JPH1192493A - リボースにより置換された新規な芳香族誘導体、それらの製造方法及び薬剤としての用途 - Google Patents

リボースにより置換された新規な芳香族誘導体、それらの製造方法及び薬剤としての用途

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JPH1192493A
JPH1192493A JP10207950A JP20795098A JPH1192493A JP H1192493 A JPH1192493 A JP H1192493A JP 10207950 A JP10207950 A JP 10207950A JP 20795098 A JP20795098 A JP 20795098A JP H1192493 A JPH1192493 A JP H1192493A
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benzopyran
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JP10207950A
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Shiyatoroo Fuabiennu
ファビエンヌ・シャトロー
Kurishiyu Mishieru
ミシェル・クリシュ
Shio Roran
ロラン・シオ
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Aventis Pharmaceuticals Inc
Original Assignee
Hoechst Marion Roussel
Hoechst Marion Roussel Inc
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D311/00Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
    • C07D311/02Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D311/04Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring
    • C07D311/06Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 2
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04Antibacterial agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
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    • C07H17/00Compounds containing heterocyclic radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 リボースにより置換された新規な芳香族誘導
体、それらの製造方法及び薬剤としての用途を提供す
る。 【解決手段】 本発明は、次式(I) 【化1】 {ここで、R1 は水素又はハロゲンを表し、R2 は水素
原子又はアルキル基を表し、R3 はアルキル基又はハロ
ゲンを表し、R4 は水素原子、ハロゲン原子、又はアル
キル、アルケニル若しくはアルキニル基を表し、R5
水素原子、OH基又はO−アルキル基を表し、Ra及び
bは水素原子又は4個までの炭素原子を含有するアル
キル基を表し、或いはRa及びRbはそれらが結合してい
る窒素原子と共に単環式又は多環式複素環を形成する
か、或いはRa及び(又は)Rbは次式: 【化2】 (ここで、nは0〜6の正数であり、alc1及びal
2は8個までの炭素原子を含有するアルキル基を表
す)の基を表す}の化合物並びに塩類(これらはその可
能な立体異性体形態又はそれらの混合物の形態にある)
に関する。式(I)の化合物は抗菌活性を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、リボースにより置
換された新規な芳香族誘導体に関する。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、リボースに
より置換された新規な芳香族誘導体、それらの製造方法
及び薬剤としての用途を提供する。
【0003】
【課題を解決するための手段】発明の概要 本発明の主題は、次式(I)
【化9】 {ここで、R1 は水素又はハロゲン原子を表し、R2
水素原子又は4個までの炭素原子を含有するアルキル基
を表し、R3 は4個までの炭素原子を含有するアルキル
基又はハロゲン原子を表し、R4 は水素原子、ハロゲン
原子、又は12個までの炭素原子を含有する線状、分岐
状若しくは環状のアルキル、アルケニル若しくはアルキ
ニル基を表し、R5 は水素原子、OH基又は12個まで
の炭素原子を含有するO−アルキル基を表し、Ra及び
b同一であっても異なっていてもよく、水素原子又は
4個までの炭素原子を含有するアルキル基を表し、或い
はRa及びRbはそれらが結合している窒素原子と共に単
環式又は多環式複素環(窒素、硫黄又は酸素原子から選
ばれる別の複素原子を含有してよい)を形成するか、或
いはRa及び(又は)Rbは次式:
【化10】 (ここで、nは0〜6の正数であり、alc1及びal
2は8個までの炭素原子を含有するアルキル基を表
す)の基を表す}の化合物並びにそれらの塩類(これら
はその全ての可能な立体異性体形態及びそれらの混合物
の形態にあり得る)にある。
【0004】
【発明の実施の形態】塩類の例としては、次の酸:酢
酸、プロピオン酸、トリフルオル酢酸、マレイン酸、酒
石酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−ト
ルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸、沃化水素酸、硫
酸、燐酸、特にステアリン酸、エチルこはく酸又はラウ
リルスルホン酸により形成された塩類であってよい。
【0005】置換基の定義において、 ・アルキル、アルケニル又はアルケニル基は、好ましく
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブ
チル、イソブチル、t−ブチル、デシル若しくはドデシ
ル、ビニル、アリル、エチニル、プロピニル、シクロブ
チル、シクロペンチル若しくはシクロヘキシル基であ
る。 ・ハロゲンは好ましくは弗素若しくは塩素又は臭素原子
である。 ・アリール基は好ましくはフェニル基である。 ・複素環式基は、好ましくはピロリル、ピロリジニル、
ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピペリジニル、
ピペラジニル、キヌクリジニル、オキサゾリル、イソオ
キサゾリル、モルホリニル、インドリル、イミダゾリ
ル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、
アゼチジニル、アジリジニル基である。
【0006】本発明の好ましい化合物としては、R1
水素又は弗素原子を表す式(I)の化合物、R2 がメチ
ル基又は水素原子を表す式(I)の化合物、R3 がメチ
ル基、水素又は塩素原子を表す式(I)の化合物、R4
が水素又は塩素原子を表す式(I)の化合物、R5 が水
素原子を表す式(I)の化合物、Ra及びRbが4個まで
の炭素原子を含有するアルキル基、特にメチル基を表す
式(I)の化合物、Ra及びRbがそれらが結合している
窒素原子と共に複素環式基(別の複素原子を含有してい
てよく、置換されていてもよい)を形成する式(I)の
化合物、特にRa及びRbが一緒になって次式:
【化11】 (ここで、Xは酸素原子又はNH若しくはNCH3基を
表す)の基を形成し、このように形成された複素環式基
は置換されていてよい式(I)の化合物が挙げられる。
【0007】本発明のさらに特定の主題は、その製造を
後記の実験の部で示す化合物、特に例1及び2の化合物
にある。
【0008】一般式(I)の化合物は、葡萄球菌属、連
鎖球菌属、肺炎球菌属のようなグラム陽性細菌、リステ
リア菌類、嫌気性菌類に対し非常に良好な抗生物質活性
を持っている。
【0009】したがって、本発明の化合物は、感受性細
菌による感染症の治療に、特に、葡萄球菌性敗血症、顔
又は皮膚の悪性葡萄球菌感染症、膿皮症、敗血性又は化
膿性びらん、せつ、炭疽、フレグモーネ、丹毒及びざ瘡
のような葡萄球菌感染症、原発性又はインフルエンザ後
急性アンギナ、気管支肺炎、肺化膿症のような葡萄球菌
感染症、急性アンギナ、耳炎、副鼻腔炎、猩紅熱のよう
な連鎖球菌感染症、肺炎、気管支炎のような肺炎球菌
症、ブルセラ症、ジフテリア、淋菌感染症の治療に使用
することができる。また、本発明の化合物は、インフル
エンザ菌のような細菌による感染症に対して活性であ
る。
【0010】しかして、本発明の主題は、薬剤としての
式(I)の化合物にある。さらに本発明の主題は、好ま
しい化合物として上で示した化合物からなる薬剤にあ
る。
【0011】また、本発明の主題は、前記の薬剤の少な
くとも1種を活性成分として含有する製薬組成物にあ
る。
【0012】これらの組成物は、経口的に、直腸経路
で、非経口的に或いは皮膚若しくは粘膜に対する局部的
な適用ような局所経路で投与することができが、好まし
い投与経路は経口的又は注射経路である。。これらの製
薬組成物は、固体でも液体でもよく、人の医薬として慣
用されているあらゆる製剤形状で、例えば無味の若しく
は糖衣錠剤、カプセル、顆粒、座薬、注射用調合剤、軟
膏、クリーム、ゲルの形状で提供できる。それらは通常
の方法により製造される。活性成分は、これらの製薬組
成物に通常使用される補助剤、例えばタルク、アラビア
ゴム、ラクトース、でんぷん、ステアリン酸マグネシウ
ム、ココアバター、水性若しくは非水性のビヒクル、動
物性若しくは植物性の脂肪物質、パラフィン誘導体、グ
リコール類、各種の湿潤、分散若しくは乳化剤、保存剤
と配合することができる。
【0013】また、これらの組成物は、適当なビヒク
ル、例えば非発熱性の無菌の水に即時に溶解するように
意図された粉末の形態で提供することができる。通常の
薬用量は、治療すべき疾病、問題の患者、投与経路及び
使用化合物によって変わる。これは、例えば好ましい化
合物について成人の場合に経口又は注射による投与で1
日当たり50〜3000mgであってよい。
【0014】また、本発明の主題は、上に記載の式
(I)の化合物を製造するにあたり、次式(II)
【化12】 (ここで、R3 、R4 、R5 、Ra 及びRb はそれぞれ
前記の意味を有する)の化合物に次式(III )
【化13】 (ここで、R2 は前記の意味を有し、R7 は次式
【化14】 (ここで、R1 は前記の意味を有する)の基を表す)の
化合物を作用させて相当する式(I)の化合物を得、所
望ならばこの化合物を変性させることを特徴とする、式
(I)の化合物の製造方法にある。
【0015】また、本発明の主題は、次式(IV)
【化15】 (ここで、R1 、R2 、R3 、R4 及びR5 はそれぞれ
前記の意味を有し、Rは離脱基を表す)の化合物に次式
【化16】 (ここで、Ra 及びRb はそれぞれ前記の意味を有す
る)のアミンを作用させて相当する式(I)の化合物を
得、所望ならばこの化合物を変性させることを特徴とす
る、式(I)の化合物の製造方法の別法にある。
【0016】式(II)及び式(IV)の化合物は新規な物
質であって、それらの製造を後記の実験の部に示す。そ
れらは本発明の主題でもある。
【0017】式(II)の化合物は、実験の部に示す方法
に従って、例えば下記の操作方法:
【化17】 に従って製造することができる。離脱基としては、トシ
レート、メシレート及びトリフレートの残基が挙げられ
る。
【0018】式(IV)の化合物は、下記の反応式に従
い、実験の部に記載する方法により製造することができ
る。
【化18】 上記の反応式において、Rは前記の離脱基と同じ意味を
有する。
【0019】例1:(4−(ジメチルアミノ)−8−メ
チル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−イ
ル)−6−デオキシ−5−C−メチル−4−O−メチル
−3−O−((5−メチル−1H−ピロール−2−イ
ル)カルボニル)−α−L−リキソ−ヘキソピラノシド 210mgの7−(6−デオキシ−5−C−メチル−4
−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラノシル)オ
キシ−4−(ジメチルアミノ)−8−メチル−2H−1
−ベンゾピラン−2−オンと124mgのピロリックア
ンヒドリドを含有する溶液に5.3mlの0.1N塩化
コバルトのアセトニトリル溶液を100℃で導入する。
100℃で15分間撹拌し、反応媒体を冷却し、減圧下
に濃縮する。得られた生成物をシリカでクロマトグラフ
ィーし、塩化メチレン−アセトン混合物(80−20)
で溶離することによって精製する。56.2mgの所期
の化合物を得た。 Rf=0.25、Mp>300℃。
【0020】製造:7−[(6−デオキシ−5−C−メ
チル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラノ
シル)オキシ]−4−(ジメチルアミノ)−8−メチル
−2H−1−ベンゾピラン−2−オン工程A :7−[[(1,1−ジメチルエチル)ジフェニ
ルシリル]オキシ]−4−ヒドロキシ−8−メチル−2
H−1−ベンゾピラン−2−オン 50gの4,7−ジヒドロキシ−8−メチル−2H−1
−ベンゾピラン−2−オンと400mlのテトラヒドロ
フランを含有する懸濁液中で85mlのトリエチルアミ
ンを撹拌する。76mlのt−ブチルジフェニルクロル
シランを50mlのテトラヒドロフランに溶解してなる
溶液を添加する。反応混合物を20時間撹拌し、次いで
これを燐酸水素ナトリウム緩衝溶液中に注ぎ入れる。酢
酸エチルで抽出し、有機相を水洗し、乾燥し、乾固させ
る。得られた生成物をメタノールで溶解し、4時間撹拌
し、次いで分離し、洗浄し、乾燥した後、84.5gの
所期の化合物を得た。工程B :7−[[(1,1−ジメチルエチル)ジフェニ
ルシリル]オキシ]−8−メチル−4−[[(トリフル
オルメチル)スルホニル]オキシ]−2H−1−ベンゾ
ピラン−2−オン 15gの工程Aの化合物を150mlの塩化メチレンに
懸濁させてなる懸濁液に7.3mlのトリエチルアミン
を0℃で導入する。7.1mlのトリフルオルメチルス
ルホン酸無水物と7mlの塩化メチレンの溶液を添加す
る。反応混合物を0℃で30分間撹拌し続け、次いで周
囲温度で1時間撹拌する。反応媒体を150mlの1M
の酸性燐酸ナトリウム溶液中に注ぎ入れ、次いで塩化メ
チレンで抽出し、洗浄し、乾燥し、減圧下に濃縮乾固す
る。得られた生成物をヘキサン−酢酸エチル混合物(8
−2)を溶離剤として使用してシリカでクロマトグラフ
ィーする。これにより、17.1gの所期の化合物を得
た。Rf=0.49。工程C :4−(ジメチルアミノ)−7−ヒドロキシ−8
−メチル−2H−1−ベンゾピラン−2−オン 工程Bで製造した1.05gの化合物を10mlのTH
Fに溶解してなる溶液に11.3mlの0.6Mジメチ
ルアミンTHF溶液を導入する。反応媒体を終夜撹拌し
続ける。窒素を吹き込み、氷浴を使用して反応を冷却
し、次いで1.9mlの弗化テトラn−ブチルアンモニ
ウム(1.1MのTHF溶液)を注ぎ入れる。0℃で1
5分間撹拌する。反応媒体を20mlの1M酸性燐酸ナ
トリウム溶液中に注ぎ入れる。塩化メチレンで抽出す
る。有機相を洗浄し、乾燥し、濃縮する。得られた生成
物をメチルエチルケトンで溶解し、次いで分離し、メチ
ルエチルケトンで洗浄し、乾燥する。ろ液を濃縮し、酢
酸エチルで溶解し、分離し、乾燥する。350.4mg
の所期の化合物を得た。 Rf=0.18(塩化メチレン/アセトン(9−
1))。工程D :7−[(6−デオキシ−5−C−メチル−4−
O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラノシル)オキ
シ]−4−(ジメチルアミノ)−8−メチル−2H−1
−ベンゾピラン−2−オン 830mgの上記工程の化合物と804mgの6−デオ
キシ−5−C−メチル−4−O−メチル−α−L−リキ
ソ−ヘキソピラノースを20mlの塩化メチレンに懸濁
させてなる懸濁液に1.2gのトリフェニルホスフィン
と796μlのDEAD(アゾジカルボン酸ジエチル)
を導入する。周囲温度で1時間撹拌し、1時間の間隔で
0.6当量、次いで0.4当量のトリフェニルホスフィ
ン及びDEADの2回の添加を行う。濃縮し、次いでシ
リカでクロマトグラフィーし、塩化メチレン/アセトン
混合物(80−20)で溶離する。アセトンで処理した
後、所期の化合物を得た。 Rf=0.29(塩化メチレン−アセトン(6−
4))。
【0021】例2:(8−メチル−4−(4−メチル−
1−ピペラジニル)−2−オキソ−2H−1−ベンゾピ
ラン−7−イル)−6−デオキシ−5−C−メチル−4
−O−メチル−3−O−((5−メチル−1H−ピロー
ル−2−イル)カルボニル)−α−L−リキソ−ヘキソ
ピラノシド 500mgの7−ヒドロキシ−8−メチル−4−(4−
メチル−1−ピペラジニル)−2H−1−ベンゾピラン
−2−オンと370mgの6−デオキシ−5−C−メチ
ル−4−O−メチル−L−リキソ−ヘキソピラノース
3−(5−メチル−1H−ピロール−2−カルボキシレ
ート)を含有する分散液に354mgのトリフェニルホ
スフィン及び224μlのDEADを導入する。2時間
反応させた後、354mgのトリフェニルホスフィン及
び224μlのDEADを添加する。2時間撹拌し、2
83mgのトリフェニルホスフィン及び180μlのD
EADを添加する。さらに2時間撹拌し、142mgの
トリフェニルホスフィン及び90μlのDEADを添加
する。2時間撹拌し、次いで濃縮し、シリカでクロマト
グラフィーする(溶離剤:MeOH−CH2Cl2(5−
95))。Rf=0.21。これにより373mgの所
期の化合物を単離した。 Mp=150℃。
【0022】製造:7−ヒドロキシ−8−メチル−4−
(4−メチル−1−ピペラジニル)−2H−1−ベンゾ
ピラン−2−オン工程A :7−[[(1,1−ジメチルエチル)ジフェニ
ルシリル]オキシ]−8−メチル−4−(4−メチル−
1−ピペラジニル)−2H−1−ベンゾピラン−2−オ
ン 2.53gの7−[[(1,1−ジメチルエチル)ジフ
ェニルシリル]オキシ]−8−メチル−4−[[(トリ
フルオルメチル)スルホニル]オキシ]−2H−1−ベ
ンゾピラン−2−オンと22mlのTHFを含有する溶
液に1.25mlのN−メチルピペラジンを添加する。
反応媒体を1時間撹拌し続け、1Mの酸性燐酸ナトリウ
ム水溶液中に注ぎ入れ、酢酸エチルにより抽出する。有
機相を一緒にし、洗浄し、乾燥し、減圧下に濃縮する。
シリカでクロマトグラフィーし、メタノール−塩化メチ
レン混合物(6−94)により溶離する。2.31gの
所期の化合物を得た。Rf=0.3。工程B :7−ヒドロキシ−8−メチル−4−(4−メチ
ル−1−ピペラジニル)−2H−1−ベンゾピラン−2
−オン 5.10mlの1.1M弗化テトラn−ブチルアンモニ
ウム溶液をTHFに0℃で添加する。反応媒体を0℃で
1時間撹拌し続け、270μlの酢酸を添加し、次いで
濃縮し、シリカでクロマトグラフィーし、メタノール−
塩化メチレン混合物5−95、次いで10−90で溶離
し、塩化メチレンで溶解し、分離し、0.88gの化合
物を単離した。 Rf=0.26(メタノール−塩化メチレン10−9
0)。
【0023】例3:(4−(4,4−ジメチルピペラジ
ニウム)−8−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル)−6−デオキシ−5−C−メチル−
4−O−メチル−3−O−((5−メチル−1H−ピロ
ール−2−イル)カルボニル)−α−L−リキソ−ヘキ
ソピラノシドヨージド 50mgの上記の例の化合物を1mlのアセトニトリル
に分散させてなる分散液に8.5μlのヨードメタンを
添加する。得られた反応混合物を60℃で撹拌し続け、
冷却し、減圧下に濃縮する。塩化メチレンで溶解し、分
離した後、52mgの所期の化合物を得た。 Mp=230℃。
【0024】例4:N−(7−((6−デオキシ−5−
C−メチル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソ
ピラノシル)オキシ)−8−メチル−2−オキソ−2H
−1−ベンゾピラン−4−イル)−2−(ジメチルアミ
ノ)アセトアミドの5−メチル−1H−ピロール−2−
カルボン酸−3’−エステル 118mgの6−デオキシ−5−C−メチル−4−O−
メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラノースの5−メチ
ル−1H−ピロール−2−カルボン酸エステルを3.5
mlの塩化メチレン中に含有する分散液に、152mg
の2−(ジメチルアミノ)−N−(7−ヒドロキシ−8
−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−4−
イル)アセトアミド、106mgのトリフェニルホスフ
ィン及び67μlのDEADを添加する。反応媒体を周
囲温度で2時間撹拌し続け、さらに106mgのトリフ
ェニルホスフィンと67μlのDEADを添加する。さ
らに2時間反応させた後、さらに42mgのトリフェニ
ルホスフィンと27μlのDEADを添加する。2時間
撹拌し、得られた生成物をクロマトグラフィーし、まず
メタノール−塩化メチレン混合物(5−95)、次いで
アセトン−塩化メチレン混合物(20−80)で溶離す
る。このようにして、72mgの所期の化合物を単離し
た。Mp=260℃。
【0025】製造:2−(ジメチルアミノ)−N−(7
−ヒドロキシ−8−メチル−2−オキソ−2H−1−ベ
ンゾピラン−4−イル)アセトアミド工程A :4−アミノ−7−[[[(1,1−ジメチルエ
チル)ジフェニルシリル]オキシ]−8−メチル−2−
オキソ−2H−1−ベンゾピラン−4−イル]アセトア
ミド 1gの4−アミノ−7−ヒドロキシ−8−メチル−2H
−1−ベンゾピラン−2−オンと25mlの無水THF
を含有する分散液に783mgのイミダゾール、次いで
1.43mlのtBuPh2 SiClを添加する。反応
媒体を周囲温度で16時間撹拌し、酸性燐酸ナトリウム
水溶液(1M)中に注ぎ入れ、THFにより抽出する。
水性相をデカンテーションし、酢酸エチルにより抽出す
る。有機相を一緒にし、水洗し、乾燥し、減圧下に濃縮
する。得られた生成物をシリカでクロマトグラフィー
し、メタノール−塩化メチレン混合物(5−95)で溶
離する。得られた生成物をエーテルで溶解し、分離す
る。1.01gの所期の化合物を得た。 Rf=0.33(メタノール−塩化メチレン(5−9
5))。工程B :2−クロル−N−[7−[[(1,1−ジメチ
ルエチル)ジフェニルシリル]オキシ]−8−メチル−
2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−4−イル]アセ
トアミド 885mgの上記工程の化合物と18mlのTHFを含
有する溶液に752μlのTEA及び430μlの塩化
クロルアセチルを0℃で添加する。38時間撹拌し、反
応媒体を酸性燐酸ナトリウム水溶液(1M)中に注ぎ入
れ、酢酸エチルで2回抽出する。有機相を一緒にし、洗
浄し、乾燥し、減圧下に濃縮する。得られた生成物をシ
リカでクロマトグラフィーし、酢酸エチル−塩化メチレ
ン混合物(2−98)で溶離する。このようにして、4
53mgの所期の化合物を単離した。工程C :2−(ジメチルアミノ)−N−(7−ヒドロキ
シ−8−メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン
−4−イル)アセトアミド 351mgの上記工程の化合物及び7mlのTHFを含
有する溶液に数滴のジメチルアミンを0℃で添加する。
反応媒体を周囲温度で2時間撹拌し続け、減圧下に濃縮
する。得られた生成物をアセトン中でペースト状にし、
分離し、次いで塩化メチレンで、次いでペンタンで洗浄
する。乾燥した後、110mgの生成物を単離した。ろ
液をシリカでクロマトグラフィーし、メタノール−塩化
メチレン混合物(5−95)で溶離する。このようにし
て、さらに32mgの所期の化合物を単離した。Rf=
0.27。
【0026】例5:7−((6−デオキシ−5−C−メ
チル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラノ
シル)オキシ)−8−メチル−4−(4−モルホリニ
ル)−2H−1−ベンゾピラン−2−オンの5−メチル
−1H−ピロール−2−カルボン酸−3’−エステル 387mgの7−ヒドロキシ−8−メチル−4−(4−
モルホリニル)−2H−1−ベンゾピラン−2−オンと
487mgの6−デオキシ−5−C−メチル−4−O−
メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラノース 3−(5
−メチル−1H−ピロール−2−カルボキレート)から
出発して上記のように操作することにより、115.4
mgの所期の化合物を得た。Mp>260℃。
【0027】例6:7−((6−デオキシ−5−C−メ
チル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラノ
シル)オキシ)−4−(ジメチルアミノ)−8−メチル
−2H−1−ベンゾピラン−2−オンの4−フルオル−
5−メチル−1H−ピロール−2−カルボン酸−3’−
エステル 585mgの7−[(6−デオキシ−5−C−メチル−
4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラノシル)
オキシ]−4−(ジメチルアミノ)−8−メチル−2H
−1−ベンゾピラン−2−オンと15mlの塩化メチレ
ンを含有する分散液に213mgの4−フルオル−5−
メチル−1H−ピロール−2−カルボン酸、次いで18
2mgのDMAP、次いで233μlのDICを添加す
る。周囲温度で14時間撹拌し、222μlのDBUを
添加する。周囲温度で2時間撹拌し、次いで得られた生
成物をシリカでクロマトグラフィーし、メタノール−塩
化メチレン混合物(5−95)で溶離する。得られた生
成物をアセトンで溶解し、分離する。得られた生成物を
メタノールで溶解し、分離する。77mgの所期の化合
物を単離した。Mp>260℃。
【0028】例7:7−((6−デオキシ−5−C−メ
チル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラノ
シル)オキシ)−4−(2−(ジメチルアミノ)エチル
メチルアミノ)−8−メチル−2H−1−ベンゾピラン
−2−オンの5−メチル−1H−ピロール−2−カルボ
ン酸−3’−エステル この化合物は、上記のように操作することにより製造し
た。 Rf=0.15(CH2Cl2−MeOH−NH3(92
−8−0.5))。
【0029】例8:7−((6−デオキシ−5−C−メ
チル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラノ
シル)オキシ)−8−メチル−4−(1−ピペラジニ
ル)−2H−1−ベンゾピラン−2−オンの5−メチル
−1H−ピロール−2−カルボン酸−3’−エステル Mp=190〜200℃。
【0030】例9:8−メチル−4−(4−メチル−1
−ピペラジニル)−2−オキソ−2H−1−(3−クロ
ルベンゾピラン)−7−イル−6−デオキシ−5−C−
メチル−4−O−メチル−3−O−((5−メチル−1
H−ピロール−2−イル)カルボニル)−α−L−リキ
ソ−ヘキソピラノシド 3−クロル−7−ヒドロキシ−8−メチル−4−(4−
メチル−1−ピペラジニル)−2H−1−ベンゾピラン
−2−オンから出発して、上記のように操作することに
よって、所期の化合物を得た。Mp=145℃。
【0031】例10:7−((6−デオキシ−5−C−
メチル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラ
ノシル)オキシ)−4−(4−エチル−1−ピペラジニ
ル)−8−メチル−2H−1−ベンゾピラン−2−オン
の5−メチル−1H−ピロール−2−カルボン酸−3’
−エステル 374mgの7−ヒドロキシ−8−メチル−4−(4−
エチル−1−ピペラジニル)−2H−1−ベンゾピラン
−2−オン、424mgの6−デオキシ−5−C−メチ
ル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラノー
ス 3−(5−メチル−1H−ピロール−2−カルボキ
レート)及び408mgのトリフェニルホスフィンを1
2mlの塩化メチレンに懸濁させ、275μlのDEA
Dを添加する。周囲温度で2時間撹拌し、408mgの
トリフェニルホスフィン及び275μlのREADを添
加する。1時間45分撹拌し、170mgのトリフェニ
ルホスフィン及び113μlのREADを添加する。得
られた生成物をシリカでクロマトグラフィーし、塩化メ
チレン−イソプロパノール混合物(9−1)で溶離す
る。生成物を30mlの燐酸二水素ナトリウムの1M溶
液中に注ぎ入れ、塩化メチレンで抽出し、次いで塩化ナ
トリウム飽和溶液により洗浄する。有機相を一緒にし、
硫酸マグネシウムで乾燥する。2.61gの生成物を単
離した。これをシリカでクロマトグラフィーし、塩化メ
チレン−メタノール混合物(90−10)で溶離する。
Rf=0.10の画分を単離し、350mgの生成物を
得た。これをアセトニトリル中でペースト状にし、得ら
れた生成物を単離し、ろ液を乾固させ、次いでアセトニ
トリルで溶解し、分離し、最初に得られた画分と一緒に
する。このようにして、170mgの所期の化合物を単
離した。 Mp=246〜248℃。
【0032】例11:7−((6−デオキシ−5−C−
メチル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラ
ノシル)オキシ)−8−メチル−4−(4−(2−ピリ
ミジル)−1−ピペラジニル)−2H−1−ベンゾピラ
ン−2−オンの5−メチル−1H−ピロール−2−カル
ボン酸−3’−エステル 7−ヒドロキシ−8−メチル−4−(4−(2−ピリミ
ジニル)−1−ピペラジニル)−2H−1−ベンゾピラ
ン−2−オンから出発して、上記のように操作すること
によって、所期の化合物を得た。 Rf=0.25(塩化メチレンイソプロパノール(97
−3))。 上記のように操作することによって、下記の化合物を製
造した。
【0033】例12:(4−(ジメチルアミノ)−8−
メチル−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−イ
ル)−6−デオキシ−4−O−メチル−3−O−((5
−メチル−1H−ピロール−2−イル)カルボニル)−
α−L−マンノピラノシド Mp=225℃。
【0034】例13:(8−メチル−4−(4−モルホ
リニル)−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−
イル)−6−デオキシ−4−O−メチル−3−O−
((5−メチル−1H−ピロール−2−イル)カルボニ
ル)−α−L−マンノピラノシド Mp=190℃。
【0035】例14:(8−メチル−4−(4−メチル
−1−ピペラジニル)−2−オキソ−2H−1−ベンゾ
ピラン−7−イル)−6−デオキシ−4−O−メチル−
3−O−((5−メチル−1H−ピロール−2−イル)
カルボニル)−α−L−マンノピラノシド Rf=0.31(アセトン酢酸エチル−水(5−4−
1))。
【0036】例15:(4,4−ジメチルピペラジニウ
ム−1−イル)−8−メチル−2−オキソ−2H−1−
ベンゾピラン−7−イル)−6−デオキシ−4−O−メ
チル−3−O−((5−メチル−1H−ピロール−2−
イル)カルボニル)−α−L−マンノピラノシドヨージ
ド 前記の例の化合物に沃化メチルを作用させることによっ
て、所期の化合物を得た。 Rf=0(アセトン酢酸エチル−水(5−4−1))。
【0037】例16:7−((6−デオキシ−5−C−
メチル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラ
ノシル)オキシ)−8−メチル−4−(3−メチル−1
−ピペラジニル)−2H−1−ベンゾピラン−2−オン
の5−メチル−1H−ピロール−2−カルボン酸−3’
−エステル 上記のように操作することによって、所期の化合物を得
た。Mp=205℃。
【0038】例17:7−((6−デオキシ−5−C−
メチル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラ
ノシル)オキシ)−8−メチル−4−(4−(2−ピリ
ジニル)−1−ピペラジニル)−2H−1−ベンゾピラ
ン−2−オンの5−メチル−1H−ピロール−2−カル
ボン酸−3’−エステル 上記のように操作することによって、所期の化合物を得
た。 Mp=228〜230℃。
【0039】例18:7−((6−デオキシ−5−C−
メチル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラ
ノシル)オキシ)−4−(4−ジメチルアミノ)−1−
ピペリジニル)−8−メチル−2H−1−ベンゾピラン
−2−オンの5−メチル−1H−ピロール−2−カルボ
ン酸−3’−エステル 0.8ミリモルの7−[(6−デオキシ−5−C−メチ
ル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラノシ
ル)オキシ]−8−メチル−4−[[(4−メチルフェ
ニル)スルホニル]オキシ]−2H−1−ベンゾピラン
−2−オンの5−メチル−1H−ピロール−2−カルボ
ン酸−3’−エステルを、2ミリモルの4−ジメチルア
ミノ−1−ピペリジンを2.5mlのTHF中に含有す
る溶液に周囲温度で添加する。2時間撹拌する。反応媒
体を酸性燐酸ナトリウム飽和溶液(1M)中に注ぎ入れ
る。酢酸エチルで抽出し、次いで乾燥し、濃縮し、87
mgの生成物を得た。これに2mlのアセトニトリルを
添加する。得られた生成物を分離し、乾燥する。このう
よにして、58mgの化合物を得た。 Mp=190℃。
【0040】製造:7−[(6−デオキシ−5−C−メ
チル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラノ
シル)オキシ]−8−メチル−4−[[(4−メチルフ
ェニル)スルホニル]オキシ]−2H−1−ベンゾピラ
ン−2−オンの5−メチル−1H−ピロール−2−カル
ボン酸−3’−エステル工程A :7−ヒドロキシ−8−メチル−4−[[(4−
メチルフェニル)スルホニル]オキシ]−2H−1−ベ
ンゾピラン−2−オン 3.50gの4,7−ジヒドロキシ−8−メチル−2H
−1−ベンゾピラン−2−オンと25mlのピリジンを
含有する溶液に3.5gの塩化トシルを0℃で添加す
る。0℃で2時間撹拌し、反応媒体を1.2Nの塩酸水
溶液中に注ぎ入れる。酢酸エチルで抽出し、有機相を一
緒にし、乾燥し、減圧下に濃縮する。得られた生成物を
シリカでクロマトグラフィーし、アセトン−塩化メチレ
ン混合物(5−95)で溶離し、3.88gの生成物を
単離し、これをエーテル中でペースト状にし、分離す
る。所期の化合物を得た。Mp=206℃。工程B :7−[(6−デオキシ−5−C−メチル−4−
O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラノシル)オキ
シ]−8−メチル−4−[[(4−メチルフェニル)ス
ルホニル]オキシ]−2H−1−ベンゾピラン−2−オ
ンの5−メチル−1H−ピロール−2−カルボン酸−
3’−エステル 1.87gの上記工程の化合物、2gの6−デオキシ−
5−C−メチル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘ
キソピラノース 3,3−(5−メチル−1H−ピロー
ル−2−カルボキレート)及び50mlの塩化メチレン
の溶液に1.4gのトリフェニルホスフィン及び886
μlのDEADを添加する。周囲温度で1時間撹拌し、
0.5当量のトリフェニルホスフィン及びDEADを添
加し、45分間撹拌し、さらに0.25当量のトリフェ
ニルホスフィン及びDEADを添加する。30分間撹拌
し、次いでろ過する。ろ過した後、得られた生成物をシ
リカでクロマトグラフィーし、塩化メチレン−アセトン
混合物(95−5)で溶離する。1.43gの化合物を
得た。 Rf=0.25。
【0041】例19:7−((6−デオキシ−5−C−
メチル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラ
ノシル)オキシ)−4−(4−ヒドロキシ−1−ピペリ
ジニル)−8−メチル−2H−1−ベンゾピラン−2−
オンの5−メチル−1H−ピロール−2−カルボン酸−
3’−エステル 216mgの7−[(6−デオキシ−5−C−メチル−
4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラノシル)
オキシ]−8−メチル−4−[[(4−メチルフェニ
ル)スルホニル]オキシ]−2H−1−ベンゾピラン−
2−オンの5−メチル−1H−ピロール−2−カルボン
酸−3’−エステルと5mlのTHFを含有する溶液に
101.15mgの4−ヒドロキシ−1−ピペリジンを
添加する。1時間撹拌する。酸性燐酸ナトリウムの1M
溶液中に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出し、次いで乾燥
し、濃縮する。得られた生成物をシリカでクロマトグラ
フィーし、塩化メチレン−アセトン混合物(6−4)で
溶離する。濃縮した後、53mgの所期の化合物を得
た。Mp=230℃。
【0042】例20:(S)7−((6−デオキシ−5
−C−メチル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキ
ソピラノシル)オキシ)−4−[2−(ヒドロキシメチ
ル)−1−ピロリジニル]−8−メチル−2H−1−ベ
ンゾピラン−2−オンの5−メチル−1H−ピロール−
2−カルボン酸−3’−エステル 607mgの7−[(6−デオキシ−5−C−メチル−
4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラノシル)
オキシ]−8−メチル−4−[[(4−メチルフェニ
ル)スルホニル]オキシ]−2H−1−ベンゾピラン−
2−オンの5−メチル−1H−ピロール−2−カルボン
酸−3’−エステルと5mlのTHFを含有する溶液に
240μlの2−ピロリジンメタノールを導入する。周
囲温度で30分間撹拌する。反応媒体を15mlのNa
2PO4の1M溶液を中に注ぎ入れ、次いで酢酸エチル
で抽出し、乾燥し、濃縮する。得られた生成物をシリカ
でクロマトグラフィーし、塩化メチレン−アセトン混合
物(7−3)で溶離する。濃縮した後、173mgの生
成物を得た。これをアセトニトリルで溶解する。分離
し、乾燥した後、110mgの所期の化合物を得た。M
p>240℃。
【0043】例21:7−((6−デオキシ−5−C−
メチル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラ
ノシル)オキシ)−4−[2−(ヒドロキシメチル)−
4−モルホリニル]−8−メチル−2H−1−ベンゾピ
ラン−2−オンの5−メチル−1H−ピロール−2−カ
ルボン酸−3’−エステル 7−[(6−デオキシ−5−C−メチル−4−O−メチ
ル−α−L−リキソ−ヘキソピラノシル)オキシ]−8
−メチル−4−[[(4−メチルフェニル)スルホニ
ル]オキシ]−2H−1−ベンゾピラン−2−オンの5
−メチル−1H−ピロール−2−カルボン酸−3’−エ
ステルと2−(ヒドロキシメチル)−4−モルホリンか
ら出発して、前記のように操作することによって、所期
の化合物を得た。Mp=260℃。
【0044】例22:7−((6−デオキシ−5−C−
メチル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラ
ノシル)オキシ)−8−メチル−4−(メチルアミノ)
−2H−1−ベンゾピラン−2−オンの5−メチル−1
H−ピロール−2−カルボン酸−3’−エステル 500mgの7−[(6−デオキシ−5−C−メチル−
4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラノシル)
オキシ]−8−メチル−4−[[(4−メチルフェニ
ル)スルホニル]オキシ]−2H−1−ベンゾピラン−
2−オンの5−メチル−1H−ピロール−2−カルボン
酸−3’−エステルとメチルアミンから出発して、前記
のように操作することによって、所期の化合物を得た。 Rf=0.27(塩化メチレン−イソプロパノール(9
−1))。
【0045】例23:7−((6−デオキシ−5−C−
メチル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラ
ノシル)オキシ)−4−[2−((ジメチルアミノ)メ
チル)−4−モルホリニル]−8−メチル−2H−1−
ベンゾピラン−2−オンの5−メチル−1H−ピロール
−2−カルボン酸−3’−エステル 2−(ジメチルアミノ)メチル−4−モルホリンと7−
[(6−デオキシ−5−C−メチル−4−O−メチル−
α−L−リキソ−ヘキソピラノシル)オキシ]−8−メ
チル−4−[[(4−メチルフェニル)スルホニル]オ
キシ]−2H−1−ベンゾピラン−2−オンの5−メチ
ル−1H−ピロール−2−カルボン酸−3’−エステル
から出発して、前記のように操作することによって、所
期の化合物を得た。Rf=0.18(塩化メチレン−エ
タノール(8−2))。前記のように操作することによ
って、下記の化合物を得た。
【0046】例24:7−((6−デオキシ−5−C−
メチル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラ
ノシル)オキシ)−4−(3,5−ジメチル−1−ピペ
リジニル)−8−メチル−2H−1−ベンゾピラン−2
−オンの5−メチル−1H−ピロール−2−カルボン酸
−3’−エステル Mp=260〜262℃。
【0047】例25:7−((6−デオキシ−5−C−
メチル−4−O−メチル−α−L−リキソ−ヘキソピラ
ノシル)オキシ)−4−(4−(2−ヒドロキシエチ
ル)−1−ピペラジニル)−8−メチル−2H−1−ベ
ンゾピラン−2−オンの5−メチル−1H−ピロール−
2−カルボン酸−3’−エステル Mp=230〜232℃。
【0048】例26:(trans)7−[(6−デオ
キシ−5−C−メチル−4−O−メチル−α−L−リキ
ソ−ヘキソピラノシル)オキシ]−4−(2,5−ジメ
チル−1−ピペラジニル)−8−メチル−2H−1−ベ
ンゾピラン−2−オンの5−メチル−1H−ピロール−
2−カルボン酸−3’−エステル(ジアステレオマーの
混合物) Rf=0.1(塩化メチレン−エタノール(90−1
0))。
【0049】製薬組成物の例 下記の成分を含有する錠剤を調製した。 A. 例1の化合物・・・・・150mg 補助剤・・・・・1gとするに要する量 補助剤の詳細:でんぷん、タルク、ステアリン酸マグネ
シウム B. 例2の化合物・・・・・150mg 補助剤・・・・・1gとするに要する量 補助剤の詳細:でんぷん、タルク、ステアリン酸マグネ
シウム また、注射用の溶液も塩類から調製した。
【0050】本発明の化合物の薬理学的研究 A.液体培地中での希釈法 一組の試験管を用意し、これらに同一量の無菌栄養培地
を分配する。各試験管に被検化合物を量を増大しながら
分配し、次いで各試験管に細菌を播種する。37℃の加
熱室で24時間インキュベートした後、光透過法により
増殖の抑止率を評価する。これにより最小抑止濃度(M
IC)(μg /cm3 表わされる)が決定できる。下記の
菌株に対して行った。 S.aureus 011HT3 S.aureus 011UC4 S.aureus 011HT28 S.epidermidis 012GO20 S.aureus 011CB20 S.aureus 011HT26 S.epidermidis 012GO39 S.epidermidis 012HT1 S.pyogenes 02A1UC1 下記の結果が得られた。 0.04<MIC<5 B.ジャイレースBの阻害 本発明の化合物はジャイレースBの阻害剤である。50
%のDNAのスーパーコイル化が起こる薬量は5:g/
ml未満である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロラン・シオ フランス国ノワジ・ル・セック、アレ・ク リストフ・コロン、12、アパルトマン122

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次式(I) 【化1】 {ここで、 R1 は水素又はハロゲン原子を表し、 R2 は水素原子又は4個までの炭素原子を含有するアル
    キル基を表し、 R3 は4個までの炭素原子を含有するアルキル基又はハ
    ロゲン原子を表し、 R4 は水素原子、ハロゲン原子、又は12個までの炭素
    原子を含有する線状、分岐状若しくは環状のアルキル、
    アルケニル若しくはアルキニル基を表し、 R5 は水素原子、OH基又は12個までの炭素原子を含
    有するO−アルキル基を表し、 Ra及びRb同一であっても異なっていてもよく、水素原
    子又は4個までの炭素原子を含有するアルキル基を表
    し、或いはRa及びRbはそれらが結合している窒素原子
    と共に単環式又は多環式複素環(窒素、硫黄又は酸素原
    子から選ばれる別の複素原子を含有してよい)を形成す
    るか、或いはRa及び(又は)Rbは次式: 【化2】 (ここで、nは0〜6の正数であり、alc1及びal
    2は8個までの炭素原子を含有するアルキル基を表
    す)の基を表す}の化合物並びにそれらの塩類(これら
    はその全ての可能な立体異性体形態及びそれらの混合物
    の形態にある)。
  2. 【請求項2】 R1 が水素又は弗素原子を表す請求項1
    に記載の式(I)の化合物。
  3. 【請求項3】 R2 がメチル基又は水素原子を表す請求
    項1又は2に記載の式(I)の化合物。
  4. 【請求項4】 R3 がメチル基、水素又は塩素原子を表
    す請求項1〜3のいずれかに記載の式(I)の化合物。
  5. 【請求項5】 R4 が水素又は塩素原子を表す請求項1
    〜4のいずれかに記載の式(I)の化合物。
  6. 【請求項6】 R5 が水素原子を表す請求項1〜5のい
    ずれかに記載の式(I)の化合物。
  7. 【請求項7】 Ra及びRbが4個までの炭素原子を含有
    するアルキル基を表す請求項1〜6のいずれかに記載の
    式(I)の化合物。
  8. 【請求項8】 Ra及びRbがメチル基を表す請求項7に
    記載の式(I)の化合物。
  9. 【請求項9】 Ra及びRbがそれらが結合している窒素
    原子と共に複素環式基(別の複素原子を含有していてよ
    く、置換されていてもよい)を形成する請求項1〜6の
    いずれかに記載の式(I)の化合物。
  10. 【請求項10】 Ra及びRbが一緒になって次式: 【化3】 (ここで、Xは酸素原子又はNH若しくはNCH3基を
    表す)の基を形成し、このように形成された複素環式基
    は置換されていてよい請求項9に記載の式(I)の化合
    物。
  11. 【請求項11】 化合物名が ・(4−(ジメチルアミノ)−8−メチル−2−オキソ
    −2H−1−ベンゾピラン−7−イル)−6−デオキシ
    −5−C−メチル−4−O−メチル−3−O−((5−
    メチル−1H−ピロール−2−イル)カルボニル)−α
    −L−リキソ−ヘキソピラノシド、 ・(8−メチル−4−(4−メチル−1−ピペラジニ
    ル)−2−オキソ−2H−1−ベンゾピラン−7−イ
    ル)−6−デオキシ−5−C−メチル−4−O−メチル
    −3−O−((5−メチル−1H−ピロール−2−イ
    ル)カルボニル)−α−L−リキソ−ヘキソピラノシド
    である請求項1に記載の式(I)の化合物。
  12. 【請求項12】 請求項1〜10のいずれかに記載の式
    (I)の化合物からなる薬剤。
  13. 【請求項13】 請求項11記載の化合物からなる薬
    剤。
  14. 【請求項14】 請求項12又は13のいずれかに記載
    の薬剤の少なくとも1種を活性成分として含有する製薬
    組成物。
  15. 【請求項15】 請求項1〜11のいずれかに記載の式
    (I)の化合物を製造するにあたり、次式(II) 【化4】 (ここで、R3 、R4 、R5 、Ra 及びRb はそれぞれ
    前記の意味を有する)の化合物に次式(III ) 【化5】 (ここで、R2 は前記の意味を有し、R7 は次式 【化6】 (ここで、R1 は前記の意味を有する)の基を表す)の
    化合物を作用させて相当する式(I)の化合物を得、所
    望ならばこの化合物を変性させることを特徴とする、式
    (I)の化合物の製造方法。
  16. 【請求項16】 次式(IV) 【化7】 (ここで、R1 、R2 、R3 、R4 及びR5 はそれぞれ
    前記の意味を有し、Rは離脱基を表す)の化合物に次式 【化8】 (ここで、Ra 及びRb はそれぞれ前記の意味を有す
    る)のアミンを作用させて相当する式(I)の化合物を
    得、所望ならばこの化合物を変性させることを特徴とす
    る、式(I)の化合物の製造方法。
  17. 【請求項17】 新規な化合物としての、請求項15及
    び16に記載の式(II)及び式(IV)の化合物(ただ
    し、4−アミノ−7−ヒドロキシ−8−メチルベンゾピ
    ラン−2−オンは除く)。
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