JPS59101791A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JPS59101791A JPS59101791A JP21077482A JP21077482A JPS59101791A JP S59101791 A JPS59101791 A JP S59101791A JP 21077482 A JP21077482 A JP 21077482A JP 21077482 A JP21077482 A JP 21077482A JP S59101791 A JPS59101791 A JP S59101791A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating chamber
- waveguide
- frequency
- coupling holes
- heating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高周波電磁波の誘電加熱により食品を加熱する
電子レンジに関するものである。
電子レンジに関するものである。
従来例の構成とその問題点
従来から加熱室内の加熱分布を均一にする手段として加
熱室内の高周波電磁波の電界を攪拌するスタラ一方式や
食品を乗せる台を回転させるターンテーブル方式や高周
波電磁波の放射源であるアンテナを回転させる回転アン
テナ方式など数多くある、また加熱室内を励振する方法
は２種類はとしかない。すなわち高周波域振器であるマ
グネトロンを加熱室に直接取り付ける方法で代表される
ダイホールアンテナで励振する方法と導波管と加熱室を
結合孔で励振できる方法である。ダイホールアンテナに
よる方法は電界の励振方向でも比較的単純であるので加
熱室内の定在波モードの解析が比較的簡単であるがダイ
ポールアンテナが加熱室内へ突き出す構造であるので加
熱室の有効容積が少なくなってしまう。他方導波管の結
合孔による加熱室の励振は加熱室内への突出しはないが
結合孔の形状により大きく励振電界が異なる為非常に解
析が困難で結合孔の形状や位置については試行錯誤的実
験に負う所が大きく設計するにおいて時間と費用が多く
かかるとともに加熱の均一化が不十分であった。
熱室内の高周波電磁波の電界を攪拌するスタラ一方式や
食品を乗せる台を回転させるターンテーブル方式や高周
波電磁波の放射源であるアンテナを回転させる回転アン
テナ方式など数多くある、また加熱室内を励振する方法
は２種類はとしかない。すなわち高周波域振器であるマ
グネトロンを加熱室に直接取り付ける方法で代表される
ダイホールアンテナで励振する方法と導波管と加熱室を
結合孔で励振できる方法である。ダイホールアンテナに
よる方法は電界の励振方向でも比較的単純であるので加
熱室内の定在波モードの解析が比較的簡単であるがダイ
ポールアンテナが加熱室内へ突き出す構造であるので加
熱室の有効容積が少なくなってしまう。他方導波管の結
合孔による加熱室の励振は加熱室内への突出しはないが
結合孔の形状により大きく励振電界が異なる為非常に解
析が困難で結合孔の形状や位置については試行錯誤的実
験に負う所が大きく設計するにおいて時間と費用が多く
かかるとともに加熱の均一化が不十分であった。
発明の目的
本発明の目的は加熱室内を励振する結合孔を２側設ｉお
互いの結合孔の位相を調藤することにより加熱室内に所
望の定在波モードを励振させて加熱室内の分布の均一化
の設は時間を短縮することである。
互いの結合孔の位相を調藤することにより加熱室内に所
望の定在波モードを励振させて加熱室内の分布の均一化
の設は時間を短縮することである。
発明の構成
本発明の高周波加熱装置は加熱室内に奇数個の電界の強
い点を持つ定在波モードを励振しないで偶数数個の電界
の強い点を持つ定在波モードを安定して励振することに
よ’Ｌ負負荷中央部を強く加熱することができる。した
がって通常電波が負荷の周囲から照射し負荷の周囲が強
く加熱される傾向を防ぐことができる。
い点を持つ定在波モードを励振しないで偶数数個の電界
の強い点を持つ定在波モードを安定して励振することに
よ’Ｌ負負荷中央部を強く加熱することができる。した
がって通常電波が負荷の周囲から照射し負荷の周囲が強
く加熱される傾向を防ぐことができる。
実施例の説明
本発明を家庭用電子レンジに応用した例を図面に基づき
説明する。
説明する。
第１図は実施例である電子レンジの断面図である。
第１図において、高周波発振器であるマグネトロ□ン１
からの高周波電磁波は導波管２を通シ結合孔３、−を通
じて加熱室６に入る。
からの高周波電磁波は導波管２を通シ結合孔３、−を通
じて加熱室６に入る。
加熱室６内には下記２式を用いて偶数個の電界の強い点
を持つ定在ｎモードが励、振できる寸法に設計している
。
を持つ定在ｎモードが励、振できる寸法に設計している
。
ここでλは高周波電磁波の波長
ａ、ｂ、（は直方体状の加熱室の縦、横、高さの寸法
ｍ 、 ｎ 、 ｐは直方体状の加、熱室の竺、横、高
さに発生する電界の山の数で整１数 。
さに発生する電界の山の数で整１数 。
加熱室の上部か下部でこの定在波モードを励振する場合
、ｍ 、 ｎ 、 ｐの数のうちｍＪ−ｎが重要な数に
なってくる。さらに加熱室５の寸法によっては他のｍ’
、 ｎ’ 、 ｐ’の数の時と前記の式を満足する場
合があり、ｍ 、 ｎ 、 ｐの電界の山をもっ定在波
モードとｍ’、 ｎ’、 ｐ’（Ｄ電界の山をもっ定在
波モードが混在する場合もある。この場合はもとのｍ。
、ｍ 、 ｎ 、 ｐの数のうちｍＪ−ｎが重要な数に
なってくる。さらに加熱室５の寸法によっては他のｍ’
、 ｎ’ 、 ｐ’の数の時と前記の式を満足する場
合があり、ｍ 、 ｎ 、 ｐの電界の山をもっ定在波
モードとｍ’、 ｎ’、 ｐ’（Ｄ電界の山をもっ定在
波モードが混在する場合もある。この場合はもとのｍ。
ｎ、ｐの定在波モードとは全く質の異なったモードにな
ってしまう。
ってしまう。
したがって単一のｍ 、 ｎ 、 ｐモードのみ励振す
る為の２つの結合孔の位置や、お互いの励振する位相か
大変重要である。
る為の２つの結合孔の位置や、お互いの励振する位相か
大変重要である。
ｍ 、 ｎ両者が奇数の場合は比較的簡単で加熱室の上
面か下面の略中夫に結合孔を設ければよい。しかしｍ
、 ｎの一方が偶数であれば、少し困難になるというの
は加熱室の上面か下面において、ｍ。
面か下面の略中夫に結合孔を設ければよい。しかしｍ
、 ｎの一方が偶数であれば、少し困難になるというの
は加熱室の上面か下面において、ｍ。
ｎモードの電界最大点に結合孔を配置すると、もちろん
所定のｍ 、 ｎモードは励振されるがしかし他のｍ’
、ｎ’が両者奇数の場合の定在波モードも励振されてし
まう。したがってｍ 、ｎモードとｍ’、ｎ’モードが
混在することになってしまう。
所定のｍ 、 ｎモードは励振されるがしかし他のｍ’
、ｎ’が両者奇数の場合の定在波モードも励振されてし
まう。したがってｍ 、ｎモードとｍ’、ｎ’モードが
混在することになってしまう。
そこで本実施例は加熱室６と導波管２の結合孔３゜４の
位置と励振位相をｍ 、 ｎモードに一致させることに
より、所定のｍ 、 ｎモードを安定して発生させるこ
とができる。
位置と励振位相をｍ 、 ｎモードに一致させることに
より、所定のｍ 、 ｎモードを安定して発生させるこ
とができる。
結合孔３，４の励振位相は導波管２の幅やお互いの結合
孔３，４間の距離によって決定される。
孔３，４間の距離によって決定される。
したがって加熱室５内の定在波モードの位相とは全く異
なってしまう。そこで結合孔３，４間の導波管２に、窓
やポスト８を設けることによシ加熱室６の定在波モード
の位相と結合孔３，４の励振位相を一致させることがで
きるのである。
なってしまう。そこで結合孔３，４間の導波管２に、窓
やポスト８を設けることによシ加熱室６の定在波モード
の位相と結合孔３，４の励振位相を一致させることがで
きるのである。
９は導波管２内と加熱室６内の電界を示す電気力線であ
る。
る。
第２図は第１図のＡ−Ａ線における断面図である。第２
図において、導波管２内の電界方向を加熱室５内の定在
波モードを一致させる為に結合孔３．４に電波の進行方
向と同一方向に短絡板６゜７を設けている。
図において、導波管２内の電界方向を加熱室５内の定在
波モードを一致させる為に結合孔３．４に電波の進行方
向と同一方向に短絡板６゜７を設けている。
発明の効果
以上のように本発明によれば、次の効果を得ることがで
きる。
きる。
（１）偶数の電界の強い点を持つ定在波モードを加熱室
内に安定して発生することができるので負荷の大小にか
かわらず、通常弱く加熱される負荷の中央部が強く加熱
される。
内に安定して発生することができるので負荷の大小にか
かわらず、通常弱く加熱される負荷の中央部が強く加熱
される。
＠） ２つの加熱室の結合孔の大きさを調整することに
よシ左右の加熱バランスをとることができる。
よシ左右の加熱バランスをとることができる。
（３）２つの結合孔間にインピーダンス調整装置がつい
ているので加熱室の大きさや、導波管の幅にとられれる
ことなく設計できる。
ているので加熱室の大きさや、導波管の幅にとられれる
ことなく設計できる。
第１図は本発明の一実施例を示す高周波加熱装置の正面
断面図、第２図は第１図のＡ−Ａ線における断面図であ
る。 ２・・・・・・導波管、３，４・・・・・・結合孔、５
・・・・・・加熱室、６，７・・・・・・短絡板、８・
・・・・・ポスト。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１基筒
１ 図 第２図
断面図、第２図は第１図のＡ−Ａ線における断面図であ
る。 ２・・・・・・導波管、３，４・・・・・・結合孔、５
・・・・・・加熱室、６，７・・・・・・短絡板、８・
・・・・・ポスト。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１基筒
１ 図 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １１）本体内に高周波電磁波を発生する高周波発振器と
、波加熱物を収納する加熱室と、前記高周波、発振器の
高周波電磁波を前記加熱室に導く導波管とを備え、前記
導波管と前記加熱室の結合孔を複数個設けるとともに前
記結合孔の間の導波管内に位相調整装置を設けてなる高
周波加熱装置。 に））複数の結合孔を加熱室に対して略対称の位置に設
けた特許請求の範囲第１項記載、の高周波加熱装置。 （３）複数の結合孔に導波管の高周波電磁波の進行方向
に短絡板を設けた特許請求の範囲第１項記載の高周波加
熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21077482A JPS59101791A (ja) | 1982-12-01 | 1982-12-01 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21077482A JPS59101791A (ja) | 1982-12-01 | 1982-12-01 | 高周波加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59101791A true JPS59101791A (ja) | 1984-06-12 |
Family
ID=16594915
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21077482A Pending JPS59101791A (ja) | 1982-12-01 | 1982-12-01 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59101791A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104186024A (zh) * | 2011-12-19 | 2014-12-03 | 松下电器产业株式会社 | 微波加热装置 |
-
1982
- 1982-12-01 JP JP21077482A patent/JPS59101791A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104186024A (zh) * | 2011-12-19 | 2014-12-03 | 松下电器产业株式会社 | 微波加热装置 |
| JPWO2013094175A1 (ja) * | 2011-12-19 | 2015-04-27 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | マイクロ波加熱装置 |
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