JPH1167697A - 半導体ウェハのダイシング方法 - Google Patents

半導体ウェハのダイシング方法

Info

Publication number
JPH1167697A
JPH1167697A JP22216397A JP22216397A JPH1167697A JP H1167697 A JPH1167697 A JP H1167697A JP 22216397 A JP22216397 A JP 22216397A JP 22216397 A JP22216397 A JP 22216397A JP H1167697 A JPH1167697 A JP H1167697A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tape
chip
dicing
chips
semiconductor wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP22216397A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3064979B2 (ja
Inventor
Hideki Mizuno
秀樹 水野
Toru Kitakoga
亨 北古賀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP22216397A priority Critical patent/JP3064979B2/ja
Publication of JPH1167697A publication Critical patent/JPH1167697A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3064979B2 publication Critical patent/JP3064979B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Dicing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 バンプを有するウェハをダイシングしてチッ
プに分離する際に、チッピングの発生やバンプ剥がれを
防止する一方で、チップの隣接間隔を大きくしてハンド
リングを容易にし、かつ無効チップの除去可能とする。 【解決手段】 主面に素子及びバンプ2が形成されたウ
ェハ1の裏面に第1テープ3を貼り付け、かつこれをフ
ルカットダイシングして個々のチップ1A,1Bに分離
した後、有効チップ1Aのみを第1テープ3の裏面から
持ち上げるように第1テープ3を引き伸ばし、その上で
持ち上げられた有効チップ1Aの主面に第2テープ9を
貼り付け、かつ第1テープ3をチップの裏面から引き剥
がす。第2テープ9をチップ主面に貼り付けた後に第1
テープ3を剥がすと、有効チップ1Aのみが第2テープ
9へ移り、チッピングXは第1テープ3に残存され、チ
ッピングを除去できる。また、この第1テープ3の引き
伸ばしによってチップ間の間隔が拡大され、角錐コレッ
ト等によるハンドリングを可能にし、信頼性の高いチッ
プボンディングが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置の製造方
法に関し、特に主面にバンプが付いた半導体チップをフ
ェイスダウンにて実装する半導体装置における半導体ウ
ェハのダイシング方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の半導体装置は、半導体ウェハ(以
下、ウェハと称する)に多数の素子を形成し、これを個
々に分離して半導体のチップを形成し、このチップをリ
ードフレームやパッケージ上に搭載し、所要の電気接続
を行うとともに、樹脂やセラミック等により封止する構
成がとられている。このような半導体装置の製造に際し
ては、前記したウェハを個々のチップに分離するダイシ
ング工程が必要であり、従来では、ウェハの一方の面を
粘着テープに貼り付けておき、ウェハの他方の面からダ
イシングブレードで切断分離する手法がとられている
が、このウェハを貼り付ける面を素子が形成されている
主面側にするか、反対側の裏面側にするかの違いで、異
なる方法が提案されている。
【0003】例えば、特開平4−298063号公報に
よるウェハのダイシング方法では、図4(a)のよう
に、素子が形成されているウェハ101の主面を、フレ
ーム103が貼り付けられたUVテープ102に貼付け
し、ウェハ101の裏面からダイシングプレード103
でフルカットダイシングし、チップ101Aに分離す
る。なお、この分離後は、UVテープ102にUV光を
照射し粘着力を弱めた後に、図4(b)のように、チッ
プエジェクタ105によって実装するチップ101Aを
UVテープ102の下側から突き上げ、上方からビック
アップコレット106でチップ101Aの裏面を吸着す
る。その後、図4(c)のように、ピックアップコレッ
ト106によりチップ101Aをリードフレーム107
上にまで搬送し、リードフレーム107上に押圧して超
音波ボンディング法等によりチップ101Aの主面に形
成されている図外の電極をリードフレーム面に接続す
る。
【0004】しかしながら、このダイシング方法では、
ダイシング時にチップ主面の配線に切削屑が付着するこ
とを防ぐことができないため、電極にバンプを有するチ
ップでは、バンプ剥がれやルーズコンタクトを防ぐこと
ができないという問題がある。すなわち、近年における
移動体通信機器などの民生用電子機器は小型軽量が追求
され、低価格にて市場に提供されている。したがってそ
の内部に実装される半導体装置は小型薄型化とともに経
済性も厳しく要求されている。このように小型薄型化の
半導体装置としてはバンプ(金属バンプ)を用いたフェ
ースダウン構造の半導体装置が好ましい。しかしなが
ら、この種のバンプは、高さ20〜40μm、直径約1
00μmの球状、あるいはタブ状の金属が用いられるた
め、バンプが形成されているウェハの主面側に前記UV
テープを貼り付けてダイシングを行うと、バンプによっ
てできるUVテープとウェハ主面の間の空間にダイシン
グ時の純水が入り込み、同時に細かい切削粒子も入り込
む。また、ダイシング後の乾燥処理において、テープと
チップ主面の間の空間の洗浄と乾燥が充分できないこと
も理由である。さらに、バンプ側にUVテープを貼り付
けてダイシングあるいはチップ背面の角を切削するた
め、チップもしくはテープにダイシングの負荷を掛ける
ので、チップとバンプの界面に応力が働き、チッピング
が生じ易いことにもよる。
【0005】これに対し、特開平4ー58547号公報
によるウェハのダイシング方法では、図5(a)のよう
に、素子が形成されていないウェハ201の裏面を、第
1フレーム203を貼り付けた第1UVテープ202に
貼付け、素子が形成されているウェハ201の主面側か
らダイシングプレード204でウェハ201を全厚さに
わたってフルカットダイシングし、個々のチップ201
Aに分離する。その後、図5(b)のように、ウェハ2
01の主面に第2フレーム206を貼り付けた第2UV
テープ205を貼り付ける一方、ウェハ201の裏面か
らUV光を放射し、第1UVテープ202の粘着力を弱
めた上で図5(c)のようにウェハ201の裏面の第1
UVテープ202を剥がす。次に、図5(d)のよう
に、第2UVテープ205に保持されたウェハ201の
裏面を、刃の厚い第2のダイシングプレード207で削
り取っている。これにより最初のダイシング時に形成さ
れたチップ201Aの裏面に生じるチッピングXを除去
する。
【0006】このダイシング方法では、主面にバンプが
形成されているウェハに適用した場合でも、ダイシング
時にはウェハの主面側が開放されているため、前記した
ようなチップ主面の配線に切削屑が付着することを防止
する上で有効であり、かつバンプ剥がれやルーズコンタ
クトを防ぐ上で有効である。しかしながら、チッピング
がウェハ側に残り易いため、チップを第2のダイシング
ブレードで削り取る工程が必要であり、この第2のダイ
シングブレードによる工程時間が長いために、製造効率
が極めて悪いものとなる。また、前記第1の従来技術と
同様であるが、ウェハの周辺部に存在する素子が形成さ
れていない無効チップがテープ上に残されることになる
ため、後工程においてチップをリードフレーム等に搭載
する際に、有効チップと無効チップを観察しながら区分
けしてチップのハンドリングを行う作業が必要となり、
実装作業が煩雑なものとなり易い。
【0007】そこで、無効チップを除去する技術として
は、特開平3−167839号公報では、図6(a)の
ように、ウェハ301の両面に第1、第2のUVテープ
302,303を貼付け、一方の面、ここでは第2UV
テープ303側からUVテープごとウェハ301をダイ
シングブレード309によりフルカットダイシングし、
個々のチップ301Aに分離する。これにより、ダイシ
ング時の切削屑の飛散を防いでいる。次に、図6(b)
のように、第1、第2マスク304,305を介して第
1、第2紫外線鰐射ランプ306,307からの紫外線
を照射する。これにより、第1UVテープ302のウェ
ハ301の周辺の無効チップ301B部分の粘着力を残
留させ、第2UVテープ303の無効チップ301B部
分の粘着力を低下させる。次に、図6(c)のように、
第2UVテープ303の上から第3テープ308を貼り
付けた上で、この第3テープ308を剥がすと、無効チ
ップ301Bと切断された第2UVテープ303が除去
され、有効チップ301Aが第1UVテープ302に貼
り付けられた状態となる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】この第3の技術では、
前記第1の従来技術と同様に1回のダイシングで済み、
かつ無効チップを取り除くことができるが、第3のテー
プが必要であるために、コスト高になる。また、バンプ
が形成されたウェハの場合には、ウェハの裏面側をダイ
シングしたときには前記第1の従来技術と同様な問題が
生じる。また、ウェハの主面側をダイシングしたときに
はチッピング残りが生じ易く、チップをリードフレーム
等に搭載する際にチッピングが異物となって電気的な短
絡事故を生じる原因となる。さらに、前記各従来技術
は、いずれもダイシングした状態でチップが配列されて
いるため、隣接するチップ間の間隔が狭く、各チップを
角錐コレット等によりハンドリングすることができな
い。したがって、平面コレットによりハンドリングせざ
るを得ず、リードフレーム等への搭載時に超音波ボンデ
ィングを実施することが困難であり、信頼性の高いチッ
プボンディングを行うことが難しいという問題がある。
【0009】本発明の目的は、製造工程を煩雑化するこ
となく、チッピングの発生を防止するとともに、バンプ
剥がれやルーズコンタクトを防ぎ、しかも無効チップを
除去することが可能なダイシング方法を提供することに
ある。また、本発明の目的は、ダイシングされたチップ
の隣接間隔を大きくし、角錐コレット等によるハンドリ
ングを可能にし、信頼性の高いチップボンディングを行
うことを可能にした半導体ウェハのダイシング方法を提
供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、主面に素子及
びバンプが形成されたウェハの裏面に第1テープを貼り
付ける工程と、前記ウェハを前記主面側からフルカット
ダイシングして個々のチップに分離する工程と、分離さ
れたチップのうち有効チップのみを前記第1テープの裏
面から持ち上げるように前記第1テープを引き伸ばす工
程と、前記第1テープの粘着力を低下させる工程と、第
2テープを前記持ち上げられた有効チップの主面に貼り
付ける工程と、前記第1テープを前記各チップの裏面か
ら引き剥がす工程とを含んでいる。
【0011】また、本発明においては、第1テープを引
き伸ばす工程において、断面形状が内周側を頂点とし外
周側に向けて傾斜しており、内周側の項点部がウェハの
中心側に存在する有効チップとウェハの周辺側に存在す
る無効チップとの境界に位置される引伸ばしリングを用
い、この引伸ばしリングを前記第1テープの裏面側から
押圧して第1テープを引伸ばしたときに、前記無効チッ
プが存在する領域の前記第1テープをテープ平面方向に
対して傾斜した状態にすることが好ましい。さらに、第
1テープを引き伸ばす工程において、前記引伸ばしリン
グの外周側よりもさらに外周位置において前記第1テー
プの表面側から押圧するテープ押えリングを用い、この
テープ押さえリングと前記引伸ばしリングとで前記第1
テープの傾斜角度を高めることが好ましい。
【0012】フルカットダイシングされたウェハが貼り
付けられている第1テープを引き伸ばしする際に、ダイ
シングによって生じたチップ背面のチッピングはチップ
から引き離される。このため、第2テープをチップ主面
に貼り付けた後に第1テープを剥がすと、チップのみが
第2テープへ移り、チッピングは第1テープに残存さ
れ、チッピングを除去できる。また、この第1テープの
引き伸ばしによってチップ間の間隔が拡大され、角錐コ
レット等によるハンドリングを可能にし、信頼性の高い
チップボンディングが可能となる。さらに、第1テープ
を引き伸ばす際にテープを傾斜状態にすることで、無効
チップもテープに沿って傾斜状態となり、第2テープに
貼り付けられることがなく、無効チップを自動的に除去
することが可能となる。
【0013】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態を図面を
参照して説明する。図1(a)〜(e)および図2
(a)〜(d)は、本発明の第1の実施形態を工程順に
示す断面図である。先ず、図1(a)のように、多数の
素子が形成され、かつ各素子に対応してそれぞれバンプ
2が形成されたウェハ1を、前記バンプ2が形成されて
いる主面を上にむけ、その反対面である背面を下にして
第1UVテープ3の粘着層の上に貼り付ける。また、前
記UVテープ3の粘着層に対しては、第1フレーム4を
前記ウェハ1のセンタを基準に貼り付ける。この時、第
1フレーム4の外周からはみ出す第1UVテープ3を切
り落とす。次いで、図1(b)のように、前記第1フレ
ーム4で保持された前記ウェハ1と第1UVテープ3を
ダイシング装置(図示せず)のチャッキングテーブル5
上に載せ、高速で回転するダイシングプレード6をウェ
ハ1の主面のダイシングライン(図示せず)に沿って移
動させながら前記ウェハ1をその全厚さにわたってフル
カットダイシングする。このダイシング時は、放熱や切
削屑を除去するため、切削部位に純水を掛けながら行な
う。また図示しないが、ダイシング後に純水で洗浄し、
遠心脱水にて乾燥する。
【0014】次に、図1(c)のように、引伸ばしリン
グ7を前記第1UVテープ3の下側から前記ウェハ1の
下向きの主面側に押し当て、その状態で引伸ばしリング
7を上方に押し上げて第1UVテープ3を引伸ばす。前
記引伸ばしリング7の断面形状は、その外周面7bが上
方から下方に向けて拡径されるように傾斜されており、
内周側の頂点部7aが前記第1UVテープ3の裏面に当
接される。また、引伸ばしリング7の前記項点部7a
は、ウェハ1の外周部の素子が形成されている有効チッ
プ1Aと素子が形成されていいない周辺部の無効チップ
1Bの境界に位置している。これにより、前記したよう
に第1UVテープ3を引伸ばした時に、引伸ばしリング
7の内周から第1フレーム4の下側にかけて第1UVテ
ープ3は断面が斜めになり、ウェハ外周部の無効チップ
1Bはテープ3に沿って斜めな状態になる。また、前記
ダイシングによって個々に分離された各チップの背面角
にチッピングXが生じた場合でも、このチッピングXは
前記第1UVテープ3が引き伸ばされることによって各
チップ1A,1Bから離される。
【0015】次に、図1(d)のように、第1UVテー
プ2aの裏面側から紫外線を席射し、第1UVテープ3
の粘着力を低下させる。続いて、図1(e)のように、
第第2フレーム8を貼り付けた第2UVテープ9の粘着
層側を前記第1UVテープ3上のチップ1Aの主面に当
接し、チップ1Aの主面を第2UVテープ9に貼りつけ
る。このとき、第1UVテープ3と共に斜め状態にされ
ている無効チップ1Bには第2UVテープ9が貼り付け
られることはない。しかる上で、図2(a)のように、
前記第1UVテープ3を剥がす。このとき、前記無効チ
ップ1BとチッピングXは第1UVテープ3に接着され
たまま剥がされることになり、結果として有効チップ1
Aのみが第2UVテープ9側に移される。
【0016】次に、図2(b)のように、第2UVテー
プ9の裏面側から紫外線を照射し、粘着力を弱める。次
いで、図2(c)のように、第2UVテープ9をチップ
ハンドリング位置に設置し、角錐コレット10により第
2UVテープ9上のチップ1Aの背面を真空吸着してハ
ンドリングする。そして、図2(d)のように、前記チ
ップ1Aを、ボンディングステージ12上のリードフレ
ーム11にまで搬送した上でバンプ2によりフェースダ
ウンボンディングを行い、実装する。このとき、超音波
発生装置13により角錐コレット12を振動させ、バン
プの接続を行うことはこれまでと同様である。
【0017】この実施形態では、主面に素子及びバンプ
2が形成されたウェハ1の裏面に第1テープ3を貼り付
け、かつこれをフルカットダイシングして個々のチップ
に分離しているので、バンプ2が形成されたウェハ1の
主面に第1テープ3を貼った状態でダイシングされるこ
とがなく、またダイシング後に改めてチップの裏面側を
切削することがないため、ダイシング時におけるバンプ
2への負担がなく、バンプ剥がれを防ぐことができ、し
かも製造工程の簡略化が可能となる。また、ダイシング
後に、有効チップ1Aのみを第1テープ3の裏面から持
ち上げるように第1テープ3を引き伸ばし、その上で持
ち上げられた有効チップ1Aの主面に第2テープ9を貼
り付け、かつ第1テープ3をチップの裏面から引き剥が
しているので、フルカットダイシングにより形成された
複数のチップ1A,1Bが貼り付けられている第1テー
プ3を引き伸ばしする際に、ダイシングによって生じた
チップ背面のチッピングXはチップ1A,1Bから引き
離され、これを除去することが可能となる。さらに、こ
の第1テープ3の引き伸ばしによってチップ間の間隔が
拡大され、角錐コレット10によるハンドリングを可能
にし、信頼性の高いチップボンディングが可能となる。
【0018】また、第1テープ3を引き伸ばす工程にお
いて、断面形状が内周側の頂点部7aから外周側に向け
た傾斜面7bを有し、かつ前記項点部7aが有効チップ
1Aと無効チップ1Bとの境界に位置されている引伸ば
しリング7を用い、この引伸ばしリング7を第1テープ
3の裏面側から押圧して第1テープ3を引伸ばしたとき
に、無効チップ1Bが存在する領域の前記第1テープ3
をテープ平面方向に対して傾斜した状態にすることによ
り、無効チップ1Bもテープに沿って傾斜状態となり、
第2テープ9に貼り付けられることがなく、無効チップ
1Bを自動的に除去することが可能となる。
【0019】次に、本発明の第2の実施形態を図3を参
照して説明する。図3(a)〜(c)は第2の実施形態
の工程の一部を示す断面図であり、前記第1の実施形態
と等価な部分には同一符号を付してある。この実施形態
では、図3(a)のように、ウェハダイシング後の第1
UVテープ3を引伸ばす工程において、引伸ばしリング
7Aとテープ押さえリング7Bとで第1UVテープ3を
挟み込む構成となっている。前記第1の実施形態と同様
に引伸しリング7Aで第1UVテープ3を引き伸ばした
後、テープ押えリング7Bを第1UVテープ3の反対側
から押圧しでウェハ外周の無効チップ1Bの領域の第1
UVテープ3を斜めの状態とする。前記引伸しリング7
Aの断面形状は、内周部と外周部に凸部7c,7dを有
し外周部の凸部7d厚さは内周部の凸部7cより0.1
〜0.2mm厚くする。したがって、引伸しリング7A
の外周部の凸部7dにて第1UVテープ3を引き伸ばす
ことになる。また、内周部の凸部7cの先端は無効チッ
プ1Bと有効チップ1Aとの境界に位置している。テープ
押えリング7Bは、外径が引伸しリング7Aの外周部の
凸部7dの内側に入り込み、内径が引伸しリング7Aの
内周から充分離れた位置とする。
【0020】その後、第1UVテープ3の裏面側から紫
外線を照射した後、図3(b)のように、第2UVテー
プ9を貼り付け、さらに図3(c)のように第1UVテ
ープ3を剥がすことにより、無効チップ1Bやチッピン
グXは第1UVテープ3に残り、有効チップ1Aのみが
第2UVテープ9に貼り付けられた状態となる。以降の
工程は前記第1の実施形態と同じである。
【0021】この実施形態においても、前記第1の実施
形態と同様に、バンプ剥がれを防止するとともに、工程
の簡略化が実現でき、しかもチッピングを除去するとと
もに、無効チップを自動的に除去することができる。さ
らに、この第2の実施形態では、引伸しリング7aの外
周部を起点として第1UVテープ2aを引伸ばすことに
なるので、引伸し領域を広く取ることができ、引き伸し
の割合が中央部と外周部で比較的均等にでき、チップの
配列も均等にできる。また、テープ押えリング7bに
て、バンプ6が形成されていないウェハ外周部の無効チ
ップ10を充分引き離すことができる利点もある。
【0022】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、主面に素
子及びバンプが形成されたウェハの裏面に第1テープを
貼り付け、かつこれをフルカットダイシングして個々の
チップに分離した後、有効チップのみを第1テープの裏
面から持ち上げるように第1テープを引き伸ばし、その
上で第2テープを持ち上げられた有効チップの主面に貼
り付け、かつ第1テープをチップの裏面から引き剥がし
ているので、フルカットダイシングされたウェハが貼り
付けられている第1テープを引き伸ばしする際に、ダイ
シングによって生じたチップ背面のチッピングはチップ
から引き離される。このため、第2テープをチップ主面
に貼り付けた後に第1テープを剥がすと、チップのみが
第2テープへ移り、チッピングは第1テープに残存さ
れ、チッピングを除去できる。また、この第1テープの
引き伸ばしによってチップ間の間隔が拡大され、角錐コ
レット等によるハンドリングを可能にし、信頼性の高い
チップボンディングが可能となる。
【0023】また、本発明においては、第1テープを引
き伸ばす工程において、断面形状が内周側を頂点とし外
周側に向けて傾斜しており、内周側の項点部がウェハの
中心側に存在する有効チップとウェハの周辺側に存在す
る無効チップとの境界に位置される引伸ばしリングを用
い、この引伸ばしリングを第1テープの裏面側から押圧
して第1テープを引伸ばしたときに、無効チップが存在
する領域の前記第1テープをテープ平面方向に対して傾
斜した状態にすることにより、無効チップもテープに沿
って傾斜状態となり、第2テープに貼り付けられること
がなく、無効チップを自動的に除去することが可能とな
る。
【0024】さらに、本発明では、バンプが形成された
ウェハ主面に第1テープを貼った状態でダイシングされ
ることがなく、またダイシング後に改めてチップの裏面
側を切削することがないため、ダイシング時におけるバ
ンプへの負担がなく、バンプ剥がれを防ぐことができ、
しかも製造工程の簡略化が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体ウェハのダイシング方法を工程
順に示す断面図のその1である。
【図2】本発明の半導体ウェハのダイシング方法を工程
順に示す断面図のその2である。
【図3】本発明の他の実施形態の主要工程を示す断面図
である。
【図4】従来のダイシング方法の第1の方法を工程順に
示す断面図である。
【図5】従来のダイシング方法の第2の方法を工程順に
示す断面図である。
【図6】従来のダイシング方法の第3の方法を工程順に
示す断面図である。
【符号の説明】
1 ウェハ 1A 有効チップ 1B 無効チップ 2 バンプ 3 第1UVテープ 4 第1フレーム 6 ダイシングブレード 7,7A 引伸しリング 7B 押えリング 8 第2フレーム 9 第2UVテープ 10 角錐コレット 11 リードフレーム 13 超音波発生装置

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 主面に素子及びバンプが形成された半導
    体ウェハの裏面に第1テープを貼り付ける工程と、前記
    半導体ウェハを前記主面側からフルカットダイシングし
    て個々のチップに分離する工程と、分離されたチップの
    うち有効チップのみを前記第1テープの裏面から持ち上
    げるように前記第1テープを引き伸ばす工程と、前記第
    1テープの粘着力を低下させる工程と、第2テープを前
    記持ち上げられた有効チップの主面に貼り付ける工程
    と、前記第1テープを前記各チップの裏面から引き剥が
    す工程とを含むことを特徴とする半導体ウェハのダイシ
    ング方法
  2. 【請求項2】 前記第1テープは紫外線照射により粘着
    力を失う粘着層を有し、前記粘着力を低下させる工程
    は、前記第1テープに対して紫外線を照射する工程であ
    る請求項1に記載の半導体ウェハのダイシング方法
  3. 【請求項3】 前記第1テープを引き伸ばす工程におい
    て、断面形状が内周側を頂点とし外周側に向けて傾斜し
    ており、内周側の項点部が前記半導体ウェハの中心側に
    存在する有効チップと半導体ウェハの周辺側に存在する
    無効チップとの境界に位置される引伸ばしリングを用
    い、この引伸ばしリングを前記第1テープの裏面側から
    押圧して第1テープを引伸ばしたときに、前記無効チッ
    プが存在する領域の前記第1テープをテープ平面方向に
    対して傾斜した状態にすることを特徴とする請求項1ま
    たは2に記載の半導体ウェハのダイシング方法。
  4. 【請求項4】 前記第1テープを引き伸ばす工程におい
    て、前記引伸ばしリングの外周側よりもさらに外周位置
    において前記第1テープの表面側から押圧するテープ押
    えリングを用い、このテープ押さえリングと前記引伸ば
    しリングとで前記第1テープの傾斜角度を高めることを
    特徴とする請求項3に記載の半導体ウェハのダイシング
    方法。
  5. 【請求項5】 前記第1テープに対する紫外線の照射
    は、前記引伸ばしリングをマスクとし、この引伸ばしリ
    ングの内周領域に対応する第1テープ領域にのみ照射を
    行う請求項3または4に記載の半導体ウェハのダイシン
    グ方法。
JP22216397A 1997-08-19 1997-08-19 半導体ウェハのダイシング方法 Expired - Fee Related JP3064979B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22216397A JP3064979B2 (ja) 1997-08-19 1997-08-19 半導体ウェハのダイシング方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22216397A JP3064979B2 (ja) 1997-08-19 1997-08-19 半導体ウェハのダイシング方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1167697A true JPH1167697A (ja) 1999-03-09
JP3064979B2 JP3064979B2 (ja) 2000-07-12

Family

ID=16778172

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22216397A Expired - Fee Related JP3064979B2 (ja) 1997-08-19 1997-08-19 半導体ウェハのダイシング方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3064979B2 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001085449A (ja) * 1999-09-10 2001-03-30 Disco Abrasive Syst Ltd Csp基板保持部材及び該csp基板保持部材が載置されるcsp基板用テーブル
JP2006093213A (ja) * 2004-09-21 2006-04-06 Hitachi Chem Co Ltd 接着剤層付き半導体素子の製造方法
WO2007046234A1 (ja) * 2005-10-17 2007-04-26 Lintec Corporation 測定装置
JP2007109869A (ja) * 2005-10-13 2007-04-26 Lintec Corp 転着装置及び転着方法
JP2008028130A (ja) * 2006-07-20 2008-02-07 Lintec Corp 貼替装置および貼替方法
JP2016146413A (ja) * 2015-02-06 2016-08-12 リンテック株式会社 半導体装置の製造方法
JP2018160687A (ja) * 2018-06-21 2018-10-11 株式会社東芝 半導体チップの接合方法及び半導体チップの接合装置
US10847497B2 (en) 2014-10-30 2020-11-24 Kabushiki Kaisha Toshiba Bonding method of semiconductor chip and bonding apparatus of semiconductor chip

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5005904B2 (ja) * 2005-10-04 2012-08-22 リンテック株式会社 転着装置及び転着方法
JP4793981B2 (ja) * 2005-10-04 2011-10-12 リンテック株式会社 エキスパンド装置の制御方法とその制御装置

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001085449A (ja) * 1999-09-10 2001-03-30 Disco Abrasive Syst Ltd Csp基板保持部材及び該csp基板保持部材が載置されるcsp基板用テーブル
JP2006093213A (ja) * 2004-09-21 2006-04-06 Hitachi Chem Co Ltd 接着剤層付き半導体素子の製造方法
JP2007109869A (ja) * 2005-10-13 2007-04-26 Lintec Corp 転着装置及び転着方法
JP4739900B2 (ja) * 2005-10-13 2011-08-03 リンテック株式会社 転着装置及び転着方法
WO2007046234A1 (ja) * 2005-10-17 2007-04-26 Lintec Corporation 測定装置
JP2008028130A (ja) * 2006-07-20 2008-02-07 Lintec Corp 貼替装置および貼替方法
JP4643514B2 (ja) * 2006-07-20 2011-03-02 リンテック株式会社 貼替装置および貼替方法
US10847497B2 (en) 2014-10-30 2020-11-24 Kabushiki Kaisha Toshiba Bonding method of semiconductor chip and bonding apparatus of semiconductor chip
US11018112B2 (en) 2014-10-30 2021-05-25 Kabushiki Kaisha Toshiba Bonding method of semiconductor chip and bonding apparatus of semiconductor chip
JP2016146413A (ja) * 2015-02-06 2016-08-12 リンテック株式会社 半導体装置の製造方法
JP2018160687A (ja) * 2018-06-21 2018-10-11 株式会社東芝 半導体チップの接合方法及び半導体チップの接合装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP3064979B2 (ja) 2000-07-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3976541B2 (ja) 半導体チップの剥離方法及び装置
AU718934B2 (en) Semiconductor device and method for making same
CN1054437C (zh) 微机械器件的制造方法
US20020037631A1 (en) Method for manufacturing semiconductor devices
KR100486290B1 (ko) 반도체 패키지 조립방법 및 반도체 패키지 공정의보호테이프 제거장치
JP2004146727A (ja) ウェーハの搬送方法
JP2001127206A (ja) チップスケールパッケージの製造方法及びicチップの製造方法
JP2001035817A (ja) ウェーハの分割方法及び半導体装置の製造方法
JP3064979B2 (ja) 半導体ウェハのダイシング方法
JP2005032903A (ja) 半導体装置及びその製造方法
KR20040086577A (ko) 반도체장치의 제조방법
JP2007165706A (ja) 半導体集積回路装置の製造方法
JPH09213662A (ja) ウェーハの分割方法及び半導体装置の製造方法
KR100555559B1 (ko) 백 그라인딩 공정용 표면 보호 테이프를 이용하여 다이싱공정을 수행하는 반도체 장치의 제조 방법
JP2001093864A (ja) 半導体ウェーハ固定治具及び半導体装置の製造方法
US7262114B2 (en) Die attaching method of semiconductor chip using warpage prevention material
JP4636096B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
US8580070B2 (en) Method of applying an adhesive layer on thincut semiconductor chips of a semiconductor wafer
JPH0737840A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP2018133497A (ja) 素子チップの製造方法
CN110197794B (zh) 剥离方法
JPH09283469A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH05206267A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH08279478A (ja) 半導体チップ製造方法
JP2019169686A (ja) 素子チップの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees