JPS58104043A - 金属基体に使用されるガラスセラミツクとその製造方法 - Google Patents

金属基体に使用されるガラスセラミツクとその製造方法

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JPS58104043A
JPS58104043A JP57205378A JP20537882A JPS58104043A JP S58104043 A JPS58104043 A JP S58104043A JP 57205378 A JP57205378 A JP 57205378A JP 20537882 A JP20537882 A JP 20537882A JP S58104043 A JPS58104043 A JP S58104043A
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JP
Japan
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coating
glass
temperature
substrate
cao
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JP57205378A
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English (en)
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ケネス・チヤング
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Corning Glass Works
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Corning Glass Works
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23DENAMELLING OF, OR APPLYING A VITREOUS LAYER TO, METALS
    • C23D5/00Coating with enamels or vitreous layers
    • C23D5/02Coating with enamels or vitreous layers by wet methods
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C10/00Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
    • C03C10/0054Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing PbO, SnO2, B2O3
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/05Insulated conductive substrates, e.g. insulated metal substrate
    • H05K1/053Insulated conductive substrates, e.g. insulated metal substrate the metal substrate being covered by an inorganic insulating layer

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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ガラスセラミックコーティングとその製造方
法に関す・る。
本件発明と同一人の出願に係り本件出願と同一の発明の
名称から成る特許出願には、電子回路板の開発について
説明している。すなわち、該特許出願にも説明している
ように、回路板は、誘電体が被覆された基体から成り、
その誘電体の表面に所望の導電性金属から成る回路が形
成される。そのような基体ないしは回路板は、一般に3
種類の材料、すなわち、有機プラスチック、セラミック
ウェファ−1および磁器材料が被覆された鋼から製され
るのが一般的であった。。本件発明と同一人の出願に係
る上記特許出願には、それらの材料のそれぞれの欠点に
ついての説明がなされている。
上記特許出願は、更に、米国特許第4,256゜796
号による開示について概説している。この米国特許は、
磁器材料が被覆された金属から成る回路板に関し、該「
磁器材料」は、実質的にアルカリ金属酸化物を含まず、
酸化物を基準にしたモルパーセントで次の組成から本質
的に成る失透化(devitrified )ガラスで
ある: Ba0   6〜25 Mg0+任意成分として CaOおよび(または)ZnO30〜608203  
 13〜35 Sin2  10〜25 モルパーセントで表わされた範囲を重量パーセントで表
わされる範囲に直接変換することはできないが、上述の
組成を重量パーセントで概算(該特許に例示されている
組成も参照する)すると次のようになる。
Bad”’  16〜50 Mg0  16〜42 CaOO−11 ZnOo〜11 CaO−1−ZnOO〜11 BzOs    12〜34 SiO2lo〜23 ZrOg     □〜5 Al2O20〜5 SnO*      O〜5 ZrO2+Al 203 + 5nu2Q 〜5該米国
特許には、上述の組成のバッチを溶融し、該溶融物から
ガラスフリットを形成し、金輌基体(最も好ましいのは
低炭素鋼)の表面に前記クラスフリットのコーティング
を施し、次いで、コーティングが施された基体を少な(
とも750℃、好ましくは800’〜850℃の温度に
充分な時間煉焼して、フリットをほぼ同時に互いに焼結
させて一体的な物質となし且つ千の場に結晶を生じさせ
る(煉焼時間は一般〕←、5〜30分の範囲である)こ
とが記載されている。得られるコーテ−インクは、結晶
度が高く(すなわち、約50〜90体積−が結晶である
)、残部がガラス相となっている。主要結晶相は、Ba
O・2MO・2sichであり、ここで、MOはMgO
から成り、任意成分としてCaOおよび(または) Z
nOを含む。
2M0−8203が第二の結晶相を構成し、ここで、M
Oは、やはりMgOから成り、任意成分としてCaOお
よび(または) ZnOを含む。得られるコーティング
は、高い熱膨張係数を有し、0℃から熱変形温度()7
00℃)の範囲に亘り、110 X 10−’/’Cま
たはそれ以上である。そのように熱膨張係数が高いこと
は、金属基体(好ましくは低炭素鋼)が熱膨張係数が高
いことに適合するので有益である。
本発明と同一人の出願に係る上述の特許出願には、金属
基体に施されることができるガラスセラミックコーティ
ングであって、米国% 許第4.256.796号のコ
ーティングよりも耐熱性が高(、熱膨張係数(25°〜
600℃)が約80〜125 X 10−’/’Cの範
囲に存するガラスセラミックコーティングが開示されて
いる。咳コーティングは、本質的にアルカリ金属酸化物
を含まず、酸化物を基準にした重量パーセントで表わし
て、 MgOs〜35 Ca0   0〜35 Zn0   0〜15 CaO+Zn0   10〜35 AI 203   0〜10 IhOs    O〜25 Si(h   25〜50 P20!I    0%−10 B203−1−P20s    4〜25から本質的に
成る。このコーティングは、米国特許第4,256,7
96号に記載された方法と類似の方法で調製される。但
し、少なくとも850℃の温度下に焼結と結晶化を組合
せた工程が行なわれる。形成される結晶相は、CaOお
よび(または) ZnOの存在に依存する。
ジオプサイド(CaO@MgO・28i0意) 、ホウ
酸マグネシウA (2Mg0@B*Os )、ウィレマ
イト(2ZnO@5iOz )、アケルマナイト(2C
aO−MgOe2SiOs )オヨヒxンxfifiイ
) (MgO@Si(h)等の相の存在が認められる。
該コーティングは、変形その他の悪影響を受けることな
く、1000℃までの温度あるいは1000℃を超える
温度にまで骸焼されることができる。
本発明は、熱変形を受けることなく950℃よりも高温
に反覆して燻焼されることができ、約75〜150X1
0−7/’Cの熱膨張係:e(25°〜600°C)を
有するガラスセラミックコーティングであって、金属基
体上に使用されるのに好適で、アルカリ金属酸化物を本
質的に含まず、BaO−MgO−BzOs −8iOz
系に属し、A120a、CaOおよびZnOから成る群
より選ばれる少なくとも1種の金属酸化物を有するガラ
スセラミック」−ティングの製造に関する。すなわち、
本廠明のコーティングは、アルカリ金属酸化物i:、、
本質的に含まず、散化物を基準にした重量ノ(−セント
で表わして次の組成から本質的に成る: BaO10〜60 B203     5〜30 Sing     25〜40 Altos      O〜 15 Ca0    0〜15 Mg0   10〜35 Zn0     0〜16 A1203+CaO+Zn0     5〜20最終的
に得られるコーティング中に存在する結晶相の特徴は、
組成中の任意成分との金属酸化物の種類および量に支配
される0例えば、かなりの量のA420gが存在し他の
任意成分が存在しないか極めて少量しか含まれていない
ときには、六方セルシアン(BaO・AjgOs・2S
iOi )が主要結晶相として形成される。これに対し
て、MgOが主成分となり他の任意成分としての金属−
化物が存在しないか極く少量しか存在していない場合に
は、BaO・2Mg0・28i02が主要結晶相となる
。組成物の好ましい範囲は、 Ba0  10〜40 B203   6〜15 8i0z     25〜38 Mg0   10〜30 CaOO〜15 Zn0     0〜16 Al霊0魯     0〜10 CaO+ZnO+A1gon      5〜18から
成る。
上記の組成から得られるコーティングは、主要結晶相と
してBaO・2Mg0・28i02を含有し、変形その
他の悪影響を受けることなく950℃を超える温度に燻
焼されることができ、約120〜140 X 10−’
 /’Cの熱膨張係数(25°〜600°C)を有する
。このような熱膨張係数を有することによって、該コー
ティングは、低炭素鋼、例えば、Vitrenamel
(米国ペアVA/バニア州°PittsburghのU
、S。
5tee1社により販売)、および、チタン安定化鋼、
例えば、Ti −Namel (米国イリノイ州Chi
cagOのIn1and 8tee1社により販売)ヤ
チタン安定化430ステンレス鋼(米国ペンシルバニア
州ReadingのCarpenter Techno
logy社により販売)などの熱膨張係数(25°〜6
00℃)が約140〜15°0×10−1/℃の材料に
使用されると特に有用となる。
本発明のコーティングを調製し塗着する方法は、次の5
つの基本的な工程から成る:第1の工程として、所定の
組成のガラス形成用パッチが溶融される。
第2の工程として、溶融物が冷却されてガラスが形成゛
され、該ガラスが微細な粉末な(・しはフリットに粉砕
される。
第3の工程として、前記フリットの液体スラリか調製さ
れる。
第4の工程として、基体の表面上に前記スラリかコーテ
ィングとして施される。次−・で、第5の工程として、
コーティングが施された基体が少なくとも850℃の温
度に煉焼されて、フリット粒子をほぼ同時に互いに融着
させて一体的な実質的に非孔質の(ピンホールのない)
コーティングとし且つ多量の結晶化を起こさせる。
通常、焼結中にガラスが充分な流動性を有して本質的に
非孔質のコーティングを形成させ且つ多音の結晶を発生
させるためには、米国規格の雇325の篩(44ミクロ
ン)を通過するような粒子にガラスフリットを粉砕する
のが好ましい。より好ましくは、該粒子は直径が5〜2
0ミクロンの範囲の大きさを有するようにする。ガラス
を粉砕して微細なフリットにすることを促進させるため
には、溶融ガラスの流れを水のプールに流し込んで比較
的小粒子に分解するとよい。しかる後、そのような粒子
を更に粉砕して所望の微細粒子を得る。
水性スラリを調製してもよいが、特定の塗着方法につい
ては有機液体のベクヒルを用いることか好ましい。多く
の場合、有機ベヒクルは水よりも迅速に蒸発するので、
乾燥およびそれに続く融着工程を速くすることにな奎。
更ニ、有機ビヒクルの方が水よりも、広範囲のフリット
組成物について一層良好な非孔質コーティングを生じる
ようである。
基体にスラリを塗着するための多くの手法は車紋分野に
おいて良く知られている。例えば、スラリな単に基体上
に流し込む手法、スラリ中に基体を浸漬する手法、基体
の表面上にスラリを噴霧する方法、あるいは、電気泳動
塗着によって基体にスラリを施す手法がある。後の2つ
の手法が、一般により均一なコーティングを与える点か
ら好ましい。粒子およびベヒクルの操作濃度は、スラリ
を塗着するために採用した方法に依存し、実験によって
簡単に決定される。例えば、比較的揮発性の有機ベヒク
ル(例えば、2−プロパツール)を用いてスプレー被蝋
用のスラリを調製する場合には、液−の濃度は、約70
〜90 ml/l/粒子100イ&イ41持る。ベヒク
ルの量が多すぎると、塗着されたコーティングが流れ謳
くなる。反対に、液体の1が少なすぎると、ベヒクルの
迅速な蒸発により、残存する液体の量が不充分となり、
塗着されたコーティングが弱くなる。燻焼工程中の流動
は極めて制限されており塗着中の欠点は焼結後に現われ
るので、極めて均一で高密度の塗着コーティングを得る
ことは重要である。
塗着されたコーティングの燻焼は、少なくとも約850
℃の温度において、ガラス粒子が本質的に同時に融着し
て一体的な実質的に非孔質のコーティングとなり且つそ
の中に多量の結晶化が起こるような充分な時間に亘り実
施される。一般的には、過剰な流動を起こすことなく粒
子を融着させるには、烟焼時の最高温度は約1000℃
である。燗焼時間は、上限温度における数分間から下限
温度における約−15分の範囲に存するのが通常である
−着時間をこれ以上長くして操作することもできるが、
燗焼工程を長くすることに伴なう費用の増加を償う程に
最蔚製品の特性を実質的に向上させることはないようで
ある。
本発明の材料は、焼結工程中の雰囲気によって影畳な受
けないが、基体となる材料(例えば、低炭素鋼)が酸化
を受けることを防止するために不活性または還元性雰囲
気の使用を必要とすることがある。また、基体上に金楓
性の銅および(または)ニッケルから成る被蝋を施して
おくと、酸化を防止し且つ本発明のコーティングの結合
を促進するので有益である。しかしながら、そのような
条件が必要か否かも実験によって容易に決定することが
できる。
コーティングの熱膨張係数および(または)耐火性が実
質的に変化しない限りは、8i0、Zr0z 、Pb0
%よびBizOsのごとき適合性を有する金楓酸化物の
少量を含有させてもよい。
そのような添加物は、一般に、約10−を超えない。従
来から用いられているガラス着色剤を通常量で添加させ
ることもできる。
以下、本1発明の好ましい実施例について説明する。
表1には、本発明で用いられるガラス組成物の例が酸化
物を基準にした重量部で示されている。各成分の合計は
100または100に近くなっているので、表中に示す
値は実際には重量パーセントを表わしているものと考え
てよい。実際のバッチ成分は、酸化物その他の化合物か
ら成り、他の成分と共に溶融されたときに、適当な割合
の所望の酸化物に転化する。
バッチ成分は、均一な溶融物が得られるように互いに混
練されボールミル操作に供され、白金ルツボに導入され
る。核ルツボは、約1350°〜1450℃で操作され
ている炉に移され、バッチは約4〜6時間溶融される。
(揮発によるB2O3の損失は、約10″%までと考え
られた。)溶融物を清澄な液体として水を含有している
容器に入れて、比較的細かいガ・:′・111゛ ラス粒子を形成させる。゛ソ□の後、該粒子を乾燥させ
、ボールミル操作に供して325メツシユの篩を通過す
るようにする。
へ1 屑 鱈 −“ 1 メ j 〜1 函 鱈 6 ° ! メ 謬 ゛: 澗 王 = “ ゴ 大 t/J    1−LJ    −愕   リ   N
   ≧上記の組成物が所望のコーティングを得るのに
適しているか否かを大略評価するための簡単なテストを
行なった。このテスト法の実施するために、325メツ
シユの篩を通過するように粉砕されたガラスフリットか
ら少量のベヒクルを用いて、直径約0.5’で高さ約0
.5′の円形ボタンを圧縮成形した。該ボタンを約90
0°〜950℃で操作されている炉に導入して、該炉中
で25分間保持した。焼結されたボタンを視覚観察する
ことによって、流動性、結晶化度、結晶の大きさ、およ
び表面の性質を評価することができる。流動性が良好で
結晶化度の大きい組成物をX線回折分析に供して存在す
る結晶相を同定し、また、約2’X Q、5’X O,
2−5’の形状を有するように焼結後圧綿成形した棒状
物について熱膨張係数を測定・した。
ボタンによって示される流動性の定性的な評価として、
流動性が大きくなるに従って1〜50等級に分類した。
すなわち1.1は焼結のみが起こり流動が生じないもの
、2は極めて僅かの流動が生じながら僅かに縁部が丸く
なったもの、3は縁部が丸く5なり良好な流動が認めら
れたもの、4はボタンが完全に丸くなったもの、すなわ
ち、流動性が高いもの、5は流動性が極めて高くパドル
状を呈していたものをそれぞれ表わす。経験によると、
本質的に「ピンホールの無い」コーティングを得るため
には、少なくとも等級3で示される流動性が必要である
ことがわかった。幾つかの組成、物においては、等級2
で表わされる流動性は、煉焼温度を、高くすることによ
って向上させられる。ガラスは極めて迅速に結晶化する
傾向があるので、溶焼時間を長くしても流動性は大きく
ならないのが一般的である。
すなわち、ある与えられた温度における流動は1、主と
して、結晶化の前に起こる。
表2には、上述のボタンテスト中に生じた流動性の視覚
評価、電子顕微鏡で調べたときの存在する結晶量の定−
性評価(結晶化度が高いとは50体体積上超えていると
考えられるものを示す)および結晶の平均直径(結晶の
大きさが、細かいとは5ミクロンより小さいもの、中と
は5〜10ミ身ロンを示す)、X線回折分析によって同
定された結晶相の種類、および、ガラスセラミックの分
野において従来より行なわれている手法に従い圧縮成形
され煉焼された棒状物について測定された25゜〜60
0℃における熱膨張係数(X 10−’ 7℃)が示さ
れている。
1゜ * q=ニガラス BMsSz = BzOs・2Mg0・28i0zMS
=MgO・Sing VS=X線回折パターンに 非常に強いピークが存する i3 =     // 強いピークが存する M =     // 中程度のピークが存する VW=     、/ 非常に弱いピークが存する 表2を表1と一緒に調べると、最終製品に存在するム晶
に与えるガラス組成物の影響が良く判る。フリットを粉
砕して全体の粒子径を皐き゛るだけ小さくすること、お
よび(°または)焼結時間を長くすると、発生する結晶
の量を多くすることができる。
上述したように、有iベヒクルを使用する方が、水性ス
ラリよりも均一で良好んコーティングを生じさせるよう
である。例えば、メタノール、エタノール、1−プロパ
ツール、2−プロパツール、1−ブタノール、およびニ
トロセルローズバインダを含み酢酸アミル等の液体を用
いて本発明に使用できる7リツトのサスペンションをv
4製することができる。
密度、均一性、および塗着速度に関して最上のコーティ
ングは2−プロパツールを用いた場合に得られた。
実験によると、1−プロパツールよりも2−プロバノー
ルを用いるスラリの方が良好な塗着を与え、また、1−
ブタノールよりも2−ブタノールのスラリの方が良好な
コーティングを与えることが示された。吸着分子による
立体障害によって、2−プロパツールおよび2−ブタノ
ールが、それぞれ、1−プロパツールおよび1−ブタノ
ールよりも効果的になるものと考えられる。OH−基は
、2−プロ1′\ パノールの炭素鎖の末端ではなく側部に結合する。一般
に、この種の側部結合によって、粒子のサスペンション
が良好になることが認ベヒクルとしてメタノールを使用
することは塗着速度を極めて迅速にはするが、多くの場
合、得られる塗着物が弱くなり、その結果、焼結後のコ
ーティングは所望される程には高密度で均一にはならな
い。
電気泳動塗着は、常に、最上のコーティングを生じさせ
るようであった。しかしながら、この方法は、フリット
粒子が析出する傾向が強いので、サスペンションをはぼ
常時攪拌しながら実施されなければならない。電気泳動
塗着の効果は、電圧、粒子の濃度、粒子の大きさ、およ
び塗層時間等の因子によって支配されることは良く知ら
れている。所望のコーティングを生じさせるには次の範
囲の条件が好適であることが、見出された。
電   圧:50〜400ボルト(直流)粒子のm度=
15〜200グラム/液体100 ml 粒子の大きさ: (325メツシユ、鼾声しくは平均5
〜20ミクロン 厚さ0.006’の焼結後のコーティングを得るための
時間:粒子の濃度が高い場合には5秒間、粒子の濃度が
低い場 合には1分間 塗潰されたコーティングは、数百度に加熱されることに
よって、乾燥され、ベヒクル中に存在する任意の有機バ
インダは除去される。
次いで、コーティングが塗着された基体は、850°〜
1ooo℃゛の範囲の温度に操作されている炉の中に導
入されて燃焼される。
温度の選歌が適当であるときには、典型的な燃焼工程は
、塗着された粒子が約1分間でガラス化(ビトリフイケ
ーショ/)シ、次いで、20〜30秒間で結晶化するこ
とから成る。結晶化は次の1.5〜2分間以内に完結す
るので、全焼結時間は平均3〜5分間であるのが一般的
である。このような経過は、燃焼中に材料によって示さ
れる不透明度の変化を観察することによって視覚的に追
跡することができる。すなわち、ガラス化のみが存しフ
リット粒子が流動しているときは、ガラス体は透明であ
る。結晶が形成されると漸次不透明になってゆく。
上述したように、実質的にすべての流動&ま、ガラス化
状態が生じている短期間に起こるものと考えられる。し
たがって、基体を均一に且つ完全に被覆するためには、
ガラス化状態が充分な流動性を有していなければならな
−・。
しかしながら、従来のガラス釉薬コーティングとは異な
り、本発明の結晶化コーティングは、燃焼中にホールや
エツジの周りにメニスカスを形成しない。
表3には、1”X 2’X O,045の430Tiス
テンレス鋼(耐酸化性の高いチタン安定化ステンレス鋼
)のストリップに、2−プロノ(ノールをベヒクルとし
て用い、表1に示した実施例の幾つかを電気泳動塗着し
、空気中で4分間925℃に煉焼して〜0.00,6’
の厚さにすることによって得られたコーティングについ
て測定した6檀の電気的性質が記されている。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)  熱変形を受けることなく950℃よりも萬温
    に繰り返して賎焼されることができ、約75〜150 
    X 10−7/’Cの熱膨張係数(25°〜600°G
    )を有し、且つ、その組成が、酸化物を基準にした重量
    ノ(−セントで表わして、 BaO’  10−60 8203   55−3 0Sin   25−40 、%1zOs    O−15 CaU    0−15 M蜆  1O−35 Zn0   0−16 AI 20B +CaO+ZnO5−20から本質的に
    成り、実質的にアルカリ金属酸化物を含まないことを特
    徴とするガラスセラミック。 (2)         Ba0  10−40820
    3   6−25 Sin225−38 MgO1O−30 CaO0−15 Zn0   0−16 A1203   0−10 CaO+ZnO+Al 203   5−18から本質
    的に′成る特許請求の範囲第1項記載のガラスセラミッ
    ク。 (3) ta)  実質的にアルカリ金属酸化物を含ま
    ず、酸化物を基準にした重量パーセントで表わして、 ’BaO10−60 BzOs    5−30 Sin225−40 A120S    O−15 CaO”0−15 Mg0  10−35 Zn0     0 −16 Al 203−)CaO+Zn0    5−20から
    本質的に成るガラスバッチを溶融する工程、 (b)  その溶融物を冷却してガラスとし、核ガラス
    を粉砕して米国規格4325の篩を通過する微細粒子に
    する工程、 (C)  前記ガラス粒子の液体スラリを調製する工程
    、 (d)  前記コーティングをコーティングとして所望
    の基体上に施す工程、その後、 (e)  前記コーティングを少なくとも850℃の温
    度に燻焼して、前記ガラス粒子をはぼ同時に互いに焼結
    させて一体的な本質的に非孔質のコーティングとし、且
    つ、!′11 多量の結晶化を起こさせる工程、 からなることを%徴とする熱変形を受けることなく95
    0℃よりも高温に反覆して■焼されることができ、約7
    5〜150×10’/’Cの熱膨張係数(25°〜60
    0℃)を有するガラスセラミックの製造方法。 (4)  前記ガラスが、 BaO10−40 B203   6−25 8i0225−38 MgO1O−30 CaO0−15 Zn0   0−16 A1203   0−10 CaO+ZnO+AI zos    5−18から本
    質的に成る特許請求の範囲第3項記載の方法。 (5)  前記液体が、有機ベヒクルである特許請求の
    範囲第3項記載の方法。 (6)  前記液体が、−機バインダを追有する特許請
    求の範囲第・・′5項記載の方法。 □″′( (力 前記基体が、低炭素鋼およびチタン安定化鋼から
    成る群から選ばれる特許請求の範囲第3項記載の方法。 (8)前記スラリか、電気泳動塗着によって前記基体上
    に施される特許請求の範囲第7項記載の方法。 (9)  前記コーティングが、850°〜1000℃
    の範囲の温度に燻焼される特許請求の範囲第3項記載の
    方法。 aI#記コーティングが、約3〜5分間燗焼される特許
    請求の範囲第3項記載の方法。
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