A JP S58112298A JP 56213466 A JP56213466 A JP 56213466A JP 21346681 A JP21346681 A JP 21346681A JP S58112298 A JPS58112298 A JP S58112298A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waveguide
- center
- mounting table
- electric field
- heating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
- H05B6/64—Heating using microwaves
- H05B6/6408—Supports or covers specially adapted for use in microwave heating apparatus
- H05B6/6411—Supports or covers specially adapted for use in microwave heating apparatus the supports being rotated
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
- H05B6/64—Heating using microwaves
- H05B6/72—Radiators or antennas
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は現実的に均一な加熱を可能とするターンテーブ
ル方式の高周波加熱装置に関するものである。
ル方式の高周波加熱装置に関するものである。
従来、電子レンジの均一加熱に関する提案が非常に多数
されてきているが、実用されているものは数える程しか
なく、しかも客観的に均一と評されるものはほとんどな
いといえる。ある特定の負荷に対して均一であっても、
形状や材質が異なった負荷に対しては均一でなくなって
しまうのである。原因は種々考えられるが、第１に考え
られるのは次の様な事と思われる。電子レンジの加熱室
は一般にほぼ直方体の空胴共振器であるから、中に負荷
を全く入れない時の電界は数学的に解く事ができる。し
かし内部に任意の形状、材質の誘電体を入れた場合、電
界分布は当然変わるはずであるが、一般には数学的に解
くことが困難である。
されてきているが、実用されているものは数える程しか
なく、しかも客観的に均一と評されるものはほとんどな
いといえる。ある特定の負荷に対して均一であっても、
形状や材質が異なった負荷に対しては均一でなくなって
しまうのである。原因は種々考えられるが、第１に考え
られるのは次の様な事と思われる。電子レンジの加熱室
は一般にほぼ直方体の空胴共振器であるから、中に負荷
を全く入れない時の電界は数学的に解く事ができる。し
かし内部に任意の形状、材質の誘電体を入れた場合、電
界分布は当然変わるはずであるが、一般には数学的に解
くことが困難である。
また別の形状、材質の誘電体を入れると、さらに別の電
界分布が得られるはずであるがこれもどの様に電界が変
わったかを正確に知る事はできない。
界分布が得られるはずであるがこれもどの様に電界が変
わったかを正確に知る事はできない。
実際の製品化においてはカットアンドトライにより種々
の負荷に対してできるだけ均一に加熱される様に種々検
討されるが、実際の負荷は非常にバラエティに富んでい
るのでまだ満足できるものが実現されていないと思われ
る。現在、方式とじて最も均一加熱が可能と考えられて
いるのはターンテーブル（回転載置台）方式である。現
在一般市販の主力機種が全てこの方式である点からも理
解されよう。しかしこの方式にも欠点がある。それは負
荷の中央部が弱い事である。電子レンジは他の加熱方式
にくらべ、負荷の周囲からだけでなく、内部からも加熱
されると一般に言われるが、やはり周囲がより強く加熱
される。勿論ターンテーブル方式の製品の中にも中央部
の強い製品もある。
の負荷に対してできるだけ均一に加熱される様に種々検
討されるが、実際の負荷は非常にバラエティに富んでい
るのでまだ満足できるものが実現されていないと思われ
る。現在、方式とじて最も均一加熱が可能と考えられて
いるのはターンテーブル（回転載置台）方式である。現
在一般市販の主力機種が全てこの方式である点からも理
解されよう。しかしこの方式にも欠点がある。それは負
荷の中央部が弱い事である。電子レンジは他の加熱方式
にくらべ、負荷の周囲からだけでなく、内部からも加熱
されると一般に言われるが、やはり周囲がより強く加熱
される。勿論ターンテーブル方式の製品の中にも中央部
の強い製品もある。
しかし平面状の薄い負荷に対し中央が強い製品も、太き
なかたまり状の負荷に対しては中央が弱く、逆にかたま
りの中央が強い製品は平面状の中央が弱い。従来からの
提、案の中には中央部を強くするというものもあるが、
仮に負荷が入ってない空胴共振器内の中央部の電界が強
くとも、任意の負荷が入った場合には中央が強いとは言
えない。実際の加熱結果から見ると中央が弱くなる例が
多い。
なかたまり状の負荷に対しては中央が弱く、逆にかたま
りの中央が強い製品は平面状の中央が弱い。従来からの
提、案の中には中央部を強くするというものもあるが、
仮に負荷が入ってない空胴共振器内の中央部の電界が強
くとも、任意の負荷が入った場合には中央が強いとは言
えない。実際の加熱結果から見ると中央が弱くなる例が
多い。
以上の点にかんがみて、本発明は負荷の形状にかかわら
ず中央部が強く加熱されるターンテーブル方式を提供す
ることを目的とする。
ず中央部が強く加熱されるターンテーブル方式を提供す
ることを目的とする。
本発明は、ターンテーブル（回転載置台）方式の高周波
加熱装置において、ターンテーブルの下方より給電しか
つターンテーブルの回転軸の中心と給電する導波管の中
心とをｍ−（ｎは正の整数）ｎ だけ離す構成とし、従来にないより均一した高周波加熱
を可能とするものである。
加熱装置において、ターンテーブルの下方より給電しか
つターンテーブルの回転軸の中心と給電する導波管の中
心とをｍ−（ｎは正の整数）ｎ だけ離す構成とし、従来にないより均一した高周波加熱
を可能とするものである。
以下、本発明の一実施例について図面に基づき説明する
。
。
第１図において電子レンジのステンレス薄板製の加熱室
１はほぼ直方体形状で、底面２には中央に穴３″ｔｈあ
け、これを貫通してシリコン樹脂製の回転軸４を設ける
。回転軸４はその下に設けられた駆動用モータ６に結合
、固定される。加熱室１の底面２には３ケ所に凹部６を
設けここにステンマス製のシャフト７及び４ふっ化エチ
レン樹脂製のローラ８を入れる。３つのローラ８の上に
、結晶化ガラス製の円形の回転載置台９を載せる。この
回転載置台９の下面には凹所１ｏを設け、”−前記回転
軸４の凸部１１と嵌合させる３、穴３のすぐ横には導波
管１２を設け、その開口は結晶化ガラス製の開口カバー
１３で塞ぎ、周囲をシリコンゴムで固定する。導波管１
２の他端付近にはマグネトロン１４を取付ける。
１はほぼ直方体形状で、底面２には中央に穴３″ｔｈあ
け、これを貫通してシリコン樹脂製の回転軸４を設ける
。回転軸４はその下に設けられた駆動用モータ６に結合
、固定される。加熱室１の底面２には３ケ所に凹部６を
設けここにステンマス製のシャフト７及び４ふっ化エチ
レン樹脂製のローラ８を入れる。３つのローラ８の上に
、結晶化ガラス製の円形の回転載置台９を載せる。この
回転載置台９の下面には凹所１ｏを設け、”−前記回転
軸４の凸部１１と嵌合させる３、穴３のすぐ横には導波
管１２を設け、その開口は結晶化ガラス製の開口カバー
１３で塞ぎ、周囲をシリコンゴムで固定する。導波管１
２の他端付近にはマグネトロン１４を取付ける。
第２図において、アルミナイズド鋼板の薄板を溶接して
作られた導波管１２は、水平ブロック１６と垂直ブロッ
ク１６の二つからなる。水平フ゛ロック１６は２枚の板
を折曲げ、溶接して作られ、その断面形状において本実
施例では幅Ｃ＝ｓ・５（’ＩＩ。
作られた導波管１２は、水平ブロック１６と垂直ブロッ
ク１６の二つからなる。水平フ゛ロック１６は２枚の板
を折曲げ、溶接して作られ、その断面形状において本実
施例では幅Ｃ＝ｓ・５（’ＩＩ。
高さｈ ＝３ｃｌＩＩとしており、一端近傍に丸穴１７
があけられ、ここに前記のマグネトロン１４のアンテナ
１８が垂直に挿入され取付けられる。一方垂直ブロック
１６は１枚の板を折曲げ、溶接して作られ、その断面形
状において、幅ＩＬ＝３傷、長さｂ＝２Ｂ、６ｃｌｌで
ある。さらにこの垂直ブロック１６の底面の部分は、長
手方向に９・６３ずつ３等分され、中央の９．５ｃＩＲ
にわたる部分は開ロム１９を形成し、ここに前記水平ブ
ロック１６の開口Ｂ２ｏを一致させ、溶接により固定す
る。こうして第１図に示す一種の曲り導波管１２を形成
する。
があけられ、ここに前記のマグネトロン１４のアンテナ
１８が垂直に挿入され取付けられる。一方垂直ブロック
１６は１枚の板を折曲げ、溶接して作られ、その断面形
状において、幅ＩＬ＝３傷、長さｂ＝２Ｂ、６ｃｌｌで
ある。さらにこの垂直ブロック１６の底面の部分は、長
手方向に９・６３ずつ３等分され、中央の９．５ｃＩＲ
にわたる部分は開ロム１９を形成し、ここに前記水平ブ
ロック１６の開口Ｂ２ｏを一致させ、溶接により固定す
る。こうして第１図に示す一種の曲り導波管１２を形成
する。
第３図は加熱室１の底面２の概略平面図で、導波管１２
の一点鎖線で示す中心線と回転軸４の回転中心点Ｍｏと
は、幅９・６備の！−（２−３７５ｃＩＩＩ）の距離ｑ
だけずらした構成とする。以上で均一加熱性能の優れた
電子レンジが実現できる。
の一点鎖線で示す中心線と回転軸４の回転中心点Ｍｏと
は、幅９・６備の！−（２−３７５ｃＩＩＩ）の距離ｑ
だけずらした構成とする。以上で均一加熱性能の優れた
電子レンジが実現できる。
以下、その理論的説明を行なう。導波管１２の水平ブロ
ック１６は断面積の大きさが９．６４Ｘ３傷であり、３
ａ１１の辺と平行に発振周波数２．４５０融のマグネト
ロン１４のアンテナ１８が結合されているので良く知ら
れる様に’Ｔｌｒ：ｏ、、モードで励振される。垂直ブ
ロック１６は断面積の大きさが２８．６ＣＩＩＩ×３ｃ
ＩＩＩであり、底面の中央の開ロム１９に巾が１７３で
Ｔ Ｋｏ、、モードに励振された導波管１２の水平ブロ
ック１６の開口Ｂ２０が結合されているので、”０．５
モードが励振される。従って垂直ブロック１６の内部に
は第３図の矢印ムで示す電界が誘起される。
ック１６は断面積の大きさが９．６４Ｘ３傷であり、３
ａ１１の辺と平行に発振周波数２．４５０融のマグネト
ロン１４のアンテナ１８が結合されているので良く知ら
れる様に’Ｔｌｒ：ｏ、、モードで励振される。垂直ブ
ロック１６は断面積の大きさが２８．６ＣＩＩＩ×３ｃ
ＩＩＩであり、底面の中央の開ロム１９に巾が１７３で
Ｔ Ｋｏ、、モードに励振された導波管１２の水平ブロ
ック１６の開口Ｂ２０が結合されているので、”０．５
モードが励振される。従って垂直ブロック１６の内部に
は第３図の矢印ムで示す電界が誘起される。
一般に断面積幅ａａＩＩ×長さｂｃＩｌｉの矩形導波管
の遮断波長λ０は、 （ｍ、ｎは０または正の整数） で表わされ、２，４５０＆の波長が１２．２４ｃｍであ
るからこれを代入して、 （見）２＋（’−）２＜（−□）２ ・・・・・・？
）ａ ｂ ６．１２ が２．４５０１ｉが伝送される条件である。２Ｌ＝３゜
ｂ＝２８．５を代入するとｍ＝ｏ、ｎ＝１．２，３゜４
が条件を満たす。つまり本実施例の垂直ブロック１６は
ＴＥＯｏｌ・ＴＥ０１２・ＴＥ０１３・ＴＥ０１４の４
種類のモードが伝送可能であるが、底面の長さｂの−に
ある中心線上に幅Ｃの中心線上が電界最大となるＴＫＯ
，１モードの導波管１２の水平ブロック１６が結合され
ているので、中心線上の電界がＯであるＴＥＯ，２！
Ｔ Ｅｏ、４は励振し得ない。また長さ２ Ｂ−５／７
＋１の三等分点Ｒに対応する位置が、導波管１２の水平
ブロック１５の壁面Ｗであり、ここの電界は０であるか
ら導波管１２の垂直ブロック１６はＴＥｏ、６モードで
励振されると考えられる。これを確認するには、熱によ
り色の変化する負荷、例えば塩化コバルト水溶液に浸し
た濾紙を、導波管１２の垂直ブロック１６を塞ぐ位置に
置き、加熱すわば、第３図の矢印に対応した部分が変色
する。
の遮断波長λ０は、 （ｍ、ｎは０または正の整数） で表わされ、２，４５０＆の波長が１２．２４ｃｍであ
るからこれを代入して、 （見）２＋（’−）２＜（−□）２ ・・・・・・？
）ａ ｂ ６．１２ が２．４５０１ｉが伝送される条件である。２Ｌ＝３゜
ｂ＝２８．５を代入するとｍ＝ｏ、ｎ＝１．２，３゜４
が条件を満たす。つまり本実施例の垂直ブロック１６は
ＴＥＯｏｌ・ＴＥ０１２・ＴＥ０１３・ＴＥ０１４の４
種類のモードが伝送可能であるが、底面の長さｂの−に
ある中心線上に幅Ｃの中心線上が電界最大となるＴＫＯ
，１モードの導波管１２の水平ブロック１６が結合され
ているので、中心線上の電界がＯであるＴＥＯ，２！
Ｔ Ｅｏ、４は励振し得ない。また長さ２ Ｂ−５／７
＋１の三等分点Ｒに対応する位置が、導波管１２の水平
ブロック１５の壁面Ｗであり、ここの電界は０であるか
ら導波管１２の垂直ブロック１６はＴＥｏ、６モードで
励振されると考えられる。これを確認するには、熱によ
り色の変化する負荷、例えば塩化コバルト水溶液に浸し
た濾紙を、導波管１２の垂直ブロック１６を塞ぐ位置に
置き、加熱すわば、第３図の矢印に対応した部分が変色
する。
１９の中心点を原点Ｍ１とした平面座標である。長さ２
８．５ ａｎの方向をｙ軸２幅３αの方向をＸ軸とし、
回転軸の回転中心点ＭＯの座標上の位置ｅ（ｐ。
８．５ ａｎの方向をｙ軸２幅３αの方向をＸ軸とし、
回転軸の回転中心点ＭＯの座標上の位置ｅ（ｐ。
ｑ）とする。この点ＭＯを中心に半径ｒの円を描く。
導波管１２の垂直ブロック１６がＴＥｏ、ｎモードで励
振されているとすると、ｙ軸上の電界強度ＥはＸ ＝
Ｅ（、Ｃ０５ｂｙ ・・−・・・（３）
ＥｏはＸ軸上の電界強度、ｂは導波管１２のｙ軸方向の
長さく ｂ ＝２ ｓ、ｓｚ ）である。
振されているとすると、ｙ軸上の電界強度ＥはＸ ＝
Ｅ（、Ｃ０５ｂｙ ・・−・・・（３）
ＥｏはＸ軸上の電界強度、ｂは導波管１２のｙ軸方向の
長さく ｂ ＝２ ｓ、ｓｚ ）である。
で表わされる。半径ｒは
ｒ＝、／”マ］Ｔ＝Ｔ下 ・・・・・・（４）と
なる。これヲ（３）に代入すると Ｅ＝ＥＯｃｏｓ （ｒ”−ｐ’＋ｑ ） −＝−（
，６）半径ｒの円はｙ軸との交点を２つ持つがら各々交
点ｙ１．ｙ２とすると両者の間には ｙｌ−２ｑ−ｙ２ ・旧・・（６）
の関係がある。今、幅ａの寸法が十分小さいとして半径
ｒの円周上の各点が回転載置台９が一回転する間に受け
る電力をＰとすると、電力は電界の２乗に比例し、交点
７１１７２の２個所で加熱を受けるので ・・・・・・（７） となる。これを簡略化すると 従って ｑ＝±ｉ ・・・・・・（９）
ならば Ｐ■ｉ〒 ・・・・・・（１
０）となる。
なる。これヲ（３）に代入すると Ｅ＝ＥＯｃｏｓ （ｒ”−ｐ’＋ｑ ） −＝−（
，６）半径ｒの円はｙ軸との交点を２つ持つがら各々交
点ｙ１．ｙ２とすると両者の間には ｙｌ−２ｑ−ｙ２ ・旧・・（６）
の関係がある。今、幅ａの寸法が十分小さいとして半径
ｒの円周上の各点が回転載置台９が一回転する間に受け
る電力をＰとすると、電力は電界の２乗に比例し、交点
７１１７２の２個所で加熱を受けるので ・・・・・・（７） となる。これを簡略化すると 従って ｑ＝±ｉ ・・・・・・（９）
ならば Ｐ■ｉ〒 ・・・・・・（１
０）となる。
上式より半径ｒが小さい程、つまり回転載置台９上の中
央部が強く加熱され、半径ｒが犬きくなると、つまり周
辺部は半径ｒに反比例した加熱を受ける。。望まれてい
た中央がより強い加熱が得られたわけである。
央部が強く加熱され、半径ｒが犬きくなると、つまり周
辺部は半径ｒに反比例した加熱を受ける。。望まれてい
た中央がより強い加熱が得られたわけである。
前述した様に、空胴共振器内部であれば、仮ジに計算上
、無負荷の時に強い電界が得られても、負荷が入ればそ
の位置の電界が強いとは限らない。
、無負荷の時に強い電界が得られても、負荷が入ればそ
の位置の電界が強いとは限らない。
その点、導波管１２内の電界は、少なくとも開口Ａ１９
゛までは計算通りの電界分布を有している。
゛までは計算通りの電界分布を有している。
前述の濾紙の例で明らかであろう。勿論、導波管１２の
内部に任意の負荷を挿入すれば、電界分布は乱れること
は言うまでもない。このように不実施例は計算通りの電
界分布を有している導波管１２の開口Ａ１９のすぐ真上
に負荷を置くことにより、加熱分布を計算し得たもので
ある。
内部に任意の負荷を挿入すれば、電界分布は乱れること
は言うまでもない。このように不実施例は計算通りの電
界分布を有している導波管１２の開口Ａ１９のすぐ真上
に負荷を置くことにより、加熱分布を計算し得たもので
ある。
開ロム１９から負荷までの距離が大きくなる程、計算結
果とは異なった加熱が得られる。捷た開口カバー１３や
、回転載置台９の高周波損失が大きい程、計算結果から
はずれることは明らかである。
果とは異なった加熱が得られる。捷た開口カバー１３や
、回転載置台９の高周波損失が大きい程、計算結果から
はずれることは明らかである。
なお上記実施例において回転軸４の上の部分は全く加熱
を受けないが実調理とのかねあいで、いかに小さくする
かは設計上の問題である。また本実施例ではＴ ＩＣ０
，５モードを用いたが、ＴＥｇ、ｎ（ｎは正の整数）モ
ードであれば同様の結果が得られる０ 以上のように、本発明によれば、うすい半回状の負荷に
対しても、また大きな塊状の負荷に対しても中央部の強
い加熱分布が得られ、従来にない均一加熱が可能である
高周波加熱装置を提供することができる。
を受けないが実調理とのかねあいで、いかに小さくする
かは設計上の問題である。また本実施例ではＴ ＩＣ０
，５モードを用いたが、ＴＥｇ、ｎ（ｎは正の整数）モ
ードであれば同様の結果が得られる０ 以上のように、本発明によれば、うすい半回状の負荷に
対しても、また大きな塊状の負荷に対しても中央部の強
い加熱分布が得られ、従来にない均一加熱が可能である
高周波加熱装置を提供することができる。
第１図は不発明による高周波加熱装置の要部側面断面図
、第２図は同装置の導波管の外観分解斜視図、第３図は
同装置の底面部の概略平面図、第４図は同装置の要部作
用説明図である。 １・・・・・・加熱室、２・・・・・・底面、４・・・
・・・回転軸、９；・・・・・回転載置台、１２・・・
・・・導波管、１４・・・・・・マグネトロン、１５・
・・・・・水平ブロック、１６・・・・・・垂直ブロッ
ク、１９．２０・・・・・・開口。 代理人の氏名 弁理士 中 庸 敏 男 ほか１名第１
図 ／／ 第２図 第３図 第４図
、第２図は同装置の導波管の外観分解斜視図、第３図は
同装置の底面部の概略平面図、第４図は同装置の要部作
用説明図である。 １・・・・・・加熱室、２・・・・・・底面、４・・・
・・・回転軸、９；・・・・・回転載置台、１２・・・
・・・導波管、１４・・・・・・マグネトロン、１５・
・・・・・水平ブロック、１６・・・・・・垂直ブロッ
ク、１９．２０・・・・・・開口。 代理人の氏名 弁理士 中 庸 敏 男 ほか１名第１
図 ／／ 第２図 第３図 第４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 食品を収納する加熱室と、前記加熱室の底面部に置かれ
かつ回転する回転載置台と、前記回転載置台の下方でか
つ前記底面外に設けられたｎｌ正の整数としたときＴＩ
ｃｏ、ｎモードに励振される導波管と、前記導波管を介
して前記加熱室の内部へ高周波を給電する高周波発振器
とを備え、前記回転載置台の回転の中心は前記導波管の
前記底面との結合部に設けられた開口の中心から前記導
波管の長さｂ方向におよそ上の距離だけ離れたかつ長
ｎ さ方向に直交する直線上に位置する構成とした高周波加
熱装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56213466A JPS58112298A (ja) | 1981-12-25 | 1981-12-25 | 高周波加熱装置 |
| US06/451,781 US4501944A (en) | 1981-12-25 | 1982-12-21 | Turntable type high-frequency heating apparatus |
| CA000418244A CA1194558A (en) | 1981-12-25 | 1982-12-21 | High-frequency heating apparatus |
| AU91727/82A AU535993B2 (en) | 1981-12-25 | 1982-12-21 | High frequency heating apparatus |
| EP82307032A EP0084272B1 (en) | 1981-12-25 | 1982-12-22 | High-frequency heating apparatus |
| DE8282307032T DE3276784D1 (en) | 1981-12-25 | 1982-12-22 | High-frequency heating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56213466A JPS58112298A (ja) | 1981-12-25 | 1981-12-25 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58112298A true JPS58112298A (ja) | 1983-07-04 |
| JPS6148236B2 JPS6148236B2 (ja) | 1986-10-23 |
Family
ID=16639667
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56213466A Granted JPS58112298A (ja) | 1981-12-25 | 1981-12-25 | 高周波加熱装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4501944A (ja) |
| EP (1) | EP0084272B1 (ja) |
| JP (1) | JPS58112298A (ja) |
| AU (1) | AU535993B2 (ja) |
| CA (1) | CA1194558A (ja) |
| DE (1) | DE3276784D1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60264092A (ja) * | 1984-06-11 | 1985-12-27 | 松下電器産業株式会社 | 高周波加熱装置 |
| US5451751A (en) * | 1992-01-23 | 1995-09-19 | Kabushiki Kaisha Toshiba | High-frequency heating apparatus with wave guide switching means and selective power switching means for magnetron |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4971773A (en) * | 1983-11-21 | 1990-11-20 | Board Of Regents Of The University Of Oklahoma | Apparatus for sterilizing contact lenses |
| GB2201070A (en) * | 1987-01-13 | 1988-08-17 | Christopher John Cobham Smail | Microwave cooking |
| FR2659518B1 (fr) * | 1990-03-07 | 1992-06-12 | Microondes Syst Sa | Dispositif applicateur d'ondes hyperfrequences pour le traitement de produits en feuille ou en nappe. |
| US5534679A (en) * | 1994-05-20 | 1996-07-09 | Quadlux, Inc. | Apparatus for automated food handling |
| US5990454A (en) * | 1997-09-23 | 1999-11-23 | Quadlux, Inc. | Lightwave oven and method of cooking therewith having multiple cook modes and sequential lamp operation |
| US5958271A (en) * | 1997-09-23 | 1999-09-28 | Quadlux, Inc. | Lightwave oven and method of cooking therewith with cookware reflectivity compensation |
| US6013900A (en) * | 1997-09-23 | 2000-01-11 | Quadlux, Inc. | High efficiency lightwave oven |
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