JPH1177503A - 眼鏡レンズ研磨用研磨パッドおよびこれを用いた研磨方法 - Google Patents
眼鏡レンズ研磨用研磨パッドおよびこれを用いた研磨方法Info
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- JPH1177503A JPH1177503A JP23632397A JP23632397A JPH1177503A JP H1177503 A JPH1177503 A JP H1177503A JP 23632397 A JP23632397 A JP 23632397A JP 23632397 A JP23632397 A JP 23632397A JP H1177503 A JPH1177503 A JP H1177503A
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- polishing pad
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- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】従来のものよりパッド剥がし作業を大幅に簡素
化することのできる眼鏡レンズ研磨用研磨パッドを提供
する。 【解決手段】眼鏡レンズを研磨加工する際に用いられ
る、研磨皿又はゴム等の弾性材からなるドーム状のポリ
シャヘッドの表面、に貼り付けて使用される研磨パッド
であって、フィルム層、粘着層及び研磨布から構成され
ており、前記フィルム層の面積が前記研磨布のそれと比
べて大きいことを特徴とする。
化することのできる眼鏡レンズ研磨用研磨パッドを提供
する。 【解決手段】眼鏡レンズを研磨加工する際に用いられ
る、研磨皿又はゴム等の弾性材からなるドーム状のポリ
シャヘッドの表面、に貼り付けて使用される研磨パッド
であって、フィルム層、粘着層及び研磨布から構成され
ており、前記フィルム層の面積が前記研磨布のそれと比
べて大きいことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は眼鏡レンズの研磨に
際して用いる研磨パッドおよびこれを用いた眼鏡レンズ
の研磨方法に関する。
際して用いる研磨パッドおよびこれを用いた眼鏡レンズ
の研磨方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、眼鏡レンズの研磨は特開昭４７−
１４７７６に示されるように、仕上げ寸法よりも肉厚の
厚い一般的にセミフィニッシュレンズと呼ばれる研磨加
工前の眼鏡レンズ（以下セミフィニッシュレンズとす
る）を、一般的にアロイと呼ばれる低融点合金を用いて
研磨用の保持具に固定し、この保持具に固定したセミフ
ィニッシュレンズを装用者の処方に応じてほぼ所望の形
状となるように荒削りした後、ラッピング加工に似た砂
掛け加工と研磨加工が施され、レンズの光学面を精密に
仕上げることが行われている。中でも砂掛け加工と研磨
加工ではアルミニウムや硬化プラスチック、発泡ウレタ
ン等をその素材とする研磨皿が用いられる。また、加工
の目的に応じて研磨皿表面に異なる種類の研磨パッドを
貼り付け、砂掛け加工および研磨加工を行っている。具
体的には、砂掛け加工の目的は荒削りされた表面をある
程度の表面粗さになるまで平滑にするとともに、荒削り
時に発生した形状誤差を研磨皿形状に合うように削りと
ることにあり、その加工は＃３００から＃１２００程度
のメッシュのファイニングパッドと呼ばれる砂掛け加工
用の研磨パッドを研磨皿の表面に貼り付け、水をかけな
がら行われる。前記の荒削りの状態によって異なるが、
最終的にはＲｍａｘで１０μｍ以下の表面粗さが得られ
るまで２回以上に分けて加工されるのが通常である。
１４７７６に示されるように、仕上げ寸法よりも肉厚の
厚い一般的にセミフィニッシュレンズと呼ばれる研磨加
工前の眼鏡レンズ（以下セミフィニッシュレンズとす
る）を、一般的にアロイと呼ばれる低融点合金を用いて
研磨用の保持具に固定し、この保持具に固定したセミフ
ィニッシュレンズを装用者の処方に応じてほぼ所望の形
状となるように荒削りした後、ラッピング加工に似た砂
掛け加工と研磨加工が施され、レンズの光学面を精密に
仕上げることが行われている。中でも砂掛け加工と研磨
加工ではアルミニウムや硬化プラスチック、発泡ウレタ
ン等をその素材とする研磨皿が用いられる。また、加工
の目的に応じて研磨皿表面に異なる種類の研磨パッドを
貼り付け、砂掛け加工および研磨加工を行っている。具
体的には、砂掛け加工の目的は荒削りされた表面をある
程度の表面粗さになるまで平滑にするとともに、荒削り
時に発生した形状誤差を研磨皿形状に合うように削りと
ることにあり、その加工は＃３００から＃１２００程度
のメッシュのファイニングパッドと呼ばれる砂掛け加工
用の研磨パッドを研磨皿の表面に貼り付け、水をかけな
がら行われる。前記の荒削りの状態によって異なるが、
最終的にはＲｍａｘで１０μｍ以下の表面粗さが得られ
るまで２回以上に分けて加工されるのが通常である。
【０００３】続く研磨加工の目的は、砂掛け加工された
表面を更に平滑にし所望の光学面に仕上げることにあ
る。研磨加工では、砂掛け加工で使用した研磨皿かこれ
と同一形状の研磨皿表面に不織布でできた研磨加工用の
研磨パッドを貼り付け、スラリー状の遊離砥粒を供給し
ながら行われる。
表面を更に平滑にし所望の光学面に仕上げることにあ
る。研磨加工では、砂掛け加工で使用した研磨皿かこれ
と同一形状の研磨皿表面に不織布でできた研磨加工用の
研磨パッドを貼り付け、スラリー状の遊離砥粒を供給し
ながら行われる。
【０００４】また、近年では図１２に示されるように、
前記の研磨皿を用いずにゴム等の弾性材で中空ドーム状
のポリシャヘッドを構成し、このポリシャヘッドの表面
に研磨パッドを貼り付けるとともに圧縮空気１０を前記
中空ドーム内に送り込み、ワーク形状に倣って研磨加工
を行う方法も特開平８−２０６９５２に示されている。
前記の研磨皿を用いずにゴム等の弾性材で中空ドーム状
のポリシャヘッドを構成し、このポリシャヘッドの表面
に研磨パッドを貼り付けるとともに圧縮空気１０を前記
中空ドーム内に送り込み、ワーク形状に倣って研磨加工
を行う方法も特開平８−２０６９５２に示されている。
【０００５】一方、これら砂掛けおよび研磨加工で使用
される研磨パッドの多くは、図９に示すような花びら形
状をしており、図１１に示すように研磨皿、もしくは図
１２に示す弾性材からなる中空ドーム状のポリシャヘッ
ドの表面に直接貼り付けて用いられている。また、これ
らの加工に用いられる研磨パッドは、ワークを１つ加工
する度に貼り替える、いわゆるディスポーザブルタイプ
が一般的に使用されている。
される研磨パッドの多くは、図９に示すような花びら形
状をしており、図１１に示すように研磨皿、もしくは図
１２に示す弾性材からなる中空ドーム状のポリシャヘッ
ドの表面に直接貼り付けて用いられている。また、これ
らの加工に用いられる研磨パッドは、ワークを１つ加工
する度に貼り替える、いわゆるディスポーザブルタイプ
が一般的に使用されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
従来技術に示した研磨皿、あるいは弾性材からなるドー
ム状のポリシャヘッドの表面に研磨パッドを貼り付ける
方法では、第一に、研磨皿、もしくは前記ポリシャヘッ
ドの表面に直接研磨パッドを貼り付けているため、加工
が完了した後に研磨皿、あるいは前記ポリシャヘッドの
表面から使用済みの研磨パッドを剥がす際、研磨パッド
と研磨皿、あるいは前記ポリシャヘッドの表面との間に
作業者の指の爪や先端が薄く鋭角なヘラなどを挿入して
パッド剥がし作業を行う必要があり、多大な工数を必要
としていた。
従来技術に示した研磨皿、あるいは弾性材からなるドー
ム状のポリシャヘッドの表面に研磨パッドを貼り付ける
方法では、第一に、研磨皿、もしくは前記ポリシャヘッ
ドの表面に直接研磨パッドを貼り付けているため、加工
が完了した後に研磨皿、あるいは前記ポリシャヘッドの
表面から使用済みの研磨パッドを剥がす際、研磨パッド
と研磨皿、あるいは前記ポリシャヘッドの表面との間に
作業者の指の爪や先端が薄く鋭角なヘラなどを挿入して
パッド剥がし作業を行う必要があり、多大な工数を必要
としていた。
【０００７】第二に、特に弾性材からなるドーム状のポ
リシャヘッドを用いる場合、その原理上、ワークを前記
ポリシャヘッドに押し付けた力で図１２に示される弾性
材からなる膜９がワーク形状に応じて変形するため、研
磨パッドと前記ポリシャヘッドとの間の接着強度が不十
分だとワークのエッジが接着部分に侵入し易くなり、場
合によっては加工途中で研磨パッドが前記ポリシャヘッ
ド表面から剥がれてしまうことがある。研磨パッドが剥
がれると、剥がれた研磨パッドがワーク表面に研磨キズ
をつけてしまうため、大抵の場合は所望の外観品質を得
ることができなくなる。よって、少なくとも加工完了ま
での接着力を確保するために、強力な接着強度を有する
接着材料を用いらざるを得ない。その結果、加工完了後
に研磨パッドを前記ポリシャヘッド表面から剥がす時に
は、塩化メチレンやアセトン等の有機溶剤を使用して接
着剤を溶解する必要があった。
リシャヘッドを用いる場合、その原理上、ワークを前記
ポリシャヘッドに押し付けた力で図１２に示される弾性
材からなる膜９がワーク形状に応じて変形するため、研
磨パッドと前記ポリシャヘッドとの間の接着強度が不十
分だとワークのエッジが接着部分に侵入し易くなり、場
合によっては加工途中で研磨パッドが前記ポリシャヘッ
ド表面から剥がれてしまうことがある。研磨パッドが剥
がれると、剥がれた研磨パッドがワーク表面に研磨キズ
をつけてしまうため、大抵の場合は所望の外観品質を得
ることができなくなる。よって、少なくとも加工完了ま
での接着力を確保するために、強力な接着強度を有する
接着材料を用いらざるを得ない。その結果、加工完了後
に研磨パッドを前記ポリシャヘッド表面から剥がす時に
は、塩化メチレンやアセトン等の有機溶剤を使用して接
着剤を溶解する必要があった。
【０００８】第三に、このような従来の研磨パッドの貼
り付け方では、研磨パッドを剥す作業は前述しているよ
うに手作業に頼らざるを得ないため、使用済みの研磨パ
ッドを剥がす作業の自動化は、その構成上非常に困難な
状況にあった。
り付け方では、研磨パッドを剥す作業は前述しているよ
うに手作業に頼らざるを得ないため、使用済みの研磨パ
ッドを剥がす作業の自動化は、その構成上非常に困難な
状況にあった。
【０００９】そこで本発明はこのような問題点を除去す
るためになされたものであり、眼鏡レンズを研磨加工す
る際に用いられる研磨皿、あるいはゴム等の弾性材から
なるドーム状のポリシャヘッドの表面に貼り付けて使用
される研磨部材において、該研磨部材がフィルム層、粘
着層、研磨布とで構成されていて、前記フィルム層の面
積が前記研磨布のそれと比して大なる研磨パッド、もし
くは前記の構成の研磨パッドで前記フィルム層と前記研
磨布とが一体で成形されている研磨パッド、もしくは前
記の何れかに記載の研磨パッドにおいて、パッドを剥が
す際に把持される口取り部が前記フィルム層または前記
研磨布に設けられた研磨パッド、を用いることにより研
磨皿あるいは前記のポリシャヘッドの表面から使用済み
の研磨パッドを剥がす際に、図１、図２に示すフィルム
層の外周部６、あるいは図４に示す口取り部３を指で把
持してパッドを剥がすことができるため、指の爪や先端
が薄く鋭角なヘラなどを用いて作業を行う必要がなくな
り、研磨パッドを剥がす作業の簡素化を図ることができ
る。
るためになされたものであり、眼鏡レンズを研磨加工す
る際に用いられる研磨皿、あるいはゴム等の弾性材から
なるドーム状のポリシャヘッドの表面に貼り付けて使用
される研磨部材において、該研磨部材がフィルム層、粘
着層、研磨布とで構成されていて、前記フィルム層の面
積が前記研磨布のそれと比して大なる研磨パッド、もし
くは前記の構成の研磨パッドで前記フィルム層と前記研
磨布とが一体で成形されている研磨パッド、もしくは前
記の何れかに記載の研磨パッドにおいて、パッドを剥が
す際に把持される口取り部が前記フィルム層または前記
研磨布に設けられた研磨パッド、を用いることにより研
磨皿あるいは前記のポリシャヘッドの表面から使用済み
の研磨パッドを剥がす際に、図１、図２に示すフィルム
層の外周部６、あるいは図４に示す口取り部３を指で把
持してパッドを剥がすことができるため、指の爪や先端
が薄く鋭角なヘラなどを用いて作業を行う必要がなくな
り、研磨パッドを剥がす作業の簡素化を図ることができ
る。
【００１０】次に本発明による研磨パッドの構成を図２
を用いて説明する。まず、フィルム層２と研磨布１との
間に設けた符号４に示される粘着層Ａ（以下粘着層Ａと
する）は、研磨加工中にフィルム層２と研磨布１とが剥
がれることのない接着強度を有し、また研磨皿８あるい
は弾性材からなる膜９の表面とフィルム層２との間に設
けた符号５に示される粘着層Ｂ（以下粘着層Ｂとする）
は、研磨加工後に研磨皿８あるいは弾性材からなる膜９
の表面からフィルム層２を容易に剥がすことのできる接
着強度を有する必要がある。なお、粘着層Ｂの接着強度
を低下させても本発明の構成であれば加工途中に研磨パ
ッドが剥がれてしまうことはない。その理由は、図１、
図４、図７、図８に示すように、フィルム層２の面積は
研磨布１の面積よりも大きく設定してあり、フィルム層
２は従来の研磨パッド１２のみを研磨皿あるいは前記ポ
リシャヘッドに貼り付ける場合よりも広い面積で研磨皿
あるいは前記ポリシャヘッドに接触しており、これによ
って十分な接着強度が確保できているためである。な
お、粘着層Ａおよび粘着層Ｂを設ける面積とその厚み
は、前記の特性すなわち所望の接着強度が得られれば特
に限定されない。
を用いて説明する。まず、フィルム層２と研磨布１との
間に設けた符号４に示される粘着層Ａ（以下粘着層Ａと
する）は、研磨加工中にフィルム層２と研磨布１とが剥
がれることのない接着強度を有し、また研磨皿８あるい
は弾性材からなる膜９の表面とフィルム層２との間に設
けた符号５に示される粘着層Ｂ（以下粘着層Ｂとする）
は、研磨加工後に研磨皿８あるいは弾性材からなる膜９
の表面からフィルム層２を容易に剥がすことのできる接
着強度を有する必要がある。なお、粘着層Ｂの接着強度
を低下させても本発明の構成であれば加工途中に研磨パ
ッドが剥がれてしまうことはない。その理由は、図１、
図４、図７、図８に示すように、フィルム層２の面積は
研磨布１の面積よりも大きく設定してあり、フィルム層
２は従来の研磨パッド１２のみを研磨皿あるいは前記ポ
リシャヘッドに貼り付ける場合よりも広い面積で研磨皿
あるいは前記ポリシャヘッドに接触しており、これによ
って十分な接着強度が確保できているためである。な
お、粘着層Ａおよび粘着層Ｂを設ける面積とその厚み
は、前記の特性すなわち所望の接着強度が得られれば特
に限定されない。
【００１１】なお、前記のフィルム層２の基材は、伸張
性のあるものであれば特に限定されない。また、フィル
ム層２の数ヶ所に研磨布１のように切り込みを入れるこ
とで、曲率半径が小さい研磨皿やポリシャヘッドにも皺
をよらせることなく研磨パッドを貼ることが可能であ
る。
性のあるものであれば特に限定されない。また、フィル
ム層２の数ヶ所に研磨布１のように切り込みを入れるこ
とで、曲率半径が小さい研磨皿やポリシャヘッドにも皺
をよらせることなく研磨パッドを貼ることが可能であ
る。
【００１２】また、図３に示すようにフィルム層の外周
部６あるいは口取り部３も含んだ全面に粘着層を設けれ
ば、研磨条件等の変更のために接着強度を更にアップさ
せて使う必要がある場合等にも対応可能である。
部６あるいは口取り部３も含んだ全面に粘着層を設けれ
ば、研磨条件等の変更のために接着強度を更にアップさ
せて使う必要がある場合等にも対応可能である。
【００１３】以上の構成の研磨パッドを用いることによ
り、研磨パッド剥がし作業に必要だった工数を大幅に減
らすことが可能であるばかりでなく、塩化メチレンやア
セトン等の有機溶剤を用いずに研磨パッドを剥がすこと
が可能となった。
り、研磨パッド剥がし作業に必要だった工数を大幅に減
らすことが可能であるばかりでなく、塩化メチレンやア
セトン等の有機溶剤を用いずに研磨パッドを剥がすこと
が可能となった。
【００１４】更に、口取り部３を利用することで研磨パ
ッド剥がし作業を容易に自動化することが可能となる。
ッド剥がし作業を容易に自動化することが可能となる。
【００１５】本発明の目的はこれらの研磨パッド、およ
びこれを用いた研磨方法を提供することにある。
びこれを用いた研磨方法を提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】請求項１の眼鏡レンズ研
磨用研磨パッドは、眼鏡レンズを研磨加工する際に用い
られる、研磨皿又はゴム等の弾性材からなるドーム状の
ポリシャヘッド、の表面に貼り付けて使用される研磨パ
ッドであって、フィルム層、粘着層及び研磨布から構成
されており、前記フィルム層の面積が前記研磨布の面積
と比べて大きいことを特徴とする。
磨用研磨パッドは、眼鏡レンズを研磨加工する際に用い
られる、研磨皿又はゴム等の弾性材からなるドーム状の
ポリシャヘッド、の表面に貼り付けて使用される研磨パ
ッドであって、フィルム層、粘着層及び研磨布から構成
されており、前記フィルム層の面積が前記研磨布の面積
と比べて大きいことを特徴とする。
【００１７】請求項２の眼鏡レンズ研磨用研磨パッド
は、請求項１の眼鏡レンズ研磨用研磨パッドにおいて、
前記フィルム層と前記研磨布とが一体で成形されていて
いることを特徴とする。
は、請求項１の眼鏡レンズ研磨用研磨パッドにおいて、
前記フィルム層と前記研磨布とが一体で成形されていて
いることを特徴とする。
【００１８】請求項３の眼鏡レンズ研磨用研磨パッド
は、請求項１又は２の眼鏡レンズ研磨用研磨パッドにお
いて、パッドを剥がす際に把持される口取り部が前記フ
ィルム層または前記研磨布に設けられたことを特徴とす
る。
は、請求項１又は２の眼鏡レンズ研磨用研磨パッドにお
いて、パッドを剥がす際に把持される口取り部が前記フ
ィルム層または前記研磨布に設けられたことを特徴とす
る。
【００１９】請求項４の眼鏡レンズを研磨加工する方法
は、請求項１乃至３のいずれかの眼鏡レンズ研磨用研磨
パッドを用いることを特徴とする。
は、請求項１乃至３のいずれかの眼鏡レンズ研磨用研磨
パッドを用いることを特徴とする。
【００２０】
【発明の実施の形態】図２は本発明の構成による、フィ
ルム層２と研磨布１との間の粘着層Ａは研磨加工中にフ
ィルム層２と研磨布１とが剥がれることのない接着強度
を有し、また研磨皿８あるいは弾性材からなる膜９の表
面とフィルム層２との間の粘着層Ｂは、研磨加工後に研
磨皿８あるいは弾性材からなる膜９の表面からフィルム
層２を容易に剥がすことのできる接着強度を有する研磨
パッドを示す図。但し、図２の例ではフィルム層の外周
部６には粘着層Ｂを設けなかった。また、図１の例では
研磨布１とフィルム層２との面積の比は１：１．４４で
ある。図５は、フィルム層２、粘着層Ａ、粘着層Ｂ、研
磨布１の構成は図２と同じで、かつ研磨パッドを剥がす
際に把持される口取り部３がフィルム層２に設けられた
研磨パッドを示す図である。なお、図５に示す例では口
取り部３を半円状にしたが、指や機械で把持できればそ
の形状および大きさは特に限定されるものではなく、用
途に応じてアレンジすれば良い。また、研磨布１とフィ
ルム層２の大きさも本実施例に限られたものではない。
以下これらの図面に基づいて実施例を説明するが、当然
のことながら本発明はこの実施例のみに限定されるもの
ではない。
ルム層２と研磨布１との間の粘着層Ａは研磨加工中にフ
ィルム層２と研磨布１とが剥がれることのない接着強度
を有し、また研磨皿８あるいは弾性材からなる膜９の表
面とフィルム層２との間の粘着層Ｂは、研磨加工後に研
磨皿８あるいは弾性材からなる膜９の表面からフィルム
層２を容易に剥がすことのできる接着強度を有する研磨
パッドを示す図。但し、図２の例ではフィルム層の外周
部６には粘着層Ｂを設けなかった。また、図１の例では
研磨布１とフィルム層２との面積の比は１：１．４４で
ある。図５は、フィルム層２、粘着層Ａ、粘着層Ｂ、研
磨布１の構成は図２と同じで、かつ研磨パッドを剥がす
際に把持される口取り部３がフィルム層２に設けられた
研磨パッドを示す図である。なお、図５に示す例では口
取り部３を半円状にしたが、指や機械で把持できればそ
の形状および大きさは特に限定されるものではなく、用
途に応じてアレンジすれば良い。また、研磨布１とフィ
ルム層２の大きさも本実施例に限られたものではない。
以下これらの図面に基づいて実施例を説明するが、当然
のことながら本発明はこの実施例のみに限定されるもの
ではない。
【００２１】（実施例１）本実施例ではプラスチック製
の眼鏡レンズを研磨皿を用いた研磨方法で製造する際に
使用する研磨パッドとそれを用いた研磨方法について説
明する。
の眼鏡レンズを研磨皿を用いた研磨方法で製造する際に
使用する研磨パッドとそれを用いた研磨方法について説
明する。
【００２２】まず、装用者の処方に基づきセミフィニッ
シュレンズと呼ばれる研磨加工前の眼鏡レンズ（以下セ
ミフィニッシュレンズとする）を選択した後、低融点合
金を用いて研磨用の保持具に固定し、この保持具に固定
したセミフィニッシュレンズを装用者の処方に応じてほ
ぼ所望の形状となるように図示しない形状創成手段で荒
削りした。続いて図示しないが図１、および図２に示す
ものと同じ構成で作成された砂掛け加工用の研磨パッド
を研磨皿に貼り付け、注水しながら図示しない研磨機で
約４５秒砂掛けした。加工完了後、次工程の研磨加工を
行うために前記の砂掛け加工用の研磨パッドの外周部を
指で把持して研磨皿から剥がしたところ、従来とは比べ
ものにならないほど簡単に前記の研磨パッドを剥がすこ
とができた。なお、その時研磨皿には前記の研磨パッド
の粘着材Ｂは全く残っておらず、いわゆる糊残りにはな
らなかった。
シュレンズと呼ばれる研磨加工前の眼鏡レンズ（以下セ
ミフィニッシュレンズとする）を選択した後、低融点合
金を用いて研磨用の保持具に固定し、この保持具に固定
したセミフィニッシュレンズを装用者の処方に応じてほ
ぼ所望の形状となるように図示しない形状創成手段で荒
削りした。続いて図示しないが図１、および図２に示す
ものと同じ構成で作成された砂掛け加工用の研磨パッド
を研磨皿に貼り付け、注水しながら図示しない研磨機で
約４５秒砂掛けした。加工完了後、次工程の研磨加工を
行うために前記の砂掛け加工用の研磨パッドの外周部を
指で把持して研磨皿から剥がしたところ、従来とは比べ
ものにならないほど簡単に前記の研磨パッドを剥がすこ
とができた。なお、その時研磨皿には前記の研磨パッド
の粘着材Ｂは全く残っておらず、いわゆる糊残りにはな
らなかった。
【００２３】次に本発明の一例の図１、および図２に示
す研磨加工用の研磨パッドを研磨皿８に貼り付け、スラ
リー状の遊離砥粒を供給しながら図示しない研磨機で約
４分１０秒研磨した。加工完了後、研磨加工用の研磨パ
ッドのフィルム層の外周部６を指で把持して研磨皿８か
ら剥がしたところ、前記と同様、非常に簡単に研磨加工
用の研磨パッドを剥がすことができた。
す研磨加工用の研磨パッドを研磨皿８に貼り付け、スラ
リー状の遊離砥粒を供給しながら図示しない研磨機で約
４分１０秒研磨した。加工完了後、研磨加工用の研磨パ
ッドのフィルム層の外周部６を指で把持して研磨皿８か
ら剥がしたところ、前記と同様、非常に簡単に研磨加工
用の研磨パッドを剥がすことができた。
【００２４】なお、このようにして研磨されたレンズは
外観品質、寸度精度ともに所望の品質および精度を十分
に満足するものだった。
外観品質、寸度精度ともに所望の品質および精度を十分
に満足するものだった。
【００２５】（実施例２）本実施例ではプラスチック製
の眼鏡レンズを研磨皿を用いた研磨方法で製造する際に
使用する研磨パッドとそれを用いた研磨方法について説
明する。
の眼鏡レンズを研磨皿を用いた研磨方法で製造する際に
使用する研磨パッドとそれを用いた研磨方法について説
明する。
【００２６】まず、装用者の処方に基づきセミフィニッ
シュレンズと呼ばれる研磨加工前の眼鏡レンズ（以下セ
ミフィニッシュレンズとする）を選択した後、低融点合
金を用いて研磨用の保持具に固定し、この保持具に固定
したセミフィニッシュレンズを装用者の処方に応じてほ
ぼ所望の形状となるように図示しない形状創成手段で荒
削りした。続いて図示しないが図４に示すものと同じ構
成で作成された砂掛け加工用の研磨パッドを研磨皿に貼
り付け、注水しながら図示しない研磨機で約１分１５秒
砂掛けした。加工完了後、次工程の研磨加工を行うため
に前記の砂掛け加工用の研磨パッドの口取り部を指で把
持して研磨皿から剥がしたところ、従来とは比べものに
ならないほど簡単に前記の研磨パッドを剥がすことがで
きた。なお、その時研磨皿には実施例１と同様に研磨パ
ッドの粘着材は全く残っていなかった。
シュレンズと呼ばれる研磨加工前の眼鏡レンズ（以下セ
ミフィニッシュレンズとする）を選択した後、低融点合
金を用いて研磨用の保持具に固定し、この保持具に固定
したセミフィニッシュレンズを装用者の処方に応じてほ
ぼ所望の形状となるように図示しない形状創成手段で荒
削りした。続いて図示しないが図４に示すものと同じ構
成で作成された砂掛け加工用の研磨パッドを研磨皿に貼
り付け、注水しながら図示しない研磨機で約１分１５秒
砂掛けした。加工完了後、次工程の研磨加工を行うため
に前記の砂掛け加工用の研磨パッドの口取り部を指で把
持して研磨皿から剥がしたところ、従来とは比べものに
ならないほど簡単に前記の研磨パッドを剥がすことがで
きた。なお、その時研磨皿には実施例１と同様に研磨パ
ッドの粘着材は全く残っていなかった。
【００２７】次に本発明の一例の図４に示す研磨加工用
の研磨パッドを研磨皿８に貼り付け、スラリー状の遊離
砥粒を供給しながら図示しない研磨機で約３分４５秒研
磨した。加工完了後、研磨加工用の研磨パッドの口取り
部３を指で把持して研磨皿８から剥がしたところ、前記
と同様、非常に簡単に研磨加工用の研磨パッドを剥がす
ことができた。
の研磨パッドを研磨皿８に貼り付け、スラリー状の遊離
砥粒を供給しながら図示しない研磨機で約３分４５秒研
磨した。加工完了後、研磨加工用の研磨パッドの口取り
部３を指で把持して研磨皿８から剥がしたところ、前記
と同様、非常に簡単に研磨加工用の研磨パッドを剥がす
ことができた。
【００２８】なお、このようにして研磨されたレンズは
外観品質、寸度精度ともに所望の品質および精度を十分
に満足するものだった。
外観品質、寸度精度ともに所望の品質および精度を十分
に満足するものだった。
【００２９】（実施例３）本実施例では、プラスチック
製の眼鏡レンズをゴム等の弾性材からなる中空ドーム状
のポリシャヘッドを用いた研磨方法で製造する際に使用
する研磨パッドとそれを用いた研磨方法について説明す
る。
製の眼鏡レンズをゴム等の弾性材からなる中空ドーム状
のポリシャヘッドを用いた研磨方法で製造する際に使用
する研磨パッドとそれを用いた研磨方法について説明す
る。
【００３０】まず、実施例１、２と同様に装用者の処方
に基づきセミフィニッシュレンズと呼ばれる研磨加工前
の眼鏡レンズ（以下セミフィニッシュレンズとする）を
選択した後、低融点合金を用いて研磨用の保持具に固定
し、この保持具に固定したセミフィニッシュレンズを装
用者の処方に応じてほぼ所望の形状となるように図示し
ない形状創成手段で荒削りした。続いて、本実施例では
砂掛け加工の代わりに前記の形状創成手段で加工条件を
変更して仕上げ削りを行い、砂掛け加工上がりとほぼ同
等の仕上げ面を得た。次に、本発明の一例の図４に示す
研磨加工用の研磨パッドを図８に示すように弾性材から
なる膜９に貼り付け、スラリー状の遊離砥粒を供給しな
がら図示しない研磨機で約１０分２５秒研磨加工した。
加工完了後、研磨加工用の研磨パッドの口取り部３を指
で把持して弾性材からなる膜９から剥がしたところ、従
来とは比較にならないほど簡単に使用済みの研磨パッド
を剥がすことができた。なお、研磨パッドを剥した時、
弾性材からなる膜９の表面には研磨パッドの粘着材Ｂは
全く残っていなかったこのようにして研磨加工されたレ
ンズは外観品質、寸度精度ともに所望の品質および精度
を十分に満足するものだった。
に基づきセミフィニッシュレンズと呼ばれる研磨加工前
の眼鏡レンズ（以下セミフィニッシュレンズとする）を
選択した後、低融点合金を用いて研磨用の保持具に固定
し、この保持具に固定したセミフィニッシュレンズを装
用者の処方に応じてほぼ所望の形状となるように図示し
ない形状創成手段で荒削りした。続いて、本実施例では
砂掛け加工の代わりに前記の形状創成手段で加工条件を
変更して仕上げ削りを行い、砂掛け加工上がりとほぼ同
等の仕上げ面を得た。次に、本発明の一例の図４に示す
研磨加工用の研磨パッドを図８に示すように弾性材から
なる膜９に貼り付け、スラリー状の遊離砥粒を供給しな
がら図示しない研磨機で約１０分２５秒研磨加工した。
加工完了後、研磨加工用の研磨パッドの口取り部３を指
で把持して弾性材からなる膜９から剥がしたところ、従
来とは比較にならないほど簡単に使用済みの研磨パッド
を剥がすことができた。なお、研磨パッドを剥した時、
弾性材からなる膜９の表面には研磨パッドの粘着材Ｂは
全く残っていなかったこのようにして研磨加工されたレ
ンズは外観品質、寸度精度ともに所望の品質および精度
を十分に満足するものだった。
【００３１】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の研磨パッド
およびこれを用いた研磨方法によれば、眼鏡レンズを研
磨加工する際に用いられる研磨皿、あるいはゴム等の弾
性材からなるドーム状のポリシャヘッドの表面に貼り付
けて使用される研磨部材において、該研磨部材がフィル
ム層、粘着層、研磨布とで構成されていて、前記フィル
ム層の面積が前記研磨布のそれと比して大なる研磨パッ
ド、もしくは前記の構成の研磨パッドで前記フィルム層
と前記研磨布とが一体で成形されていている研磨パッ
ド、もしくは前記の何れかの研磨パッドにおいて、パッ
ドを剥がす際に把持される口取り部が前記フィルム層ま
たは前記研磨布に設けられた研磨パッド、を用いること
により、研磨皿あるいは前記ポリシャヘッドの表面から
研磨パッドを剥がす際に、図１、図２に示すフィルム層
の外周部６、あるいは図４に示す口取り部３を指で把持
してパッドを剥がすことができるため、指の爪や先端が
薄く鋭角なヘラなどを用いて作業を行う必要がなくな
り、作業の簡素化が図られる。その結果、この作業に必
要だった工数を大幅に減らすことが可能となるばかりで
なく、塩化メチレンやアセトン等の有機溶剤を用いずに
研磨パッドを剥がすことができる。また、口取り部３を
利用することで研磨パッド剥がし作業を容易に自動化す
ることができるという効果をも有する。
およびこれを用いた研磨方法によれば、眼鏡レンズを研
磨加工する際に用いられる研磨皿、あるいはゴム等の弾
性材からなるドーム状のポリシャヘッドの表面に貼り付
けて使用される研磨部材において、該研磨部材がフィル
ム層、粘着層、研磨布とで構成されていて、前記フィル
ム層の面積が前記研磨布のそれと比して大なる研磨パッ
ド、もしくは前記の構成の研磨パッドで前記フィルム層
と前記研磨布とが一体で成形されていている研磨パッ
ド、もしくは前記の何れかの研磨パッドにおいて、パッ
ドを剥がす際に把持される口取り部が前記フィルム層ま
たは前記研磨布に設けられた研磨パッド、を用いること
により、研磨皿あるいは前記ポリシャヘッドの表面から
研磨パッドを剥がす際に、図１、図２に示すフィルム層
の外周部６、あるいは図４に示す口取り部３を指で把持
してパッドを剥がすことができるため、指の爪や先端が
薄く鋭角なヘラなどを用いて作業を行う必要がなくな
り、作業の簡素化が図られる。その結果、この作業に必
要だった工数を大幅に減らすことが可能となるばかりで
なく、塩化メチレンやアセトン等の有機溶剤を用いずに
研磨パッドを剥がすことができる。また、口取り部３を
利用することで研磨パッド剥がし作業を容易に自動化す
ることができるという効果をも有する。
【図１】本発明による研磨パッドを表す図。
【図２】図１に示す研磨パッドの一例で、フィルム層２
の外周部を除いた部分に粘着層Ｂを設けた研磨パッドの
断面図。
の外周部を除いた部分に粘着層Ｂを設けた研磨パッドの
断面図。
【図３】図１に示す研磨パッドの一例で、フィルム層２
の全面に粘着層Ｂを設けた研磨パッドの断面図。
の全面に粘着層Ｂを設けた研磨パッドの断面図。
【図４】本発明の一例で、パッドを剥がす際に把持され
る口取り部３がフィルム層２に設けられた研磨パッドを
表す図。
る口取り部３がフィルム層２に設けられた研磨パッドを
表す図。
【図５】図４に示す研磨パッドの断面図。
【図６】本発明の一例で、パッドを剥がす際に把持され
る口取り部３が設けられたフィルム層２と研磨布１とが
一体で成形されている研磨パッドの断面図。
る口取り部３が設けられたフィルム層２と研磨布１とが
一体で成形されている研磨パッドの断面図。
【図７】図６に示す研磨パッドを研磨皿の表面に貼り付
けた状態を表す図。
けた状態を表す図。
【図８】図６に示す研磨パッドを弾性材からなる中空ド
ーム状のポリシャヘッドの表面に貼り付けた状態を表す
図。
ーム状のポリシャヘッドの表面に貼り付けた状態を表す
図。
【図９】従来用いられている研磨パッドを表す図。
【図１０】従来用いられている研磨パッドの断面図。
【図１１】従来用いられている研磨パッドを研磨皿の表
面に貼り付けた状態を表す図。
面に貼り付けた状態を表す図。
【図１２】従来用いられている研磨パッドを弾性材から
なる中空ドーム状のポリシャヘッドの表面に貼り付けた
状態を表す図。
なる中空ドーム状のポリシャヘッドの表面に貼り付けた
状態を表す図。
１ 研磨布 ２ フィルム層 ３ 口取り部 ４ 粘着層Ａ ５ 粘着層Ｂ ６ フィルム層の外周部 ７ 研磨皿の保持部 ８ 研磨皿 ９ 弾性材からなる膜 １０ 圧縮空気 １１ ポリシャ取付台 １２ 従来の研磨パッド １３ 従来の研磨パッドの粘着層
Claims (4)
- 【請求項１】眼鏡レンズを研磨加工する際に用いられ
る、研磨皿又はゴム等の弾性材からなるドーム状のポリ
シャヘッド、の表面に貼り付けて使用される研磨パッド
であって、フィルム層、粘着層及び研磨布から構成され
ており、前記フィルム層の面積が前記研磨布の面積と比
べて大きいことを特徴とする眼鏡レンズ研磨用研磨パッ
ド。 - 【請求項２】請求項１に記載の眼鏡レンズ研磨用研磨パ
ッドにおいて、前記フィルム層と前記研磨布とが一体で
成形されていていることを特徴とする眼鏡レンズ研磨用
研磨パッド。 - 【請求項３】請求項１又は２に記載の眼鏡レンズ研磨用
研磨パッドにおいて、パッドを剥がす際に把持される口
取り部が前記フィルム層または前記研磨布に設けられた
ことを特徴とする眼鏡レンズ研磨用研磨パッド。 - 【請求項４】請求項１乃至３のいずれかに記載の眼鏡レ
ンズ研磨用研磨パッドを用いることを特徴とする眼鏡レ
ンズの研磨方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23632397A JPH1177503A (ja) | 1997-09-01 | 1997-09-01 | 眼鏡レンズ研磨用研磨パッドおよびこれを用いた研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23632397A JPH1177503A (ja) | 1997-09-01 | 1997-09-01 | 眼鏡レンズ研磨用研磨パッドおよびこれを用いた研磨方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1177503A true JPH1177503A (ja) | 1999-03-23 |
Family
ID=16999111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23632397A Withdrawn JPH1177503A (ja) | 1997-09-01 | 1997-09-01 | 眼鏡レンズ研磨用研磨パッドおよびこれを用いた研磨方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1177503A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002055261A1 (fr) * | 2001-01-05 | 2002-07-18 | Seiko Epson Corporation | Polisseuse et procede de polissage |
| WO2003059573A1 (en) * | 2002-01-15 | 2003-07-24 | Seiko Epson Corporation | Polishing method and polishing device |
| US7500903B2 (en) | 2002-01-09 | 2009-03-10 | Hoya Corporation | Polishing apparatus |
| CN103009211A (zh) * | 2011-09-28 | 2013-04-03 | 上海双明光学科技有限公司 | 一种反射镜双面抛光用安装机构 |
| CN110370124A (zh) * | 2019-07-27 | 2019-10-25 | 丹阳丹耀光学有限公司 | 基于在二十轴设备上使用聚氨酯抛光微小镜片的工艺 |
-
1997
- 1997-09-01 JP JP23632397A patent/JPH1177503A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002055261A1 (fr) * | 2001-01-05 | 2002-07-18 | Seiko Epson Corporation | Polisseuse et procede de polissage |
| EP1366858A1 (en) * | 2001-01-05 | 2003-12-03 | Seiko Epson Corporation | Polisher and polishing method |
| US6929534B2 (en) | 2001-01-05 | 2005-08-16 | Seiko Epson Corporation | Polisher and polishing method |
| EP1366858A4 (en) * | 2001-01-05 | 2006-03-15 | Seiko Epson Corp | POLISHING DEVICE AND METHOD |
| US7500903B2 (en) | 2002-01-09 | 2009-03-10 | Hoya Corporation | Polishing apparatus |
| WO2003059573A1 (en) * | 2002-01-15 | 2003-07-24 | Seiko Epson Corporation | Polishing method and polishing device |
| US6945849B2 (en) | 2002-01-15 | 2005-09-20 | Seiko Epson Corporation | Polishing method and polishing device |
| KR100581708B1 (ko) * | 2002-01-15 | 2006-05-22 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 연마 방법 및 연마 장치 |
| CN103009211A (zh) * | 2011-09-28 | 2013-04-03 | 上海双明光学科技有限公司 | 一种反射镜双面抛光用安装机构 |
| CN110370124A (zh) * | 2019-07-27 | 2019-10-25 | 丹阳丹耀光学有限公司 | 基于在二十轴设备上使用聚氨酯抛光微小镜片的工艺 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20051207 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20051213 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20060106 |