JPH116911A - カラーフィルタ基板とその製造方法、及び該基板を用いた液晶素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 インクジェット方式によるカラーフィルタ基
板の製造において、着色部表面の凹凸を低減し、該凹凸
による光の散乱を低減して、カラーフィルタ基板の消偏
性特性、明るさ、色度の向上を図る。 【解決手段】 感光性樹脂組成物からなるインク受容層
３をパターン露光して非着色部５を形成し、未露光部に
インクジェットヘッド６により着色インク７を付与し、
該未露光部を着色した後、該着色部８表面に送風する
か、或いは、真空乾燥を施した後、インク受容層全体を
硬化させてカラーフィルタとする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー表示装置な
どに用いられるカラーフィルタ基板とその製造方法に関
し、特にカラーテレビや車載テレビ、パーソナルコンピ
ュータ、パチンコ遊戯台に使用されるカラー液晶表示装
置に好適なカラーフィルタ基板とその製造方法、さらに
該基板を用いた液晶素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶
用ディスプレイ、とりわけカラー液晶表示装置の需要が
増加している。しかしながら、さらなる普及のために
は、コストダウンと共に、コントラストや色再現性など
の高性能化が必須である。そこで、低コストで高性能の
カラーフィルタの要求を満足するために、従来の染色法
や電着法、顔料分散法の欠点を補うべく、インクジェッ
ト方式によるカラーフィルタの製造方法が提案されてい
る。

【０００３】しかしながら、インクジェット方式におい
ても、ＣＲＴモニターに匹敵する性能が得られていな
い。例えば、コントラストや明るさは、飛躍的な向上が
求められている。このコントラストに関わる消偏性特性
は、顔料分散法が染料を使った染色法に比べて悪いこと
から、顔料粒子や表面形状による光の散乱が大きく影響
していると考えられる。また、光の散乱は、透過光量が
低減するため、同一色度での明るさが十分に得られなく
なる。さらに、散乱の程度によっては、吸光特性が変化
したり、或いは、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の１色
でも前記の如く透過率が低下すると、その合成色の色度
がずれると考えられる。

【０００４】前記インクジェット方式での散乱は、染料
を使っているため、顔料粒子による着色部（フィルタ）
内部のものはなく、着色部表面での散乱が支配的である
と推定される。即ち、上記の如く、着色部の表面での散
乱が、カラーフィルタの性能を大きく左右すると考えら
れるため、散乱の極めて少ないカラーフィルタを安定に
生産できる製造方法が求められている。

【０００５】上記着色部の表面粗さに関して、特開平８
−２７１７２２号公報には、顔料を分散した感光性樹脂
着色層の表面粗さを、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定して
いる中心線平均粗さ値（Ｒａ）で８ｎｍ以下に塗工する
ことが開示されている。この構成により当該カラーフィ
ルタは、感光性樹脂をパターニングする時の紫外線等の
散乱が抑えられて解像度が向上するために、各画素間か
らの光漏れ防止によるコントラスト性能の向上、或い
は、外光による素子の光誤動作防止といった効果が得ら
れる旨、記載されている。しかしながら、上記カラーフ
ィルタは、コントラスト性能が解像度の向上で良くなっ
ても、顔料の粒子径が染料に比べて大きいため、着色部
の表面粗さ（Ｒａ）が４〜８ｎｍしか得られないので、
カラーフィルタの性能を左右する散乱を抑制するには不
十分であった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上記に説明したよう
に、カラーフィルタに重要な、消偏性特性、明るさを向
上し、色度ずれを抑制するためには、着色部の表面粗さ
を極めて小さくして、着色部表面の散乱を抑えることが
課題である。

【０００７】本発明の目的は、着色部の表面粗さを抑え
ることで、該表面における散乱を防止して、消偏性特
性、明るさ、色度（色再現性）に優れたカラーフィルタ
基板を実現し、カラー表示特性に優れた液晶素子を安価
に提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の第一は、透明基
板上に感光性樹脂組成物からなるインク受容層を形成す
る工程と、上記インク受容層をパターン露光してインク
受容性を示す領域と示さない領域を形成する工程と、上
記インク受容層のインク受容性を示す領域にインクジェ
ット方式により着色インクを付与して当該領域を着色す
る工程と、着色部表面に送風する工程と、インク受容層
全体を硬化させる工程と、を有することを特徴とするカ
ラーフィルタ基板の製造方法である。

【０００９】また本発明の第二は、透明基板上に感光性
樹脂組成物からなるインク受容層を形成する工程と、上
記インク受容層をパターン露光してインク受容性を示す
領域と示さない領域を形成する工程と、上記インク受容
層のインク受容性を示す領域にインクジェット方式によ
り着色インクを付与して当該領域を着色する工程と、イ
ンク受容層に真空乾燥を施す工程と、インク受容層全体
を硬化させる工程と、を有することを特徴とするカラー
フィルタ基板の製造方法である。

【００１０】さらに本発明の第三は、透明基板上に所定
のパターン形状の隔壁部を形成する工程と、該隔壁部で
囲まれた領域にインクジェット方式により硬化型樹脂組
成物からなる硬化型インクを付与する工程と、該硬化型
インクの表面に送風する工程と、該硬化型インクを硬化
させる工程と、を有することを特徴とするカラーフィル
タ基板の製造方法である。

【００１１】さらにまた本発明の第四は、透明基板上に
所定のパターン形状の隔壁部を形成する工程と、該隔壁
部で囲まれた領域にインクジェット方式により硬化型樹
脂組成物からなる硬化型インクを付与する工程と、該硬
化型インクに真空乾燥を施す工程と、該硬化型インクを
硬化させる工程と、を有することを特徴とするカラーフ
ィルタ基板の製造方法である。

【００１２】また、本発明の第五は、上記第一〜第四の
いずれかの発明によって製造され、フィルタの表面粗さ
（Ｒａ）が２ｎｍ以下であることを特徴とするカラーフ
ィルタ基板であり、本発明の第六は、上記カラーフィル
タ基板を用いて一方の基板を構成したことを特徴とする
液晶素子である。

【００１３】インクジェット方式によるカラーフィルタ
の製造方法としては、基板上に着色インクを吸収する樹
脂製のインク受容層を形成し、該インク受容層を所望の
色に着色インクで着色する方法と、着色剤と樹脂を含有
した硬化型インクを基板上に直接塗布して硬化させる方
法が有る。これらの方法では、いずれもインクを微細な
パターンに塗布して着色部を形成するため、塗布の安定
性とインクの広がり性、或いはインクの安定性を向上さ
せるために、多量の溶剤や水を含有している。上記着色
インク、硬化型インクに用いられる着色剤は通常染料で
あるため、顔料分散法で発生する顔料粒子による表面の
凹凸は発生しないものの、染料が樹脂に混ざりにくいた
め、染料の凝集により表面に凹凸が発生し易いという問
題がある。

【００１４】このため、インクジェット方式によるカラ
ーフィルタの製造において、着色部表面の凹凸を抑える
ためには、染料とインク受容層を構成している樹脂、ま
たは硬化型インク中の染料と樹脂が十分に混ざった状態
で樹脂を硬化させることが望ましい。本発明において
は、インク受容層に着色インクを付与して着色した後、
及び、硬化型インクを所定の領域に付与した後、上記着
色インク及び硬化型インク表面に送風するか、或いは真
空乾燥を施すことにより、上記インク表面の凹凸を低減
させることができる。その理由は、溶剤や水の揮発状態
を適切且つ安定にできるため、染料の凝集が起こること
なく樹脂を硬化できると推測される。

【００１５】

【発明の実施の形態】

［実施形態１］図１に本発明のカラーフィルタ基板の製
造方法の一実施形態の工程を示す。本実施形態は本発明
第１及び第２の発明の実施形態である。以下、各工程を
詳細に説明する。尚、図１における（ａ）〜（ｆ）は下
記工程−ａ〜ｆに対応する断面模式図である。

【００１６】工程−ａ 透明基板１上に必要に応じてブラックマトリクス２を形
成する。透明基板１としては、一般にガラスが用いられ
るが、カラーフィルタの透明性を損なわず、強度等カラ
ーフィルタ基板の用途に応じた必要特性を有するもので
あれば、プラスチックなどでも良い。また、ブラックマ
トリクス２の膜厚は、当該カラーフィルタ基板を液晶素
子に用いる場合で通常０．１〜０．５μｍであり、基板
１上にクロム等金属をスパッタ法或いは蒸着等により成
膜し、所定の形状にパターニングして形成する。

【００１７】工程−ｂ 次に、透明基板１上に感光性樹脂組成物を用いてインク
受容層３を形成する。本発明において、インク受容層５
を形成する感光性樹脂組成物は、光照射或いは光照射と
熱処理によってインク受容性を発現或いは消失する特性
を有する。具体的には、アクリル系樹脂、エポキシ系樹
脂、アミド系樹脂、フェノール系樹脂、ポリスチレン系
樹脂などが必要に応じて光開始剤（架橋剤）と併せて用
いられる。

【００１８】上記感光性樹脂組成物は、スピンコート、
ロールコート、バーコート、スプレーコート、ディップ
コート等の方法により透明基板１上に塗布し、必要に応
じてプリベークしてインク受容層３とする。

【００１９】インク受容層３の厚さは、本実施形態のカ
ラーフィルタ基板を液晶素子に用いる場合で０．３〜
３．０μｍ程度である。

【００２０】工程−ｃ フォトマスク４を用いて、インク受容層３をパターン露
光し、非着色部５を形成する。本実施形態では露光によ
りインク受容性を消失するタイプについて示すが、露光
によりインク受容性を発現するタイプの樹脂組成物を用
いてインク受容層を形成した場合には、逆のパターンで
露光すれば良い。また、後述する着色インク付与時に隣
接する着色部同士でインクが混じらないように、非着色
部５が撥インク性を発現するような成分をインク受容層
に付与しておくことが好ましい。

【００２１】図１に示したように、非着色部５はブラッ
クマトリクス２に重なる位置に形成され、特に、ブラッ
クマトリクス２の幅よりも狭くなるように形成すること
により、後述する着色部８がブラックマトリクス２と重
なる位置にまで延出して形成され、白抜けが防止され
る。

【００２２】工程−ｄ インクジェットヘッド６よりＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ
（青）の各色の着色インク７をインク受容層３の未露光
部（インク受容性を有する領域）の所定の位置に付与す
る。各未露光部は非着色部５に周囲を囲まれている。

【００２３】本発明においてインクジェット方式として
は、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバ
ブルジェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジ
ェットタイプ等が使用可能であり、着色面積及び着色パ
ターンは任意に設定することができる。

【００２４】本発明において用いられる着色インク７
は、染料を含有し、常温で液体のものに限らず、室温や
それ以下で固化するインクであって、室温で軟化するも
の、もしくは液体であるもの、或いは上述のインクジェ
ット方式ではインク自体を３０℃以上７０℃以下の範囲
内で温度調整を行ってインクの粘性を安定吐出範囲にあ
るように温度制御するものが一般的であるから、上記温
度範囲で液状をなすものが好適に用いられる。

【００２５】工程−ｅ 着色インクによって着色されたインク受容層の着色部８
表面に送風を行なうか、或いは、真空乾燥を施す。送風
を行う場合に、０．１ｍ／ｓｅｃ〜１０ｍ／ｓｅｃの風
速で５秒間〜３０分間の条件で行うことが好ましく、ま
た、真空乾燥の場合には、２０〜９０℃で５秒間〜３０
分間の条件で行うことが好ましい。いずれの場合におい
ても、加熱処理を併用しても良い。当該工程により、着
色部８の表面の表面粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ ０６０１で
規定している中心線平均粗さ値）は２ｎｍ以下にするこ
とができる。

【００２６】上記工程終了後、必要に応じて乾燥工程を
経て、光照射或いは光照射と熱処理によってインク受容
層全体を硬化させる。

【００２７】工程−ｆ 通常、カラーフィルタ上に保護層９を形成する。保護層
９は光硬化型、熱硬化型、或いは熱・光併用硬化型の樹
脂組成物層、或いは蒸着、スパッタ等によって形成され
た無機膜等を用いることができる。いずれの場合もカラ
ーフィルタ基板としての透明性を有し、その後のＩＴＯ
形成工程、配向膜形成工程等に耐えるものであれば使用
することができる。

【００２８】図３に本実施形態のカラーフィルタ基板を
組み込んだＴＦＴカラー液晶素子の一実施形態を示す。
図３において、１２は共通電極、１３は配向膜、３１は
対向基板、３２は画素電極、３３は配向膜、３４は液晶
化合物、３５はスペーサーである。

【００２９】カラー液晶素子は、一般的にカラーフィル
タ基板と対向基板３１を合わせ込み、液晶化合物３４を
封入することにより形成される。液晶素子の一方の基板
３１の内側に、ＴＦＴ（図示しない）と透明な画素電極
３２がマトリクス状に形成される。また、もう一方の基
板１の内側には、画素電極３２に対向する位置に、Ｒ、
Ｇ、Ｂが配列するようにカラーフィルタの着色部８が設
置され、その上に透明な共通電極１２が一面に形成され
る。ブラックマトリクス２は、通常カラーフィルタ基板
側に形成されるが、ＭＢオンアレイタイプの液晶素子に
おいては対向するＴＦＴ基板側に形成される。さらに、
両基板の面内には配向膜１３、３３が形成されており、
これらをラビング処理することにより液晶分子を一定方
向に配列させることができる。これらの基板はスペーサ
ー３５を介して対向配置され、シール材（図示しない）
によって貼り合わされ、その間隙に液晶化合物３４が充
填される。

【００３０】上記液晶素子は、それぞれの基板の外側に
偏光板を接着し、一般的に蛍光灯と散乱板の組み合わせ
たバックライトを用い、液晶化合物をバックライトの光
の透過率を変化させる光シャッターとして機能させるこ
とにより表示を行なう。

【００３１】上記実施形態においてはＴＦＴカラー液晶
素子について説明したが、本発明はこれに限定されるも
のではなく、単純マトリクス型等他の駆動タイプの液晶
素子にも好ましく適用される。

【００３２】また、本発明の液晶素子においては、本発
明のカラーフィルタ基板を用いて構成されていれば、他
の部材については従来の技術をそのまま用いることがで
きる。従って、液晶化合物についても、一般に用いられ
ているＴＮ型液晶や強誘電性液晶等を好適に用いること
ができる。

【００３３】［実施形態２］図２に本発明第３及び第４
の発明のカラーフィルタ基板の製造方法の一実施形態の
工程を示す。以下、各工程を詳細に説明する。尚、図２
における（ａ）〜（ｄ）は下記工程−ａ〜ｄに対応する
断面模式図である。また、実施形態１と同じ部材には同
じ符号を付して説明を省略する。

【００３４】工程−ａ 先ず、透明基板１上に隔壁部を形成する。隔壁部は後述
する硬化型インクを付与した際に、隣接する異なる色の
インクとの混色を避けるための部材であり、本実施形態
では遮光層を兼ねたブラックマトリクス２１とした。ブ
ラックマトリクス２１としては、好ましくは黒色顔料含
有レジストを用い、一般的なフォトリソグラフィ法によ
りパターニングする。該ブラックマトリクス２１は後述
する硬化型インクを付与した際に、隣接する異なるイン
ク同士が混じりあうのを防止するために、好ましくは撥
インク性を付与しておく。本発明においてブラックマト
リクス２１の厚さは上記隔壁作用及び遮光作用を考慮す
ると０．５μｍ以上が好ましい。

【００３５】工程−ｂ 次に、インクジェットヘッド６を用いて、Ｒ、Ｇ、Ｂの
各色の硬化型インク２２をブラックマトリクス２１の開
口部を埋めるように付与する。このＲ、Ｇ、Ｂのパター
ンはいわゆるキャスティングのような形で形成されても
良い。また、ブラックマトリクス２１の上で各色のイン
クが重ならない範囲で硬化型インクが付与されることが
好ましい。

【００３６】本発明で使用される硬化型インクは、硬化
型樹脂組成物からなり、少なくとも染料、エネルギー付
与により硬化する樹脂を含有している。

【００３７】上記染料としては、直接染料、酸性染料、
反応性染料、分散染料、油溶性染料等が挙げられるが、
これらに限定されるものではない。

【００３８】また、エネルギー付与により硬化する樹脂
としては、例えば熱、光、或いは熱と光の併用により硬
化するものが好ましい。具体的には、熱硬化型の化合物
として、公知の樹脂と架橋剤との組み合わせが使用でき
る。例えば、メラミン樹脂、水酸基或いはカルボキシル
基含有ポリマーとメラミン、水酸基或いはカルボキシル
基含有ポリマーと多官能エポキシ化合物、水酸基或いは
カルボキシル基含有ポリマーと繊維素反応型化合物、エ
ポキシ樹脂とレゾール型樹脂、エポキシ樹脂とアミン
類、エポキシ樹脂とカルボン酸又は酸無水物、エポキシ
化合物などが挙げられる。

【００３９】また光硬化型の化合物としては、公知の光
硬化型樹脂、例えば市販のネガ型レジストが好適に用い
られる。

【００４０】上記した化合物は熱或いは光だけでなくこ
れらを併用して硬化させても良い。

【００４１】また、上記硬化型インクには、種々の溶媒
を用いることができる。特にインクジェット方式に用い
る場合の吐出性の面から、水及び水溶性有機溶剤の混合
溶媒が好ましく用いられる。

【００４２】さらに、上記成分の他に必要に応じて所望
の特性を持たせるために、界面活性剤、消泡剤、防腐剤
等を添加することができ、さらに、市販の水溶性染料な
どを添加することもできる。

【００４３】また、上記した光或いは熱硬化型樹脂のう
ち、水或いは水溶性有機溶剤に溶解しないものでも安定
に吐出可能なものであれば、水や水溶性有機溶剤以外の
溶媒を用いても構わない。また、特に光により重合する
タイプの硬化性化合物を用いる場合には、染料をモノマ
ーに溶解した無溶剤タイプとすることもできる。

【００４４】工程−ｃ ブラックマトリクス２１の開口部に付与した硬化型イン
ク２２の表面に送風を行なうか、或いは、真空乾燥を施
す。送風工程及び真空乾燥工程の好ましい条件は、実施
形態１の時と同様である。いずれの場合においても、加
熱処理を併用しても良い。当該工程により、着色部８の
表面の表面粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定して
いる中心線平均粗さ値）は２ｎｍ以下にすることができ
る。

【００４５】上記工程終了後、必要に応じて乾燥工程を
経て、光照射、熱処理等必要な処理を施して硬化型イン
クを硬化させる。

【００４６】工程−ｄ 実施形態１の工程−ｆと同様に、カラーフィルタ２３上
に保護層９を形成する。

【００４７】本実施形態により形成されたカラーフィル
タ基板についても、実施形態１と同様の液晶素子を形成
することが可能である。

【００４８】

【実施例】表面研磨した無アルカリガラスからなるガラ
ス基板上に、クロム薄膜をスパッタリングにより０．２
μｍ厚に形成し、フォトリソグラフィにより開口部を有
する形状にパターニングして、ブラックマトリクスを形
成した。次いで、下記組成からなる感光性樹脂組成物を
スピンコート塗布し、５０℃で１０分間乾燥して１μｍ
厚のインク受容層を形成した。

【００４９】〔感光性樹脂組成物〕 アクリル系共重合体 アクリル酸 ３重量部 メチルメタクリレート ４９重量部 ヒドロキシエチルメタクリレート ２９重量部 Ｎ−メチロールアクリルアミド １９重量部 上記アクリル系共重合体９７重量部にトリフェニルスル
フォニウムヘキサフルオロアンチモネード３重量部を混
合し、該混合物８３重量部にγ−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン１７重量部を混合し、さらに該混合
物１５重量部にエチルセロソルブ８５重量部を加えて感
光性樹脂組成物とした。

【００５０】次いで、ブラックマトリクスの幅よりも狭
い開口部を有するフォトマスクを介して露光を行ない、
ホットプレート上で１２０℃、９０秒間の熱処理を施し
た。

【００５１】さらに、インクジェットヘッドを用いて、
下記に示したＲ、Ｇ、Ｂの各着色インクを所定の未露光
部に付与してＲＧＢのマトリクスパターンを着色した。

【００５２】Ｒインク Ｃ．Ｉ．アシッドレッド １１８ ５重量部 エチレングリコール ２０重量部 イソプロピルアルコール ５重量部 水 ７０重量部

【００５３】Ｇインク Ｃ．Ｉ．アシッドグリーン ２５ ５重量部 エチレングリコール ２０重量部 イソプロピルアルコール ５重量部 水 ７０重量部

【００５４】Ｂインク Ｃ．Ｉ．アシッドブルー １１３ ５重量部 エチレングリコール ２０重量部 イソプロピルアルコール ５重量部 水 ７０重量部

【００５５】次いで、着色部に６０℃で風速６ｍ／ｓｅ
ｃの温風を１０分間吹きかけた。その後、９０℃で１０
分間乾燥を行ない、引き続き２３０℃で３０分間の熱処
理を施し、インク受容層全体を硬化させた。

【００５６】上記カラーフィルタ基板を光学位相差顕微
鏡により観察したところ、着色部表面の凹凸はほとんど
見られなかった。

【００５７】［実施例２］着色部に６０℃の温風を吹き
かける工程の代わりに、基板を真空乾燥機に入れ、数ｍ
ｍＨｇの真空状態で３０分間放置した以外は、実施例１
と同様にしてカラーフィルタ基板を作製した。

【００５８】上記のようにして作製したカラーフィルタ
基板を光学位相差顕微鏡により観察したところ、着色部
表面の凹凸はほとんど見られなかった。また、同様にし
てカラーフィルタ基板を１００枚作製したところ、外観
上の変化はなく、安定に生産できた。

【００５９】［比較例］着色部に６０℃の温風を吹きか
ける工程の代わりに、基板を室温で１０分間放置した以
外は、実施例１と同様にしてカラーフィルタを作製し
た。

【００６０】上記のようにして作製したカラーフィルタ
基板を光学位相差顕微鏡により観察したところ、着色部
表面に凹凸が確認された。

【００６１】以下の表１に実施例１、２及び比較例の評
価結果を示す。

【００６２】

【表１】

【００６３】＊１：タッピングモードＡＦＭ（商品名：
ｄ３０００、ｄｉ社製）で測定（測定エリア：１０μｍ
×１０μｍ）。 ＊２：偏光板（商品名：Ｇ１２２０ＤＵ、日東電工社
製）２枚の間にカラーフィルタ基板を置いて、偏光軸を
直交させた時と平行させた時で６５００Ｋの三波長タイ
プの蛍光管を光源とした時の輝度を測定し、その比をコ
ントラストとした（カラーフィルタなし＝６６００）。
使用したバックライトはＳＬＵ３ＬＣＥＸ４ＵＡ（商品
名、東芝ライテック社製）、色彩輝度計はＭＢ−５Ａ
（商品名、視野角２°、トプコン社製）。 ＊３：分光光度計（商品名：ＯＳＰ２００、オリンパス
社製）で測定。

【００６４】

【発明の効果】以上、本発明によると、表面粗さＲａが
２ｎｍ以下の平滑なカラーフィルタを容易に形成するこ
とができる。従って、カラーフィルタ表面での光の散乱
が大幅に低減し、よって、消偏性特性、明るさが向上
し、色度ずれのない良好なカラーフィルタ基板が安定し
て得られ、カラー表示特性に優れた液晶素子を安価に提
供することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の製造方法の一実施形態の工程図であ
る。

【図２】本発明の製造方法の第二の実施形態の工程図で
ある。

【図３】本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図で
ある。

【符号の説明】

１ 透明基板 ２ ブラックマトリクス ３ インク受容層 ４ フォトマスク ５ 非着色部 ６ インクジェットヘッド ７ 着色インク ８ 着色部 ９ 保護層 １２ 共通電極 １３ 配向膜 ２１ ブラックマトリクス ２２ 硬化型インク ２３ フィルタ ３１ 対向基板 ３２ 画素電極 ３３ 配向膜 ３４ 液晶化合物 ３５ スペーサー

フロントページの続き (72)発明者 岡田 健 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 高尾 英昭 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 中澤 広一郎 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 柏崎 昭夫 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基板上に感光性樹脂組成物からなる
   インク受容層を形成する工程と、上記インク受容層をパ
   ターン露光してインク受容性を示す領域と示さない領域
   を形成する工程と、上記インク受容層のインク受容性を
   示す領域にインクジェット方式により着色インクを付与
   して当該領域を着色する工程と、着色部表面に送風する
   工程と、インク受容層全体を硬化させる工程と、を有す
   ることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
2. 【請求項２】 透明基板上に感光性樹脂組成物からなる
   インク受容層を形成する工程と、上記インク受容層をパ
   ターン露光してインク受容性を示す領域と示さない領域
   を形成する工程と、上記インク受容層のインク受容性を
   示す領域にインクジェット方式により着色インクを付与
   して当該領域を着色する工程と、インク受容層に真空乾
   燥を施す工程と、インク受容層全体を硬化させる工程
   と、を有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製
   造方法。
3. 【請求項３】 透明基板上に所定のパターン形状の隔壁
   部を形成する工程と、該隔壁部で囲まれた領域にインク
   ジェット方式により硬化型樹脂組成物からなる硬化型イ
   ンクを付与する工程と、該硬化型インクの表面に送風す
   る工程と、該硬化型インクを硬化させる工程と、を有す
   ることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
4. 【請求項４】 透明基板上に所定のパターン形状の隔壁
   部を形成する工程と、該隔壁部で囲まれた領域にインク
   ジェット方式により硬化型樹脂組成物からなる硬化型イ
   ンクを付与する工程と、該硬化型インクに真空乾燥を施
   す工程と、該硬化型インクを硬化させる工程と、を有す
   ることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
5. 【請求項５】 請求項１〜４いずれかに記載の製造方法
   によって製造され、フィルタの表面粗さ（Ｒａ）が２ｎ
   ｍ以下であることを特徴とするカラーフィルタ基板。
6. 【請求項６】 カラーフィルタ上に保護層を有する請求
   項５記載のカラーフィルタ基板。
7. 【請求項７】 一対の基板間に液晶を挟持してなり、一
   方の基板が、請求項５または６記載のカラーフィルタ基
   板を用いて構成されていることを特徴とする液晶素子。