JPH0825198A - 磁気ヘッドにおけるギャップ対向面の鏡面研磨方法及び平面研削盤 - Google Patents

磁気ヘッドにおけるギャップ対向面の鏡面研磨方法及び平面研削盤

Info

Publication number
JPH0825198A
JPH0825198A JP19116694A JP19116694A JPH0825198A JP H0825198 A JPH0825198 A JP H0825198A JP 19116694 A JP19116694 A JP 19116694A JP 19116694 A JP19116694 A JP 19116694A JP H0825198 A JPH0825198 A JP H0825198A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polishing
work
grindstone
face plate
mirror
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP19116694A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2916746B2 (ja
Inventor
Jiro Osada
二郎 長田
Takehiro Fujiwara
武弘 藤原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Akai Electric Co Ltd
Original Assignee
Akai Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Akai Electric Co Ltd filed Critical Akai Electric Co Ltd
Priority to JP19116694A priority Critical patent/JP2916746B2/ja
Publication of JPH0825198A publication Critical patent/JPH0825198A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2916746B2 publication Critical patent/JP2916746B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ドレス材をワーク貼り付け面盤に貼り付け、
ワークの研磨に伴って砥石をドレッシングし、この砥石
の目づまりを防止する。従って、ワークである、トラッ
ク幅規制用の溝にガラスがモールドされたコアブロック
にチッピング、カケ、むしれ等を生ぜず、短時間で研磨
ができる。ドレス材はワークと同程度に摩滅するので、
新たなワークを研磨する際にドレス材をも交換すること
により、研磨作業と同時に砥石がドレッシングされる。
ドレス材はワックスによって前記面盤に貼り付けられる
ので、交換が容易である。 【構成】 ワーク15を平面研削盤10を用いて研磨す
る。前記研削盤のワーク貼り付け面盤14に、砥石13
の研磨による摩滅速度が前記ワーク15と同程度であっ
て、かつ前記ワーク15と同程度の、前記面盤14から
の高さを有するドレス材16をワックスにより固定して
ワーク15を研磨する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は磁気ヘッドにおけるギ
ャップ対向面の鏡面研磨方法及びこの方法に直接用いる
平面研削盤に関するものであり、特にVTR(ビデオテ
ープレコーダー)用の磁気ヘッドにおけるギャップ対向
面の鏡面研磨に好適なものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、VTR用の磁気ヘッドの製造に
際しては、次のような工程を含むのが普通である。図2
はこの工程を説明するためのものであり、(a)に示す
ように、コアブロック1にはV字状のトラック幅規制用
の溝2を設けて、この溝2にガラス3を流し込んで固化
(ガラスモールド)させる。このように構成されたコア
ブロック4と、このブロック4と略同様に構成されたコ
アブロック5とを、図示していないガラスよりなるギャ
ップ材を介して図2(b)のように突合せ、この状態で
加熱してガラス3及び前記ギャップ材となるガラスによ
り前記コアブロック4,5を互いに溶着して固定する。
尚、図ではコアブロック4のみに巻線窓6となる溝7を
設けている。
【0003】前記の溶着により固定されて形成されたブ
ロック8は、磁気テープ当接面となる面9を仕上げ加工
した後、2点鎖線で示すようにスライスする。そして、
前記巻線窓6に巻線を施すことにより複数個の磁気ヘッ
ドが得られる。ところで、前記コアブロック4と5を突
き合わせる際の突合せ面となるギャップ対向面10は、
ラッピングマシーンにより、荒取り、中仕上げ、最終仕
上げ、の3工程を経て鏡面研磨される。しかし、ラッピ
ングマシーンの研磨レートは遅いため、作業時間が長
く、コスト・アップ要因の一つとなっている。
【0004】研磨時間の短縮のためには、研磨レートの
速い横型平面研削盤を用いることも考えられるが、次の
ような問題がある。即ち、横型平面研削盤を使用して磁
気ヘッドにおけるギャップ対向面を研磨すると、この研
削盤の砥石のメッシュが粗い場合には、チッピング、カ
ケ、むしれ等が発生しやすい。これらのチッピング等を
避けるために、前記砥石としてメッシュの細かいものを
用いると、この砥石の目づまりが著しく、この砥石を頻
繁にドレッシングしなければならない。従って、前記ギ
ャップ対向面の研磨に要する作業時間の合計が充分には
短縮されない。このため、従来の磁気ヘッドにおけるギ
ャップ対向面の鏡面研磨では、前記チッピング、カケ、
むしれ等が発生しても、次の研磨工程である中仕上げで
前記チッピング等が除去され得る荒取りでは、横型平面
研削盤を用いることはあっても、中仕上げ以降の工程で
横型平面研削盤を用いることはなかった。ちなみに、ガ
ラスモールドしたコアブロックの研磨では、ガラスが砥
石に埋め込まれやすく、この状態ではチッピング、カ
ケ、むしれ等が多発する。
【0005】一方、砥石のドレッシングに要する作業時
間を短縮するためのものとして、研磨治具に被研磨品と
してのオーディオ用の消去ヘッド及びドレッシング工具
を挿入・固定し、これらの被研磨品及びドレッシング工
具を、回転している研磨砥石の外周面に押し当てるよう
にした研磨装置が知られている(特開昭62-162472号公
報参照)。しかし、この研磨装置では、前記消去ヘッド
をR加工するものであって、この研磨装置により、磁気
ヘッドにおけるギャップ対向面を鏡面研磨することはで
きない。また、この研磨装置は、砥粒固着後のドレッシ
ング工具の全高が被研磨品の研磨加工後の完成寸法と合
致するようにし、被研磨品の研磨加工の後にドレッシン
グ工具によってドレッシングされるので、研磨加工とは
別にドレッシングのみの時間をも必要とし、研磨及びド
レッシングに要する時間を充分に短縮することはできな
い。ちなみに、このものでは、前記ドレッシング工具が
ストッパーとしても作用するので、被研磨品を研磨し過
ぎるということはなくなるが、ドレス材がダイヤモンド
であるため、ドレッシング時の砥石の摩耗量が大きくな
る。
【0006】また、上記研磨装置とは別に、被加工物を
平面研磨するものとして、被加工物である半導体ウェー
ハを保持する貫通孔が穿設された搬送板と、この搬送板
の両面側に配設され、研磨布が固着された一対の定盤と
を備え、この搬送板には前記研磨布をドレッシングする
砥粒層を接着し、研磨加工と同時にドレッシングを行な
う研磨装置も知られている(特開昭61-90868号公報参
照)。このものでは、研磨及びドレッシングに要する時
間を充分に短縮することができる。しかし、この研磨装
置では、前記砥粒層の厚さは、搬送板の厚さと上下両層
の砥粒層の厚さとの和が、ウェーハの厚さとほぽ等しく
なるように設定されているので、前記砥粒層は研磨布に
よって前記ウェーハと同程度摩滅するものでなければな
らない。このため、ウェーハの加工が終わって、次のウ
ェーハを加工しようとするときには、砥粒層をも交換す
る必要がある。ところが、ドレス材としての砥粒層は搬
送板に接着されているので、容易に交換することができ
ず、この交換に手間取り、結果として研磨処理時間が長
くなる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来の
磁気ヘッドにおけるギャップ対向面の鏡面研磨方法で
は、研磨処理時間が長くなり、このため研磨コストとし
ても充分に満足し得るものではなかった。この発明は上
記した課題に鑑み、研磨処理時間を充分に短くすること
ができる磁気ヘッドにおけるギャップ対向面の鏡面研磨
方法及びこの方法に用いる平面研削盤を提供することを
目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決し、前
記目的を達成するためのこの発明の磁気ヘッドにおける
ギャップ対向面の鏡面研磨方法は、磁気ヘッドの製造工
程におけるギャップ対向面の鏡面研磨方法であって、鏡
面研磨に要する荒取り、中仕上げ及び最終仕上げ工程の
うち、荒取り及び中仕上げには、互いに平行な、異なる
軸を中心としてそれぞれ回転する砥石とワーク貼り付け
面盤とを備え、この面盤にワークを固定した状態で前記
面盤と前記砥石とを回転させて前記ワークを研磨する平
面研削盤を用い、トラック幅規制用の溝にガラスがモー
ルドされたコアブロックを前記ワークとして、このコア
ブロックのギャップ対向面を鏡面研磨する方法におい
て、前記工程のうち、少なくとも中仕上げに相当する工
程では、前記ワーク貼り付け面盤に、前記砥石の研磨に
よる摩滅速度が前記ワークと同程度であって、かつ前記
ワークが固定された面からの高さが前記ワークと同程度
になるドレス材をワックスにより固定して、前記ワーク
を研磨することを特徴とするものである。
【0009】また、この方法に用いる平面研削盤は、互
いに平行な、異なる軸を中心としてそれぞれ回転する砥
石とワーク貼り付け面盤とを備え、この面盤にワークを
固定した状態で前記面盤と前記砥石とを回転させて前記
ワークを研磨する平面研削盤において、前記ワーク貼り
付け面盤には、前記ワークを固定する面側に配設され
た、ドレス材を貼り付ける面を有するステージと、この
ステージの前記ワークを固定する面からの高さを可変す
る手段とを設けたことを特徴とするものである。
【0010】
【作用】上記のように、ドレス材をワーク貼り付け面盤
に貼り付けたので、ワークを研磨するのに伴って砥石が
ドレッシングされ、この砥石の目づまりが防止される。
従って、ワークであるコアブロックにチッピング、カ
ケ、むしれ等の生ずることもなく、短時間で磁気ヘッド
におけるギャップ対向面の鏡面研磨ができる。前記ドレ
ス材はワークと同程度に摩滅するので、新たなワークを
研磨する際にドレス材をも交換することにより、上記し
たように研磨作業と同時に砥石がドレッシングされる。
このドレス材はワックスによって前記面盤に貼り付ける
ので、容易に交換することができる。また、上記のよう
に、ステージにドレス材を貼り付け、このステージの高
さを可変することにより、ドレス材を前記ワークの研磨
ごとに新たなものと取り替えなくてもよくなる。
【0011】
【実施例】以下に、この発明の一実施例を図1について
説明する。図1は横型平面研削盤11の概略を示すもの
である。この横型平面研削盤11は周知のように、互い
に平行な異なる軸12,13を中心としてそれぞれ回転
する砥石14とワーク貼り付け面盤15とを備え、この
ワーク貼り付け面盤15にワーク16を固定した状態で
この面盤15と前記砥石14を回転させ、ワーク16を
研磨する。図1(a)では、砥石14がワーク16から
離れている状態が示されているが、研磨作業に際して
は、前記面盤15を砥石14に近付けるように移動す
る。これにより、ワーク16は設定された寸法だけ研磨
される。このワーク16は、図1(b)のように、前記
面盤15の外周付近にリング状に多数配列されている
が、図1(a)では、図面の無用な煩雑さを避けるため
に、2個のワーク16のみ図示した。ちなみに、前記砥
石14の砥石として作用する面は周面に近い部位17の
みである。
【0012】この磁気ヘッドの製造工程におけるギャッ
プ対向面の鏡面研磨方法では、この鏡面研磨に要する
荒、中、及び仕上げ工程のうち、荒取り及び中仕上げに
相当する研磨には、上記の横型平面研削盤11を用い、
前記図2で説明したトラック幅規制用の溝2にガラス3
がモールドされたコアブロック4,5を前記ワーク16
として、このコアブロック4,5のギャップ対向面10
を研磨する。そして、この研磨に際しては、前記ワーク
貼り付け面盤15に、前記砥石14の研磨による摩滅速
度が前記ワーク16と同程度であって、かつ前記ワーク
16と同程度の、前記面盤15からの高さを有するドレ
ス材18をワックスにより貼り付けておく。
【0013】上記のように、ドレス材18をワーク貼り
付け面盤15に貼り付けたので、ワーク16を研磨する
のに伴って砥石14がドレッシングされ、この砥石14
の目づまりが防止される。従って、ワーク16であるコ
アブロック4,5にチッピング、カケ、むしれ等の生ず
ることもなく、従来のように、ラップマシーンを用いて
中仕上げをする場合に比較して鏡面研磨処理に要する時
間が短縮される。上記のようにしてワーク16を研磨
し、次のワークを研磨する際には、ドレス材18をも新
規のものと交換する。上記のドレス材18は、図1に鎖
線18aで示す位置に貼り付けることにより、ワーク1
8と砥石14との接触する時間が増し、少量のドレス材
でより一層のドレス効果が得られる。
【0014】上記実施例では、面盤15におけるワーク
16を貼り付ける面に直接ドレス材18を貼り付けるよ
うにしたが、このドレス材18を貼り付ける部位の面を
前記ワーク16を貼り付ける面よりも高くすることによ
り、ドレス材として比較的高さの低いものを用いること
ができる。また、前記面盤15には、前記ワーク16を
貼り付ける面側に、ドレス材18を貼り付ける面を有す
るステージを配設し、このステージの前記ワークを貼り
付ける面からの高さを可変する手段を設け、このステー
ジの高さを可変することにより、ワーク16の研磨ごと
にドレス材18を新たなものと交換せず、同一のドレス
材によってワーク16の複数回に亘る研磨と同時にドレ
ッシングをすることができるようにすることもできる。
【0015】図3(a)は前記したステージ19を設け
たワーク貼り付け面盤15を示すものであり、このステ
ージ19には図3(b)に示すようにネジ20が固定さ
れていて、このネジ20は面盤15に設けられた雌ネジ
部21に螺合されている。22は止めナットを示す。こ
のステージ19にドレス材18をワックスにより貼り付
け、この状態で前記ネジ20を中心としてステージ19
を回し、ドレス材18の面盤15からの高さをこの面盤
15に固定された前記ワーク16の高さに合わせる。そ
して、このステージ19の位置をナット22によって固
定する。この状態でワーク16を研磨することにより、
前記図1について説明したのと同様にして前記砥石14
がドレッシングされる。
【0016】尚、ドレス材18は前記したようにワック
スにより前記ワーク貼り付け面盤15に直接固定、また
はステージ19を介して固定するので、このドレス材1
8の交換が容易にできる。また、ドレス材18はそのメ
ッシュが砥石14のそれよりも大きいものを使用する
(例えば、砥石メッシュ#2000に対し、ドレス材メッシ
ュ#1000)。ドレス材18の材質は、GCと略称されて
いる緑色炭化珪素質砥粒またはWAと略称されている白
色アルミナ質砥粒などが望ましく、またドレス材18の
硬さは、トラック加工を施しガラスモールドしたコアブ
ロック4,5の研磨としては、結合度がN〜Rのものが
望ましい。
【0017】
【発明の効果】この発明の磁気ヘッドにおけるギャップ
対向面の鏡面研磨方法は、上記したように、荒取り、中
仕上げ、最終仕上げの工程中、荒取りと中仕上げとに相
当する研磨には、平面研削盤を用い、少なくとも中仕上
に相当する研磨では、ワーク貼り付け面盤にドレス材を
貼り付ける。これにより、従来のようにラッピングマシ
ーンを用いて中仕上げをするのに比較して研磨速度が早
くなり、作業時間が大幅に短縮され、かつ目づまりがな
いので、チッピング、カケ、むしれ等の発生もない。そ
して、この発明では、ドレス材をワックスにより面盤に
貼り付けるので、このドレス材の交換が容易である。ち
なみに、横型平面研削盤において、研磨と同時に砥石を
ドレッシングする、電解研磨機能付のものも知られてい
るが、これに用いる電解研磨ユニットは非常に高価であ
る。また、この発明の平面研削盤は、ドレス材を固定す
る面がワークを固定する面に対して高さが可変されるの
で、同一のドレス材を用いて、ワークの複数回に亘る研
磨と同時にドレッシングをすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例を説明するための、横型平
面研削盤の概略図であり、(a)は一部を断面した正面
図、(b)は前記(a)のものの右側面図である。
【図2】一般に知られている磁気ヘッドの製造工程を説
明するための概略斜視図である。
【図3】この発明の他の実施例を説明するための、横型
平面研削盤の要部の概略断面図(a)及びこの平面研削
盤に用いる治具の斜視図(b)である。
【符号の説明】
2 溝 3 ガラス 4,5 コアブロック 10 ギャップ対向面 11 横型平面研削盤 12,13 軸 14 砥石 15 ワーク貼り付け面盤 16 ワーク 18 ドレス材 19 ステージ 20 ネジ 21 雌ネジ部 22 ナット

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 磁気ヘッドの製造工程におけるギャップ
    対向面の鏡面研磨方法であって、 鏡面研磨に要する荒取り、中仕上げ及び最終仕上げ工程
    のうち、荒取り及び中仕上げには、 互いに平行な、異なる軸を中心としてそれぞれ回転する
    砥石とワーク貼り付け面盤とを備え、この面盤にワーク
    を固定した状態で前記面盤と前記砥石とを回転させて前
    記ワークを研磨する平面研削盤を用い、 トラック幅規制用の溝にガラスがモールドされたコアブ
    ロックを前記ワークとして、このコアブロックのギャッ
    プ対向面を鏡面研磨する方法において、 前記工程のうち、少なくとも中仕上げに相当する工程で
    は、前記ワーク貼り付け面盤に、前記砥石の研磨による
    摩滅速度が前記ワークと同程度であって、かつ前記ワー
    クが固定された面からの高さが前記ワークと同程度にな
    るドレス材をワックスにより固定して、前記ワークを研
    磨することを特徴とする磁気ヘッドにおけるギャップ対
    向面の鏡面研磨方法。
  2. 【請求項2】 互いに平行な、異なる軸を中心としてそ
    れぞれ回転する砥石とワーク貼り付け面盤とを備え、こ
    の面盤にワークを固定した状態で前記面盤と前記砥石と
    を回転させて前記ワークを研磨する平面研削盤におい
    て、 前記ワーク貼り付け面盤には、前記ワークを固定する面
    側に配設され、ドレス材を貼り付ける面を有するステー
    ジと、このステージの前記ワークを固定する面からの高
    さを可変する手段とを備えたことを特徴とする平面研削
    盤。
JP19116694A 1994-07-21 1994-07-21 磁気ヘッドにおけるギャップ対向面の鏡面研磨方法及び平面研削盤 Expired - Lifetime JP2916746B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19116694A JP2916746B2 (ja) 1994-07-21 1994-07-21 磁気ヘッドにおけるギャップ対向面の鏡面研磨方法及び平面研削盤

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19116694A JP2916746B2 (ja) 1994-07-21 1994-07-21 磁気ヘッドにおけるギャップ対向面の鏡面研磨方法及び平面研削盤

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0825198A true JPH0825198A (ja) 1996-01-30
JP2916746B2 JP2916746B2 (ja) 1999-07-05

Family

ID=16270004

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19116694A Expired - Lifetime JP2916746B2 (ja) 1994-07-21 1994-07-21 磁気ヘッドにおけるギャップ対向面の鏡面研磨方法及び平面研削盤

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2916746B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011056587A (ja) * 2009-09-07 2011-03-24 Disco Abrasive Syst Ltd 研削方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011056587A (ja) * 2009-09-07 2011-03-24 Disco Abrasive Syst Ltd 研削方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2916746B2 (ja) 1999-07-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0426982B2 (ja)
KR20010030567A (ko) 반도체 웨이퍼의 가공방법
JPH0839410A (ja) レンズ研摩方法と装置
JP7045676B1 (ja) 半導体結晶ウェハの製造装置および製造方法
TW201424938A (zh) 磨石及使用其之研削研磨裝置
JP2000114216A (ja) 半導体ウェーハの製造方法
JP2916746B2 (ja) 磁気ヘッドにおけるギャップ対向面の鏡面研磨方法及び平面研削盤
JPH08197400A (ja) 半導体ウェーハの面取り部研磨方法
JPH11188590A (ja) エッジポリッシング装置
JPH09225510A (ja) ステンレス冷延用圧延ロールの研磨方法
KR101878812B1 (ko) 불규칙한 바닥면을 연마 다듬질하기 위한 연마패드부 및 이를 이용한 바닥면 연마 다듬질 방법
JP2002273657A (ja) Cmp加工用ドレッサ
JPH10249720A (ja) 平板状工作物のポリッシング加工方法
JPH09131654A (ja) 記録媒体用基板の加工方法及び加工砥石
JP2003291069A (ja) 研削盤用の砥石及びこの砥石を使用する研削方法
JP2001191238A (ja) 円盤状工作物の面取り加工方法、面取り用研削砥石車および面取り加工装置
JP3120048B2 (ja) 樹脂フィルムラミネートロールの研磨方法
JP3368928B2 (ja) 押出成形用金型の製造方法
JP7285507B1 (ja) 半導体結晶ウェハの研削加工方法
WO2000024548A1 (fr) Dispositif de polissage et procede de fabrication de semi-conducteurs au moyen dudit dispositif
JPH09174425A (ja) 平面研磨方法
JP4511699B2 (ja) 複合材の研削方法
JPH0230831B2 (ja)
JP3356693B2 (ja) 超精密研削方法および研削装置
JP3743167B2 (ja) ウエーハの外周部を面取りする方法およびウエーハ外周部の面取り装置