JPH1166545A

JPH1166545A - ワツクス分散物粒子を使用した透明磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH1166545A
Application number: JP9225996A
Authority: JP
Inventors: Tadahiro Matsunaga; 直裕松永; Masatoshi Nakanishi; 正寿仲西; Hitoshi Ikeda; 仁池田
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1997-08-22
Filing date: 1997-08-22
Publication date: 1999-03-09

Abstract

(57)【要約】【課題】磁気記録層を有する写真用支持体ワックス分散
物を用いることにより、耐傷性、磁気情報エラーのない
ハロゲン化銀写真感光層を有する磁気記録媒体を提供す
る。【解決手段】支持体上に少なくとも１層の磁性粒子を含
む磁気記録層を有する磁気記録媒体において、該磁気記
録層側の少なくともいずれかの同一層内または／及び異
なる層に、平均一次粒径が異なる無機または有機粒子を
２種以上含有し、かつ、該磁気記録層側の少なくともい
ずれかの同一層内または／及び異なる層に、融点が９０
℃以上のワックスの分散物を塗布してなる透明磁気記録
媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、製造適性や安定性
に優れ、搬送・走行安定性、磁気ヘッドの汚れ、磁気情
報の入出力エラーなどに関連する耐傷性が向上する磁気
記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】オーディオテープ、ビデオテープ、フロ
ッピーディスクのような磁気記録媒体の磁気記録層は光
透過性がない。米国特許第５，４９１，０５１号には繰
り返し使用しうる磁気特性及び写真特性の優れた透明磁
気記録層を有する写真要素が記載されている。これらの
要素は製造時のウェブのハンドリング性、カメラ、現像
処理機、磁気入出力機器などでの搬送性、走行性およ
び、製造または利用時の耐傷性の付与のために、支持体
の磁気記録層側に滑り剤を用いる。長鎖の脂肪族炭化水
素基を有するワックスは、優れた滑り性を与えるが、そ
の特性を最大限に発現させるためには溶解、分散、塗布
等の使用法にいくつかの問題点を有していた。ワックス
である高級脂肪酸の誘導体、高級アルコールの誘導体及
び高級炭化水素の塗布方法としては、溶剤に溶解して塗
布する方法、ワックス分散物を塗布する方法があるが、
いずれも乾燥時に加熱されるので、例えば、カルナウバ
ワックスでは、乾燥時または乾燥後に塗布面と接触する
部位たとえばローラーなどにワックスが付着集積し、塗
布面に再転写して面状を悪化させる問題があった。塗膜
の均一性を付与するには分散物を塗布する方法が好まし
い。これはたとえば特開平７−１３３４８８号、同６−
２９３１８８号、同３−２５８３３９号、同３−１９９
２６７号、同１−２２５６８４号に記載されている。し
かし、これらの方法では塗布液中のワックス粒子の分散
安定性は十分でなく凝集沈降を防止しきれない。また磁
気記録情報の入出力などの要求からより高い耐傷性、走
行性、搬送性が要求されており、耐傷性や搬送性は十分
でない。上記耐傷性の問題は、バッキング層に磁気記録
層を有する感光材料を取り扱う上で磁気記録層に情報の
入出力時に大きな問題となるもので、スペースロスに起
因するエラーを発生することである。スペースロスの原
因としては、主にバッキング層に塗設したワックスや磁
気記録層の摩耗粉、感材を取り扱う時に付着するゴミ、
感材屑、雰囲気中のほこり、現像処理液乾固物等が挙げ
られ、これらがフィルム走行時に磁気ヘッド表面に付着
・堆積して汚れることによりフィルムと磁気ヘッドとの
間の空隙を大きくしてスペースロスを生じ、磁気入出力
エラーが発生することが挙げられる。ヘッド表面の汚れ
の蓄積を研磨剤で防止する方法があるが、効果のある量
を入れると透明性の低下、磁気ヘッドの寿命が短くな
る、研磨剤の脱落によるゴミの発生といった問題が生じ
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の目的の
第１は、ワックス含有層塗布時のワックスの製造機から
の再転写による面状の悪化がなく、分散安定性に優れ、
目的の第２は磁気記録層の耐傷性、走行性、搬送性を改
良し、目的の第３は実質的に透明でかつ磁気ヘッドの汚
れを防止して磁気情報の入出力エラーを低減する最適な
表面形状を有する透明磁気記録媒体を提供することであ
る。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
の結果、上記課題は下記の手段によって達成できた。即
ち、（１）支持体上に少なくとも１層の磁性粒子を含む磁気
記録層を有する磁気記録媒体において、該磁気記録層側
の少なくともいずれかの同一層内または／及び異なる層
に、平均一次粒径が異なる無機または有機粒子を２種以
上含有し、かつ、該磁気記録層側の少なくともいずれか
の同一層内または／及び異なる層に、融点が９０℃以上
のワックスの分散物を塗布してなることを特徴とする透
明磁気記録媒体。（２）前記ワックスが主として一般式（Ｉ）、（II）ま
たは(III）で表される１種以上の化合物からなることを
特徴とする（１）に記載の透明磁気記録媒体。一般式（Ｉ）Ｒ₁−Ｘ₁−Ｒ₂ 一般式（II）Ｒ₃−Ｘ₂−Ｒ₄−（Ｘ₃−Ｒ₅）_n 一般式（III) Ｒ₆ＯＢＨ式中、Ｒ₁〜Ｒ₃、Ｒ₅、Ｒ₆は炭素数１０〜７０の置換も
しくは無置換の直鎖、分岐、環状を含む飽和もしくは不
飽和の炭化水素基、Ｒ₄は炭素数１０〜５０の二価以上
の置換もしくは無置換の直鎖、分岐、環状を含む飽和も
しくは不飽和の炭化水素基である。Ｘ₁〜Ｘ₃は−ＣＯＯ
−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯ−であり、
ｎは１以上の整数である。Ｂはポリアルキレンオキサイ
ド鎖である。（３）前記分散物が高圧ホモジナイザーにおいてホモジ
ナイジングチャンバーから処理液吐出口まで閉管であっ
て、ホモジナイジングチャンバー後方に背圧付与装置を
有する装置を用いて調製されることを特徴とする（１）
または（２）に記載の透明磁気記録媒体。（４）該透明磁気記録媒体において、支持体をはさみ該
磁気記録層に対し反対側に少なくとも１層のハロゲン化
銀乳剤層を有することを特徴とする（１）ないし（３）
に記載のハロゲン化銀乳剤層付き透明磁気記録媒体。（５）前記分散物の塗布量が１６mg／m²以上であること
を特徴とする（１）ないし（４）に記載の透明磁気記録
媒体。（６）前記透明磁気記録媒体の２５℃相対湿度６０％、
荷重１６kg／m²下での波長０．５μｍの光学接触面積が
２０％以上８０％以下であることを特徴とする（１）な
いし（５）に記載の透明磁気記録媒体。

【０００５】

【発明の実施の形態】本発明においてはワックスが主と
して高級脂肪酸またはその誘導体、高級アルコールまた
はその誘導体または高級炭化水素から選ばれる１種以上
の化合物からなることが好ましい。融点は９０℃であ
り、好ましくは９５℃以上である。高級脂肪酸の誘導
体、高級脂肪酸の誘導体としては、高級脂肪酸エステ
ル、高級脂肪酸アミド、高級脂肪酸の多価アルコールエ
ステル、高級脂肪酸アルコールの多価脂肪酸エステル
等、高級炭化水素としてはパラフィンワックス、ポリエ
チレンワックス、フィッシャートロプシュワックスなど
があげられる。とくに下記一般式（Ｉ）、（II）または
(III）で表される化合物が好ましい。一般式（Ｉ）Ｒ₁−Ｘ₁−Ｒ₂ 一般式（II）Ｒ₃−Ｘ₂−Ｒ₄−（Ｘ₃−Ｘ₅）_n 一般式（III) Ｒ₆ＯＢＨ式中、Ｒ₁〜Ｒ₃、Ｒ₅、Ｒ₆は炭素数１０〜７０の置換も
しくは無置換の直鎖、分岐、環状を含む飽和もしくは不
飽和の炭化水素基、Ｒ₄は炭素数１０〜５０の二価以上
の置換もしくは無置換の直鎖、分岐、環状を含む飽和も
しくは不飽和の炭化水素基である。Ｘ₁〜Ｘ₃は−ＣＯＯ
−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯ−であり、
ｎは１以上の整数である。Ｂはポリアルキレンオキサイ
ド鎖である。式中、Ｒ₁〜Ｒ₃、Ｒ₅は炭素数１０〜７
０、より好ましくは１５〜５０の置換もしくは無置換の
直鎖、分岐、環状を含む飽和もしくは不飽和の炭化水素
基、Ｒ ₄は炭素数１０〜５０、より好ましくは１２〜２
５の二価以上の置換もしくは無置換の直鎖、分岐、環状
を含む飽和もしくは不飽和の炭化水素基である。ｎは２
以上の整数である。

【０００６】一般式（Ｉ）では総炭素数は２０〜１２０
が好ましい。より好ましくは２５〜１００、さらに好ま
しくは３０〜８０である。一般式（II）では総炭素数は
２０〜１５０が好ましい。より好ましくは４０〜１３
０、さらに好ましくは５０〜１２０である。Ｘ₁〜Ｘ₃は
−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯ−
であり、ＲはＨまたは炭素数８以下のアルキル基を表
す。アルキレンオキサイド鎖としてはエチレンオキサイ
ド、及びプロピレンオキサイドが好ましく、より好まし
くはエチレンオキサイドである。重合度は特に制限はな
いが、１０〜１２０が好ましい。

【０００７】置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキ
シ基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アシルア
ミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、アリール基お
よびアルキル基を挙げることができる。これらの基はさ
らに置換基を有してもよい。好ましい置換基としては、
ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキル
チオ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、ス
ルホニルアミノ基、アシル基およびアルキル基である。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子が好まし
い。アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボ
ニル基のアルキル基は先に説明したＲ₂のアルキル基に
同じである。アシルアミノ基、スルホニルアミノ基のア
ミノ基はＮ置換アミノ基であってもよく、置換基は上記
アルキルが好ましい。アシルアミノ基、アシル基のカル
ボニル基およびスルホニルアミノ基のスルホニル基に結
合する基はアルキル基、アリール基であるが、上記アル
キル基が好ましい。

【０００８】本発明でワックスが主として１種以上の化
合物からなるとは、一般式で表される１種以上の化合物
の総量が７０重量％以上含まれることをさす。ワックス
は、天然物であっても合成物であってもよい。天然物、
あるいは合成物であっても高級脂肪酸やアルコールを原
料とした合成化合物は、炭素数の異なるものや直鎖と分
岐のものを含み、これらの混合物となるが、これらの混
合物を使用することは何等差し支えない。以下に好まし
い一般式（Ｉ）、（II）または(III）で表される化合物
の具体例を示す。

【０００９】 (W-1) C₁₁H₂₃CO₂C₅₀H₁₀₁ 融点 104℃ (W-2) C₃₀H₆₁OOC(CH₂)₁₈CO₂C₃₀H₆₁ 融点 90℃ (W-3) C₃₀H₆₁OOC(CH₂)₁₈CO₂CH₂CH₂C₈F_1７融点 92 ℃(W-4) C₃₀H₆₁OOC(CH₂CH₂O)CH₂CH₂CO₂C₃₁H₆₁ 融点 93 ℃(W-5) CH₃CO₂C₅₀H_1０１融点 91℃(W-6) C₇H₁₅CO₂C₅₀H_1０１融点 104℃(W-7) CH₃CO₂C₄₀H_8１融点 91℃(W-8) C₇H₁₅CO₂C₄₀H_8１融点 93℃(W-9) C₁₁H₂₃CO₂C₄₀H₈₁ 融点 90℃(W-10) C₁₈H₃₇NHCO(CH₂)₁₀CONHC₁₈H₃₇ 融点 130℃(W-11) C₄₀H₈₁OCOCH₂CH₂CO₂H 融点 96℃(W-12) C₄₀H₈₁OCOCH₂CH₂CO(CH₂CH₂O)_4．５H 融点 94℃(W-13) C₄₀H₈₁OCOCH₂CH₂CO₂(CH₂CH₂O)_8.5H 融点 101℃(W-14) C₄₀H₈₁OCOCH₂CH₂CO₂(CH₂CH₂O)_22.5H 融点 97℃(W-15) C₄₀H₈₁OCOCH₂CH₂CO₂(CH(CH₃)CH₂O)_6.5H 融点 91℃

【００１０】 (W-16) C₄₀H₈₁OCOCH₂CH₂CO₂(CH₂CH₂O)_8.5CH₃ 融点 96℃ (W-17) C₃₀H₆₁O(CH₂CH₂O)_2．６H 融点 95 ℃(W-18) C₃₀H₆₁O(CH₂CH₂O)₁₀H 融点 94 ℃(W-19) C₄₀H₈₁O(CH₂CH₂O)₁₃H 融点 100 ℃(W-20) C₅₀H_1０１O(CH₂CH₂O)₄H 融点 1 06℃(W-21) C₅₀H_1０１O(CH₂CH₂O)₁₆H 融点 107℃(W-22) C₅₀H_1０１OCOCH₂CH₂CO₂H 融点 103℃(W-23) C₅₀H_1０１OCOCH₂CH₂CO₂(CH₂CH₂O)_8．５H 融点 103℃(W-24) C₃₀H₆₁OCOCH₂CH₂CO₂(CH₂CH₂O)COCH₂CH₂CO₂C₃₀H_6１融点 93℃(W-25) C₅₀H_1０１CO₂H 融点 109℃(W-26) CH₃(CH₂)₇CHI-CHCl(CH₂)₇CO₂C₄₀H_8１融点 91℃(W-27) C₁₇H₃₅CO₂C₅₀H₁₀₁ 融点 95℃(W-28) C₈H₁₇CH(OH)C₆H₁₂CO₂C₅₀H₁₀₁ 融点 97℃

【００１１】これらの化合物は、例えば、特開昭５８−９０６３３号
に一部記載がある。上記のワックスは単独で用いても混
合して用いても構わない。

【００１２】前述ワックスの粒子は水中もしくは有機溶
剤中で作製することができる。粒子を水中で作製する手
法としては、粒子を構成する成分の融点以上で融解して
水中で乳化する手法、有機溶剤に溶解しておいて水中で
乳化する手法、大きな粒子からボールミル、サンドグラ
インダーで破砕する手法などがあげられる。このような
粒子作製法については、刈米、小石、日高編集、「乳化
・分散技術応用ハンドブック」（サイエンスフォーラム
版）等の成書に記載されている。粒子を有機溶剤中で作
製する方法としては、有機溶剤中で加温溶解し、攪拌し
ながら冷却析出する手法、粒子を構成する成分の融点以
上で融解又は有機溶剤中で加温溶解し、常温または冷却
した有機溶剤を添加して冷却析出させる手法、大きな粒
子からボールミル、サンドグラインダーで破砕していく
手法などがあげられる。本発明での水または有機溶剤中
での粒子作製法としては、有機溶剤中で加温溶解し、常
温または冷却した水または有機溶剤中に添加して冷却析
出させ、超音波分散機、高圧ホモジナイザーで分散する
手法が好ましい。分散に用いる有機溶剤は特に制限はな
いが、ケトン類、アルコール類、エーテルアルコール類
が好ましい。

【００１３】分散媒に水、有機溶剤を用いる場合共に、
ワックス粒子を作成する手法としては、高圧ホモジナイ
ザーを用いることが最も好ましい。特に高圧ホモジナイ
ザーの中でもホモジナイジングチャンバーと処理液吐出
口の間が閉管であって、その間に背圧付与装置を有する
高圧ホモジナイザーが特に好ましい。さらに上記ホモジ
ナイジングチャンバー直前に処理液加熱用の熱交換器を
設置し、ホモジナイジングチャンバーと背圧付与装置の
間に処理液冷却用の熱交換器を設置した高圧ホモジナイ
ザーが本発明の分散機として最も優れる。上述の分散機
を用いることで、処理液中ワックス粒子はホモジナイジ
ングチャンバーの処理直前で融解し、処理される際さら
に発熱するが背圧付与装置により高圧下で冷却されるた
め、処理後に分散液が沸騰することを抑制され安定に微
細なワックス分散物を得ることができる。この装置を用
いてワックス分散物を作成する場合、分散圧力としては
２００から５０００kg／cm²の範囲が好ましく、５００
から１７００kg／cm²の範囲が更に好ましい。分散物中
のワックスの濃度に特に制限はないが、１から４０重量
％の範囲が好ましい。ワックス分散物の粒子サイズに特
に制限はないが、０．００５から５μｍの範囲が好まし
く、さらに好ましくは０．０２以上０．２μｍ未満の範
囲である。

【００１４】次に、バッキング層について説明する。本
発明で言うバッキング層とは、支持体の一方の面に下塗
り層を施した上に少なくとも１層の感光性ハロゲン化銀
乳剤層が設けられた（以下、感光性層と略称する）側と
は支持体を挟んで反対側に設けられた層を総称してバッ
キング層と言う。このバッキング層は感光性層と同様に
下塗り層を設けた上に塗設された層であってもよく、下
塗り層がなく表面処理された支持体上に直接塗設されて
いてもよい。また、下塗り層は支持体とバッキング層の
接着を良化するために２層以上から成っていてもよい。
但し、本発明ではバッキング層というときは、下塗り層
を有していてもこの下塗り層を除いた層を総称して言
う。バッキング層は、感光材料の写真性能に付加して要
求される種々の機能を与えることを主目的として設けら
れる。種々の機能とは、例えば、スタチックマークの発
生防止、感光材料の製造・取り扱い上の接着防止や滑り
性付与、カール防止、支持体側から感光性層に入る不要
な光のカット、さらには感光材料の製造や撮影条件など
の情報を記録する等であり、これらの機能を与えるため
には帯電防止剤、マット剤、滑り剤、カール防止剤、光
吸収剤、フィルター染料、紫外線吸収剤と呼称される化
合物や強磁性体微粒子などが用いられ、これらの化合物
等を担持するためのバインダー、硬化剤、可塑剤、界面
活性剤、塗布助剤等が併せて用いられる。上記の種々の
機能を与えるために設けられるバッキング層は、感光材
料に要求される付加機能に応じて上記のいくつかの化合
物を含有せしめる。これらの化合物は１つの層に含有す
るものであってもよいが、付与する機能に応じて２層以
上とすることが好ましい。また、付与する同一機能の層
を２層以上設けてもよく、付与する機能層の間に中間層
を設けることもできる。

【００１５】本発明のワックスは前記のように水、又は
公知の有機溶剤に分散又は溶解して塗布することができ
る。また、ワックスを皮膜形成能のあるバインダーと塗
布することは、ワックス塗布面状の改良、ワックス含有
層の膜強度アップの点で特に好ましい。バインダーとし
ては、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、放射線硬化
性樹脂、反応性樹脂などを使用することができ、また、
これらを組み合わせて使用してもよい。本発明のワック
ス分散物を含有する層はバッキング層側であればどこに
塗設されていてもよく、特に好ましい添加層は、磁気記
録層、最外層である。本発明のワックスの使用量は、十
分な耐傷性、滑り性を発現するためには２〜１００mg／
m²必要であり、好ましくは１６〜５０mg／m²、特に好ま
しくは１６〜４０mg／m²である。ワックス層はワックス
の融点以上の温度で乾燥または熱処理されることが望ま
しい。本発明の滑り剤により付与されるバッキング層側
の表面の滑り性能は、磁気記録層を有する場合、２５
℃、６０％ＲＨで直径５ｍｍのステンレス球を用いて１
００ｇの荷重で評価した現像処理前後の動摩擦係数が、
ともに０．０３〜０．２０であり、好ましくは０．０４
〜０．１５、更に好ましくは０．０５〜０．１４、特に
好ましくは０．０６〜０．１３である。また、現像処理
前は特に０．０５〜０．１２であることが好ましい。動
摩擦係数が０．２０より大きくなると写真システム走行
時の感材の傷つきが顕著となる。

【００１６】ワックスを分散する溶剤またはワックス含
有層を塗布する溶媒としては水、有機溶剤、水と有機溶
剤の混合液などを用いることができる。有機溶剤として
はアルコール類（メタノール、エタノール、イソプロパ
ノール、ブタノールなど）、ケトン類（アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノンなど）、エステル類（酢酸、蟻酸などのメチル、
エチル、プロピル、ブチルエステルなど）、炭化水素系
（ヘキサン、シクロヘキサンなど）ハロゲン化炭化水素
系（メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素な
ど）、芳香族炭化水素系（ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ベンジルアルコールなど）、アミド系（ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、n-メチルピロリド
ンなど）、エーテル系（ジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラハイドロフランなど）、エーテルアルコール
類（１−メトキシ−２−プロパノールなど）などがあげ
られるが、中でもアルコール類、ケトン類、エステル類
が好ましい。

【００１７】さらに、併用できる好ましい公知の滑り剤
として、市販または合成によって入手可能なシリコーン
系化合物を挙げることができる。シリコーン系化合物と
してはポリオルガノシロキサン類が好ましい。市販のシ
リコーン化合物は、米国Dow Corning社、独国BYK Chemi
e社、信越化学工業（株）、東芝シリコーン（株）、東
レシリコーン（株）、日本ユニカー（株）、チッソ
（株）より種々の構造のものが市販の化成品として販売
されており容易に入手可能である。また、これらの市販
のシリコーンを原料として通常の化学反応により容易に
誘導体化することもできる。これらの滑り剤は組み合わ
せて用いることも好ましい。

【００１８】ワックス含有層には、必要に応じてバイン
ダーを使用しても良い。バインダーとしては、公知の化
合物、例えば、各種ゼラチン類（アルカリ処理、酸処
理、酵素処理、改質（フタル化、コハク化、トリメリト
化等）、変性、特別な分子量分布等のゼラチンなど）、
置換もしくは無置換のセルロース類、天然物のアラビア
ゴム、デキストラン等の親水性バインダーや通常の有機
溶媒に可溶で現像処理液など水に全くまたは殆ど不溶、
かつ、フィルム形成性を有する疎水性バインダー、例え
ば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩
化ビニリデン、ポリアクリロニトリル、ポリ酢酸ビニル
などのホモもしくはコポリマー、セルロースジアセテー
ト、セルローストリアセテート、エチルセルロース、セ
ルロースナイトレート、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、セルロースプロピネートなどのセルロース誘導体、
さらに、ポリビニルアセタール、ポリビニルベンザー
ル、ポリビニルホルマールなどのアセタール類などが挙
げられる。これらは２種以上を混合使用しても良い。

【００１９】本発明では、親水性バインダーとしてはゼ
ラチン類、置換もしくは無置換のセルロース誘導体、特
に置換アルキルセルロース類が、疎水性バインダーとし
てはセルロース誘導体の使用が好ましい。特にヒドロキ
シアルキル（アルキル基は炭素数が１〜５）セルロース
類、セルロースジアセテートの使用が好ましく、ヒドロ
キシアルキル（炭素数が２〜４）セルロースの使用が最
も好ましい。

【００２０】親水性バインダーに使用に際しては、硬膜
剤を用いて水不溶もしくは難溶性にすることが望まし
い。各種ゼラチン類の場合は、公知の硬膜剤を使用する
ことができる。

【００２１】本発明で用いられる無機粒子としては、酸
化アルミニウム（α−アルミナ、γ−アルミナ、コラン
ダム等）、酸化クロム（Cr₂O₃)、酸化鉄（α-Fe₂O₃) 、
シリカ、コロイダルシリカ、二酸化チタン、酸化亜鉛、
酸化錫等の酸化物、シリコンカーバイト（SiC)、炭化珪
素、炭化チタン等の炭化物、ダイヤモンド等の微粉末、
炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、
硫酸ストロンチウムバリウム、マンガンコロイド等が挙
げられる。有機高分子粒子としては、ポリテトラフルオ
ロエチレン、セルロースアセテート、ポリスチレン、ポ
リメチルメタクリレート（PMMA) 、ポリプロピルメタク
リレート、ポリメチルアクリレート、ポリエチレンカー
ボネートなどの樹脂粒子やでんぷん等があり、またそれ
らの粉砕分級物も挙げられる。

【００２２】また、アクリル酸エステル、メタクリル酸
エステル、イタコン酸ジエステル、クロトン酸エステ
ル、マレイン酸ジエステル、フタル酸ジエステル、スチ
レン誘導体、ビニルエステル類、アクリルアミド類、ビ
ニルエーテル類、アリル化合物、ビニルケトン類、ビニ
ル異節環化合物、アリル化合物、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリル、多官能モノマー類、等の単量体の１
種または２種以上の重合体である高分子化合物を種々の
手段、例えば懸濁重合法、スプレードライ法、あるいは
分散法等によって粒子としたものであっても良い。他
に、シロキサン樹脂粒子やベンゾグアナミン樹脂粒子等
がある。

【００２３】これら粒子の本発明の好ましい使用法につ
いて以下に述べる。平均一次粒子径が異なる無機又は／
及び有機高分子粒子を２種類以上、磁気記録層側の少な
くともいずれか１層に含有させることが必要である（同
一素材種で粒径が異なる場合も含む）。その際、少なく
とも一つの粒子の平均一次粒子径が０．２μm 以上１．
０μm 以下、好ましくは０．３〜０．９μm であり、ま
た少なくとも一つの粒子の平均一次粒子径が０．０１μ
m 以上０．２μm 未満であり、好ましくは０．０１５〜
０．１５μm にすることが好ましい。平均一次粒子径が
１．０μを越えると、ハロゲン化銀乳剤層付き透明磁気
記録媒体として使用する場合、表面突起が乳剤層表面を
傷つけたり、粒状性低下といった問題が生ずる可能性が
ある。さらに、表面形状の効果を効率良く発揮させる為
に、最外層側に位置する磁気記録層又は／及び磁気記録
層に隣接する層にこれら粒子を含有させることが特に好
ましい。

【００２４】前記平均一次粒子径の異なる２種類以上の
無機又は／及び有機高分子粒子を含有した透明磁気記録
媒体では、平均一次粒子径が小さい粒子でできた微小突
起が、いわば目の細かい研磨フィルムとして機能するこ
とがわかり、さらに、現像処理を伴うハロゲン化銀乳剤
層を有する透明磁気記録媒体の場合、現像処理液の乾固
物（汚れ）が、磁気記録層側表面にも付着残存するが汚
れ突起を核としてその乾固物に汚れを微小かつ均一に分
散できることがわかった。これら微小粒子でできた微小
突起は大粒子でできる粗大突起間に存在する為、粗大突
起が磁気ヘッドと媒体とのスペースを確保することで、
微細分散した汚れを磁気ヘッドに非常に転写させにく
い、透明磁気記録媒体を実現することができる。また目
の粗い研磨フィルムとして粗大突起は機能することがで
き、目の粗い面と、細かい面とを合わせもつ、非常に磁
気ヘッドクリーニング能の高い透明磁気記録媒体として
も成立することができる。使用する粒子の粒度分布は、
シャープであることが好ましく、平均一次粒子径の大き
な粒子としては粒度分布がシャープなものを得るのが容
易であるPMMA、α−アルミナ、シリカ、又は／及びシロ
キサン粒子が好ましく、平均一次粒子径が小さな粒子と
しては、０．２μm 未満の粒子を得るのが容易である。
α−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、PMMA、シ
リカ、コロイダルシリカ、又は／及び二酸化チタン粒子
が好ましい。但しこの限りではない。上記の中でモース
硬度９のα−アルミナが少なくとも含有されていること
が磁気ヘッドそのものを鏡面に研磨できる点では好まし
い。

【００２５】平均一次粒子径が大きな粒子の具体的な例
としては、以下が挙げられるが、この限りではない。（α−アルミナ）住友化学工業（株）製の「AKP30」「A
KP20」「AKP15」「AKP10」「スミコランダム」「HIT5
0」、レイノルズ（株）製の「ERC-DBM」、ノートン
（株）製「Norton-E600 」（シリカ）日本触媒（株）製の「シーホスタKEP30」
「シーホスタKEP50」「シーホスタKEP70」「シーホスタ
KEP90」「シーホスタKEP100」「シーホスタKEP150」（シロキサン）東芝シリコーン（株）製の「トスパール
105 」「トスパール108 」「XC99-A8808」 (PMMA)綜研化学（株）製の「MX-100」「MX-150」、日本
ペイント（株）製の「P-1430」「P-5000」、また平均一
次粒子径が小さな粒子の具体的な例としては、以下が挙
げられる。

【００２６】（α−アルミナ）住友化学工業（株）製の
「HIT100」「HIT80 」「HIT80G」「AKP80 」「AKP50」（γ−アルミナ）住友化学工業（株）製の「AKP-G015」（θ−アルミナ）住友化学工業（株）製の「AKP-G008」（シリカ）日本触媒（株）製の「シーホスタKEP10 」（コロイダルシリカ）日産化学（株）製の「MEK-ST」
「MLBK-ST 」「メタノールシリカゲル」「MA-ST-M 」
「IPA-ST」（PMMA)綜研化学（株）製の「MS-300K 」「MS-300S
」、日本ペイント（株）製の「P-8000」「S-5001」「S
-5002」「P-5001」「P-5002」これらの粒子の使用量について以下に述べる。平均一次
粒子径の異なる二種類以上の粒子（微小〜大粒子）の合
計は、これらを含有する層の０．１wt％以上５００wt％
以下であることが望ましい。平均一次粒子径の最も大き
な粒子と最も小さな粒子の比は重量比で、大粒子：小粒
子が通常１：０．１〜１：１００、好ましくは１：０．
２〜１：３０、さらに好ましくは１：０．３〜１：１５
である。

【００２７】また、最も平均一次粒子径が小さい粒子
（微小突起を形成する粒子）は、５mg／m²以上５００mg
／m²以下で含有されていることが好ましい。５００mg／
m²を越えると性能改良効果は、すでに充分であるため、
コストの面で好ましくない。一方、５mg／m²を下回ると
磁気入出力性の改善効果が減少する。さらに、平均一次
粒子径が大きい粒子（粗大突起を形成する粒子）は、２
５℃６０％ＲＨ、荷重１６kgf/cm²下での該透明磁気記
録媒体の波長０．５μm での光学接触面積が２０％以上
８０％以下になる様に添加されることが望ましい。（粒
子径や使用量が大きくなると、光学接触面積は減少し、
ヘッドを媒体間のスペーシングが大きくなったことに相
当する。測定法については後述する。）８０％より大き
いと、汚れを磁気ヘッドに転写させない効果が不足して
くるし、２０％より小さいと磁気出力のスペースロス損
失がある程度大きくなり、どちらもあまり好ましくな
い。平均一次粒子径の異なる二種類以上の無機又は／及
び有機高分子粒子は、同一層に含有されても良いし、異
なる別々の層に含有されても構わない。

【００２８】また塗設した層内に存在する粒子（２次粒
子を含む）の９０％以上が１．０μm 以下であることが
好ましい。さらに好ましくは９５％以上１．０μm 以下
である。これは極めて均一に磁気ヘッドに接触できる
上、カレンダリング（鏡面加工）の様な後工程が不要と
なる為である。この様な粒子はそれぞれ単独で／又は複
数で分散スラリー化され、組み込む層の塗布液に添加・
混合されることが塗布液の経時安定性等の処方上の許容
度が広がり好ましい。該無機又は／及び有機高分子粒子
を含有する層の厚みは、その層内で最も平均一次粒子径
が大きい粒子の粒子径の９０％以下であることが突起を
充分に形成する上で好ましく、さらに好ましくは８０％
以下である。

【００２９】また該無機又は／及び有機高分子粒子を含
有する層の塗布液溶剤の一部又は全部を、該層の下層を
溶解できる溶剤にすることで、該粒子含有層を塗布する
際、下層の一部を溶解し粒子を下層の一部に埋めること
ができる。特に該粒子含有層の層厚を極端に薄くする場
合、有効で、その際一つ一つの粒子が体積で３０％以上
埋まっていることが粒子を充分に保持する上で好まし
く、５０％以上がさらに好ましい。本発明に使用する粒
子の屈折率に、特に制限はないが、粒子を含有する層の
屈折率に対してその差が０．０８以下、より好ましくは
０．０４以下、さらに好ましくは０．０２以下であるこ
とが、ヘイズ等の媒体の透明性を良化できる点で望まし
い。

【００３０】特に本発明で好ましい磁気記録媒体とし
て、ハロゲン化銀感光層を含むカラーリバーサルフィル
ムとカラーネガフィルムを挙げることができる。特に一
般用カラーネガフィルムが好ましい。ハロゲン化銀乳剤
は、通常、物理熟成、化学熟成および分光増感を行った
ものを使用する。本発明の効果は、金化合物と含イオウ
化合物で増感した乳剤を使用したときに特に顕著に認め
られる。このような工程で使用される添加剤はリサーチ
・ディスクロージャーNo. １７６４３および同No. １８
７１６に記載されており、その該当箇所を後に挙げた。

【００３１】本発明に使用できる公知の写真用添加剤も
上記の２つのリサーチ・ディスクロージャーに記載され
ており、下記の表に関連する記載箇所を示した。添加剤の種類ＲＤ１７６４３ＲＤ１８７１６１. 化学増感剤２３頁６４８頁右欄２. 感度上昇剤同上３. 分光増感剤、２３〜２４頁６４８頁右欄〜強色増感剤６４９頁右欄４. 増白剤２４頁５. かぶり防止剤、２４〜２５頁６４９頁右欄〜および安定剤６. 光吸収剤、フィ２４〜２５頁６４９頁右欄〜ルター染料、紫６５０頁左欄外線吸収剤７. ステイン防止剤２５頁右欄６５０頁左〜右欄８. 色素画像安定剤２５頁９. 硬膜剤２６頁６５１頁左欄 10. バインダー２６頁同上 11．可塑剤、潤滑剤２７頁６５０頁左欄 12. 塗布助剤、２６〜２７頁６５０頁右欄表面活性剤

【００３２】本発明でＡＰＳ（Advanced Photo System)
カラー感材を内蔵したパトローネの場合、パトローネお
よびパトローネケースに使用されるプラスチックの総重
量は通常１ｇ以上２５ｇ以下、好ましくは５ｇ以上１５
ｇ以下である。ＡＰＳの場合、フィルムのロール幅が２
４mmとなるのでパトローネを小型化できる。本発明のパ
トローネは、その形態について特に限定されない。収納
される写真フィルムは現像前のいわゆる生フィルムでも
よいし、現像処理された写真フィルムでもよい。又、生
フィルムと現像済みの写真フィルムが同じ新パトローネ
に収納されていてもよいし、別のパトローネでもよい。

【００３３】

【実施例】以下に具体例を挙げて本発明を詳しく説明す
るが、本発明の趣旨を越えない限り、実施例に限定され
るものではない。（実施例１）ワックス分散物を以下の様に作成し、粒子
サイズおよび塗布液中のワックス粒子の分散安定性を評
価した。平均粒子サイズは電子顕微鏡で５００個を測定
し算術平均として求めた。液中のワックス粒子の分散安
定性は、塗布液５００ｇを２５℃で３日静置した後、容
器底の粒子の沈降の程度から判断した。沈降物がみられない ◎ わずかに沈降物がみられる ○ 沈降物が堆積層を形成 △ 沈降物が堆積層を形成し、上澄みが透明 × （分散物Ａ）野田セラリカ社製カルナウバＮｏ．１微粉
末（以下カルナウバ微粉末と略）１５０ｇにキシレン１
１５ｇ、シクロヘキサノン３２．０ｇ、１−メトキシ−
２−プロパノール１２．０ｇを添加し、９０℃で溶解し
た。この溶液を、強攪伴したシクロヘキサノン９７５５
ｇの混合液に添加し冷却しながら、添加し、超音波分散
機で処理して、分散液Ａを作成した。

【００３４】（分散液Ａ１）分散液Ａ１００ｇを８３
７ｇのイソプロピルアルコールに添加し、分散液Ａ１を
作成した。（分散液Ａ２）分散液Ａ３００ｇを６３７ｇのイソプ
ロピルアルコールに添加し、分散液Ａ２を作した。（分散液Ａ３）分散液Ａ１４００ｇを背圧付与装置及
び加熱冷却器付き高圧ホモジナイザ（マイクロフルイダ
イザー（みづほ工業社製ＥＨ１１０））を用いて、ホモ
ジナイジングバルブ直前に９５℃に加熱し、１２００kg
／cm²の圧力で処理した後に３０℃に冷却して処理液を
吐出する工程を３回繰り返して分散液Ａ３を作成した。（分散液Ａ４）分散液Ａ２を分散液Ａ３と同様の操作に
より処理し、分散液Ａ４を作成した。

【００３５】（分散液Ｂ、Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４）分
散液Ａ、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４においてカルナバ微粉
末の代わりに下記化合物（ＷＴ）７５ｇ、Ｗ−２１７
５ｇを用いたほかは、同様の操作により分散液Ｂ、Ｂ
１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４を作成した。

【００３６】（分散液Ｃ、Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３、Ｃ４）分
散液Ａ、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４においてカルナバ微粉
末の代わりにＷ−２８７５ｇ、Ｗ−２１７５ｇを用
いたほかは、同様の操作により分散液Ｂ、Ｃ１、Ｃ２、
Ｃ３、Ｃ４を作成した。

【００３７】（分散液Ｄ、Ｄ１、Ｄ３）分散液Ａ、Ａ
１、Ａ３においてカルナバ微粉末の代わりにＷ−２８
１８０ｇ、Ｗ−２１７５ｇを用いたほかは、同様の操
作により分散液Ｄ、Ｄ１、Ｄ３を作成した。

【００３８】結果を表１に示した。本発明の高圧ホモジ
ナイザーを用いると、分散液の濃度を増加させても分散
液の安定性は損なわれない。

【００３９】

【表１】

【００４０】

【化１】

【００４１】実施例２１）第１層及び下塗り層厚さ９０μm のポリエチレンナフタレート支持体につい
て、その各々の両面に、処理雰囲気圧力０．２Torr、雰
囲気気体中のH₂O 分圧７５％、放電周波数３０kHz 、出
力２５００W 、処理強度０．５kV・A ・分／m²でグロー
放電処理を施した。この支持体上に、第１層として下記
組成の塗布液を特公昭５８−４５８９号公報のバー塗布
法を用いて、５cc／m²の塗布量で塗布した。導電性微粒子分散液（SnO₂/Sb₂O₅粒子濃度５０重量部１０％の水分散液、一次粒子径０．００５μm の二次凝集体でその平均粒径が０．０５μm ）ゼラチン０．５重量部水４９重量部ポリグリセロールポリグリシジルエーテル０．１６重量部ポリ（重合度２０）オキシエチレン０．１重量部ソルビタンモノラウレートさらに、第１層を塗設後、直径２０cmのステンレス巻き
芯に巻き付けて、１１０℃（PEN 支持体のTg:119℃）、
４８時間加熱処理し熱履歴させた後、支持体をはさみ第
１層側と反対側に下塗り層として下記組成の塗布液をバ
ー塗布法を用いて、１０cc／m²の塗布量で塗布した。

【００４２】ゼラチン１．０１重量部サリチル酸０．３０重量部レゾルシン０．４０重量部ポリ（重合度１０）オキシエチレンノニルフェニルエーテル０．１１重量部水３．５３重量部メタノール８４．５７重量部ｎ−プロパノール１０．０８重量部さらに、後述する第２、第３を、第１層の上に順に塗設
し、最後に、特開平７−２８７３４５号公報の実施例１
に記載された、カラーネガ感光材料を重層塗布すること
で、ハロゲン化銀乳剤層付き透明磁気記録媒体を作製し
た。

【００４３】２）第２層（透明磁気記録層）磁性体の分散 Co被着γ-Fe₂O₃磁性体（Hc：８３１Oe、σs ：７７．１
emu/ｇ、σr ：３７．４emu/ｇ、Ｓ_BET：３８．７m²／
ｇ）１１００重量部、水２２０重量部及びシランカップ
リング剤〔３−（ポリ（重合度１０）オキシエチニル）
オキシプロピルトリメトキシシラン〕１６５重量部を添
加して、オープンニーダーで３時間良く混練した。この
粗分散した粘性のある液を７０℃で一昼夜乾燥し水を除
去した後、１１０℃、１時間加熱して処理をし、表面処
理をした磁気粒子を作製した。

【００４４】さらに以下の処方で、再びオープンニーダ
ーにて４時間混練した。上記表面処理済み磁気粒子８５５ｇジアセチルセルロース２５．３ｇメチルエチルケトン１３６．３ｇシクロヘキサノン１３６．３ｇ

【００４５】さらに、以下の処方で、サンドミル（１／
４Ｇのサンドミル）にて２０００rpm 、４時間微細分散
した。メディアは１mmφのガラスビーズを用いた。上記混練液４５ｇジアセチルセルロース２３．７ｇメチルエチルケトン１２７．７ｇシクロヘキサノン１２７．７ｇ

【００４６】さらに、以下の処方で、第３層塗布液を作
製した。磁性体含有中間液の作製上記磁性体微細分散液５０．８ｇジアセチルセルロース溶液１９１４．７ｇ（固形分4.5%、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝1/1) これらをディスパーにて攪拌・混合し、「磁性体含有中
間液」を作製した。

【００４７】粒子分散液の作製 (1) トスパール１０５粒子分散液の作製（大粒子）以下の処方にてトスパール１０５粒子分散液を作製した。トスパール１０５（平均一次粒径０．５μm ）１０ｇジアセチルセルロース溶液１９０ｇ（固形分3%、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝1/1) 氷冷・攪拌しながら、超音波ホモジナイザー「SONIFIER
450(BRANSON(株）製）」を用いて１時間分散した。但
し、本発明試料２−Ｇでは、トスパール１０５分散液を
作製する際、ジアセチルセルロース溶液を用いず、メチ
ルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１である、バ
インダーを含まない分散媒にて、１時間分散した。

【００４８】 (2) シーホスタＫＥＰ７０粒子分散液の作製（大粒子）以下の処方にてシーホスタKEP70 粒子分散液を作製した。シーホスタＫＥＰ７０（平均一次粒径０．７μm ）１０ｇジアセチルセルロース溶液１９０ｇ（固形分3%、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝1/1) 氷冷・攪拌しながら、超音波ホモジナイザー「SONIFIER
450(BRANSON(株）製）」を用いて１時間分散した。

【００４９】(3) ＡＫＰ２０粒子分散液の作製（大粒
子）以下の処方にてＡＫＰ２０粒子分散液を作製した。ＡＫＰ２０（平均一次粒径０．６μm ）１０ｇジアセチルセルロース溶液１９０ｇ（固形分3%、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサ
ノン＝1/1)氷冷・攪拌しながら、超音波ホモジナイザー
「SONIFIER450(BRANSON(株）製）」を用いて３時間分散
した。(4) ＨＩＴ１００粒子分散液の作製（微細粒子）以下の処方にて、サンドミル（ベッセル内及び回転ディ
スクがセラミックコートされた１／４Ｇのサンドミル）
にて２０００rpm 、１２時間微細分散した。メディアは
１mmφのジルコニアビーズを用いた。ＨＩＴ１００（α−アルミナ、平均一次粒子径０．１０μm ）３７ｇシランカップリング剤８．４ｇ〔３−（ポリ（重合度１０）オキシエチニル）オキシプロピルトリメトキシシラン〕ジアセチルセルロース溶液３２４．６ｇ（固形分4.5%、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝1/1)

【００５０】(5) コロイダルシリカ粒子分散液（微細粒
子）日産化学（株）製の「ＭＥＫ−シリカゾル」を使用し
た。これは、メチルエチルケトンを分散媒とした、平均
一次粒径０．０１５μm のコロイダルシリカの分散液で
あり、固形分は３０％である。

【００５１】第２層塗布液の作製（比較例１−ア試料）上記磁性体含有中間液３５００ｇトスパール１０５分散液１４７ｇ架橋剤〔１〕：ミリオネートＭＲ−４００８ｇ（日本ポリウレタン（株）製）ＨＩＴ１００分散液１４７ｇメチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇこの塗布液をワイヤーバーにて、塗布量２９．３cc／m²
になるように塗布した。乾燥は１１０℃で行った。この
時、トスパール１０５は５０mg／m²で塗布された。

【００５２】３）第３層第３層塗布液の作製滑り分散原液Ｂ−１４８２ｇに下記の化合物を加え塗
布液とした。下記化合物０．７３ｇ C₆H₁₃CH(OH)C₁₀H₂₀COOC₄₀H₈₁ C₈F₁₇SO₂N(C₃H₇)(CH₂CH₂O)₄-(CH₂)₄SO₃Na ポリエステル変性シリコーン溶液２．８８ｇ（ＢＹＫケミジャパン（株）製、商品名：ＢＹＫ３１０、固形分含量２５％）上記滑り層塗布液を１０．４cc／m²の塗布量で塗布し
た。

【００５３】次に試料の評価について記す。ａ）磁気出入力性能の評価幅２４mm、長さ３００m にスリットした作製試料を、搬
送速度１００mm／secにて、予め６kHz のＦＭ信号にて
磁気記録した。この後、富士写真フイルムのＣＮ−１６
Ｘケミカル処方により現像処理を行った。現像機は富士
写真フイルム（株）製のシネ式自動現像機ＦＮＣＰ−９
００を用いた。現像処理後の試料について、ギャップ５
μm 、巻き数２０００ターンの汎用の磁気再生ヘッドに
て、約９５dBのゲインがあるアンプを用いて記録信号を
再生し、再生信号の一つ一つを以下の様に調べ、磁気入
出力性能の評価を行った。透明磁気記録層側表面に残存
する、現像処理液の乾固物が主成分である汚れが、試料
走行時に、磁気ヘッド表面に転写・蓄積してしまう試料
は、スペースロス損失により信号振幅の大きさが小さく
なり、ドロップアウトの回数が増加することから採用し
た。各々の再生信号（再生出力）の大きさが、磁気ヘッ
ドに汚れの無い場合の理想的な再生信号の大きさに対
し、３５％以下になったとき「ドロップアウト」と定義
し、ドロップアウトが１０回以上の時 ×（Ｎ．Ｇ．）ドロップアウトが５回以上１０回未満の時 △（Ｎ．Ｇ．）ドロップアウトが３回以上５回未満の時〇ドロップアウトが１回以上３回未満の時〇〇ドロップアウトがない時〇〇〇と判定した。

【００５４】ｂ）光学接触面積の測定東洋精機製作所（株）製のマイクロトポグラフを用いて
測定した。測定は２５℃６０％、荷重１６kgf/cm²、測
定波長０．５μm で行った。この測定では、光学的に、
試料表面が平滑であった場合に１００％と計測され、試
料表面が平滑でなくなるに従い、その値は低下する。

【００５５】ｃ）耐傷性の評価現像処理後の感材を温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時
間調湿した後、バッキング層に先端０．２５mmＲのダイ
ヤ針を垂直に当て、連続荷重をかけ、６０cm／分の速度
で引っ掻いた。引っ掻いた後の感材を１６倍に拡大プリ
ントし、画面に引っ掻き傷が見え始めたときの荷重
（ｇ）を引っ掻き強度とした。数値が大きいほど耐傷性
が良好である。ｅ）ローラーへの転写量金属ローラーに試料面を接触させ、５kg／cm²となるよ
うに圧力をかけ、１１０℃で２hr放置後ローラーに転写
したワックスを定量した。

【００５６】（比較例試料１−イ）第３層塗布液に使用
する分散液をＢ２に代える他は、１−アと全く同様に作
成した。これを比較例試料１−イとする。（比較例試料１−ウ）第３層塗布液に使用する分散液を
Ｂ４に代える他は、１−アと全く同様に作成した。これ
を比較例試料１−ウとする。（比較例試料１−エ）第３層塗布液に使用する分散液を
Ｃ４に代える他は、１−アと全く同様に作成した。これ
を比較例試料１−エとする。（本発明試料１−Ａ）第３層塗布液に使用する分散液を
Ｃ４に代える他は、１−アと全く同様に作成した。これ
を本発明試料１−Ａとする。（本発明試料１−Ｂ）第３層塗布液に使用する分散液を
Ｄ３に代える他は、１−アと全く同様に作成した。これ
を本発明試料１−Ｂとする。

【００５７】（比較例試料１−オ）第２層塗布液の処方
を以下に、また第３層塗布液の分散液をＣ−４に代える
以外は、本発明試料１−Ａと全く同様に作製した。これ
を比較例試料１−オとする。上記磁性体含有中間液３５００ｇコロイダルシリカ分散液（固形分３０％）９８ｇ架橋剤〔１〕：ミリオネートＭＲ−400(日本ポリウレタン（株）製）８ｇジアセチルセルロース溶液１４７ｇ（固形分4.5%、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝1/1) メチルエチルケトン４０ｇシクロヘキサノン４０ｇ

【００５８】（本発明試料２−Ａ）第２層塗布液の処方
を以下に代え、さらに第２層と第３層との間に中間層な
る以下の処方の層を１層追加して塗設し、第３層の分散
液をＣ４とする以外は、本発明試料１−Ａと全く同様に
作製した。これを本発明試料２−Ａとする。＜第２層塗布液処方＞上記磁性体含有中間液３５００ｇジアセチルセルロース溶液２９４ｇ（固形分4.5%、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝1/1) 架橋剤〔１〕：ミリオネートＭＲ−400(日本ポリウレタン（株）製）８ｇメチルエチルケトン１５．５ｇシクロヘキサノン１５．５ｇ＜中間層塗布液処方＞ジアセチルセルロース溶液３６ｇ（固形分4.5%、溶媒：メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝1/1) メチルエチルケトン９０９ｇシクロヘキサノン９０９ｇトスパール１０５分散液８７ｇＡＫＰ２０分散液９ｇコロイダルシリカ分散液（固形分３０％）５１ｇこの塗布液をワイヤーバーにて、塗布量１０．４cc／m²
になるように塗布した。乾燥は１１０℃で行った。

【００５９】

【表２】

【００６０】表２よりわかる様に、本発明試料にける、
磁気入出力性能、耐傷性及びローラー転写の改良効果は
顕著であり、確実な磁気入出力性能と透明性を兼ね備え
た優れた透明磁気記録媒体を提供することができる。

【００６１】（その他−本発明試料−その２）前述した
本発明試料すべてにおいて、それぞれ、第２層の磁性体
塗布量を０．６倍にし、乳剤層を反転カラー乳剤層であ
る特開平２−８５４実施例１の試料１０１と同様にし
て、さらに現像処理を特開平２−８５４実施例１に示さ
れるようなカラーリバーサル感材用の現像処理法により
実施する以外は、前述本発明試料とそれぞれ同様に行っ
たところ、全く同じ改良効果（結果）が得られ、磁気入
出力性能が良く製造適性のある、優れたハロゲン化銀乳
剤層付き透明磁気記録媒体が得られた。

【００６２】

【発明の効果】本発明により、確実な磁気入出力性能と
製造適性を兼ね備えた、優れた透明磁気記録媒体を提供
することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＣ１０Ｍ 171/06 Ｃ１０Ｍ 171/06 Ｇ０３Ｃ 1/00 ＧＡＰＧ０３Ｃ 1/00 ＧＡＰＥ 1/76 ５０２ 1/76 ５０２Ｇ１１Ｂ 5/633 Ｇ１１Ｂ 5/633 // Ｃ１０Ｎ 20:00 20:06 40:18

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上に少なくとも１層の磁性粒子を
含む磁気記録層を有する磁気記録媒体において、該磁気
記録層側の少なくともいずれかの同一層内または／及び
異なる層に、平均一次粒径が異なる無機または有機粒子
を２種以上含有し、かつ、該磁気記録層側の少なくとも
いずれかの同一層内または／及び異なる層に、融点が９
０℃以上のワックスの分散物を塗布してなることを特徴
とする透明磁気記録媒体。
【請求項２】前記ワックスが主として一般式（Ｉ）ま
たは（II）で表される１種以上の化合物からなることを
特徴とする請求項１に記載の透明磁気記録媒体。一般式（Ｉ）Ｒ₁−Ｘ₁−Ｒ₂ 一般式（II）Ｒ₃−Ｘ₂−Ｒ₄−（Ｘ₃−Ｒ₅）_n 一般式（III) Ｒ₆ＯＢＨ式中、Ｒ₁〜Ｒ₃、Ｒ₅、Ｒ₆は炭素数１０〜７０の置換も
しくは無置換の直鎖、分岐、環状を含む飽和もしくは不
飽和の炭化水素基、Ｒ₄は炭素数１０〜５０の二価以上
の置換もしくは無置換の直鎖、分岐、環状を含む飽和も
しくは不飽和の炭化水素基である。Ｘ₁〜Ｘ₃は−ＣＯＯ
−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯ−であり、
ｎは１以上の整数である。Ｂはポリアルキレンオキサイ
ド鎖である。
【請求項３】前記分散物が高圧ホモジナイザーにおい
てホモジナイジングチャンバーから処理液吐出口まで閉
管であって、ホモジナイジングチャンバー後方に背圧付
与装置を有する装置を用いて調製されることを特徴とす
る請求項１または２に記載の透明磁気記録媒体。
【請求項４】該透明磁気記録媒体において、支持体を
はさみ該磁気記録層に対し反対側に少なくとも１層のハ
ロゲン化銀乳剤層を有することを特徴とする請求項１な
いし３に記載のハロゲン化銀乳剤層付き透明磁気記録媒
体。
【請求項５】前記分散物の塗布量が１６mg／m²以上で
あることを特徴とする請求項１ないし４に記載の透明磁
気記録媒体。
【請求項６】前記透明磁気記録媒体の２５℃相対湿度
６０％、荷重１６kg／m²下での波長０．５μｍの光学接
触面積が２０％以上８０％以下であることを特徴とする
請求項１ないし５に記載の透明磁気記録媒体。